連続印刷用の飛散防止装置および方法
電子デバイスの基板上に層を液相分配するための装置および方法。吸収材料が、連続印刷操作の間、基板上における印刷材料の飛散を低減または除去する。吸収材料は、新しい表面領域を露出することによって、あるいは、吸収材料を通して印刷材料を真空吸引することによって再生できる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本願は、米国特許法第１１９条（ｅ）項に基づいて、２００８年１２月２７日に出願された米国仮特許出願第６１／１４０，９４４号からの優先権を主張するものであり、この仮特許出願第６１／１４０，９４４号の内容は、その全体が参照によって本願に組み込まれる。
【０００２】
本発明は、一般的には電子デバイスを作製する装置および方法に関する。具体的には、本発明は、液相の印刷材料を連続塗布するための一連のノズルと、基板上における印刷材料の飛散を低減する吸収材料とに関する。
【背景技術】
【０００３】
電子装置における活性有機分子の利用が増大している。この活性有機分子は、エレクトロルミネッセンスを含む電子特性または電気放射特性を有する。有機活性材料を組み込む電子デバイスは電気エネルギーを放射に変換するのに用いることができ、発光ダイオード、発光ダイオードディスプレイまたはダイオードレーザがそれに包含され得る。
【０００４】
有機発光ダイオード（「ＯＬＥＤ」）ディスプレイを作製するには、一般的に、２つの方法が用いられる。すなわち、真空蒸着法および液相処理法である。（後者は、真の溶液または懸濁液のような流体から層を形成するすべての形態を包含する。）真空蒸着設備は、通常、非常に高い投資コストを要し、材料の利用率が劣る（高い運転コスト）ので、特に大面積のディスプレイには液相処理法が好まれる。
【０００５】
有機活性層を堆積させるための液相処理法には、基板上の層の厚さを制御するためのいくつもの技術が包含される。これらの技術のいくつかには、厚さを制御するための自己調整型の方法が包含される。例えば、スピンコーティング、ロッドコーティング、浸漬コーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングまたは印刷、リソグラフィーまたはフレクソグラフィー印刷、スクリーンコーティングなどである。これらの技術以外には、制御された堆積技法を用いて堆積厚さを制御する方式が探索されている。これには、インクジェット印刷、スプレーコーティング、ノズルコーティング、スロットダイコーティング、カーテンコーティング、バーまたはスライドコーティングなどが包含される。
【０００６】
自己調整型の技法はいくつかの欠点を有する。ＯＬＥＤディスプレイをコーティングするのに用いられる流体は、多くの場合、微細構造―すなわち、電極、接点パッド、薄膜トランジスタ、フォトレジストから形成されるピクセルウェル、カソードセパレータ構造など―を有する表面上に塗布される。自己調整型の技法によって堆積される湿式層の一様性は、コーティング間隙とそれによって生じる圧力分布とに依存している。そのため、基板の微細構造における変化によって、湿式コーティング厚さの好ましくない変化がもたらされる。自己調整型の技法は、一般的に、基板に供給される流体のすべてが堆積されるわけではないという点で高い運転コストを余儀なくされる。いくらかの流体は、流体浴に循環される（例えば、浸漬コーティング）か、塗布器に循環される（例えば、ロールコーティングまたはグラビアコーティング）か、浪費される（例えば、スピンコーティング）かのいずれかである。循環される流体から溶媒が蒸発するので、プロセスの安定を維持するために調整が必要である。洗浄材料と、循環および調整材料とがコストに加算される。
【０００７】
制御された技法は低い運転コストをもたらすことができるが、いくつかの場合には、連続印刷によって、指定された基板上の所要の位置以外の箇所に印刷材料の堆積が生じることがある。一態様においては、連続的な液相印刷材料が好ましくない液滴に分裂して、基板上の好ましくない位置に堆積することがあり得る。この欠陥は飛散（ｓｐｌａｔｔｅｒ）と呼称されることが多いが、電子デバイスの性能劣化を惹起する可能性がある。
【０００８】
この問題に対処する先行技術は、余剰の印刷材料をダクトまたはチャンネル内に捕集して、排気空気流れを用いてそれを除去する操作を伴っていたが、この解決策は、飛散欠陥を除去するには非効率であることが分かってきた。別の技法は、ノズルと被印刷表面との間の同じ間隙もしくは距離に捕集表面を保持する方式を採用した。これは、印刷材料の連続的な流れもしくはピラーを維持するが、この解決策は、基板に沿って追加のパスを作るために方向を変える場合のノズルの反転時に、流れの溜りもしくは液滴を発生させる。飛散問題の解決策には、印刷材料のピラーのエーロゾルサイズの液滴への分解を低減または除去する方法、さらに、印刷パスの終端におけるノズル反転時の溜りを除去する方法が包含される。
【０００９】
有機層が不的確に形成されると、通常、デバイスの性能が劣り、デバイス製造プロセスにおける歩留まりが低下する結果が生じる。ＯＬＥＤ塗布用の有機材料の液相堆積のための改良された方法に対する必要性が継続して存在している。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
制御されたコーティング法においては、ノズルに供給されるすべての流体が基板または加工品に塗布される。ノズルと基板との間の相対的な動きによって印刷材料の一様かつ正確な堆積が可能になる。この相対的な動きは、固定された基板上にノズルの組を動かすことによって実現できるが、代わりの方式として、固定されたノズルの組に対して基板を動かす方式、あるいは、基板およびノズルの組の両者が動く組合せ方式によっても実現可能である。上記の方式のいずれにおいても、印刷操作は、パス（ｐａｓｓ）とも呼称される印刷行程であって基板を横断する印刷行程を実行する。この場合、一般的に、第１パスに対して反対向きの第２パスが続けて実行される。このような印刷パスが基板の完成まで継続される。第１パスから第２パスへのこの方向反転によって、印刷材料の基板上への飛散が作り出され、結果として得られる電子デバイスに関する操作上の問題を生じさせる。
【００１１】
ＯＬＥＤディスプレイ製造用の有機層の連続ノズルコーティングは、数１０ナノメートルレベルの厚さの層を生成する。容認し得る層の性能をこのような薄い寸法において作り出すための方法の改善が要求されている。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
少なくとも１つの実施形態は、印刷材料の連続的な流れを基板上に分配することができる一連のノズルを含むノズルアセンブリと、さらに、印刷材料の飛散を低減するための吸収材料と、その吸収材料の吸収能力を再生する装置とを包含する。一連のノズルは少なくとも３個のノズルを含むことができるが、６個、９個、１２個またはそれより多いノズルを含むことも可能である。一実施形態においては、吸収材料は、滑らかな表面または不規則な表面を有することができ、スポンジ、天然繊維、合成繊維および多孔質媒体からなる群から選択できる。一実施形態においては、吸収能力を再生する装置は、吸収材料を動かして追加の表面領域を露出させる回転装置である。一実施形態においては、真空源が、吸収材料を通して（吸収材料によって）印刷材料を吸引して吸収材料を再生する。一実施形態においては、連続流れの分配を第１方向において行い、さらに余剰の印刷材料を吸収材料の上に導き、続いて第２方向において印刷する。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】電子デバイスの図解である。
【図２】本発明の一連のノズルの一実施形態の図解である。
【図３】本発明の隣接吸収材料および真空装置を有する基板を含む別の実施形態の図解である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
有機発光ダイオード（「ＯＬＥＤ」）を含む電子デバイスの１つの例が図１に符号１００として示されている。このデバイスは、アノード層１１０と、バッファ層１２０と、光活性層１３０と、カソード層１５０とを有する。カソード層１５０には、オプションとしての電子注入／輸送層１４０が隣接している。バッファ層１２０および光活性層１３０の間には、オプションとしての正孔注入／輸送層が設けられる（図示なし）。
【００１５】
本明細書で用いる「バッファ層（ｂｕｆｆｅｒ ｌａｙｅｒ）」または「バッファ材料（ｂｕｆｆｅｒ ｍａｔｅｒｉａｌ）」という用語は、導電性または半導電性の材料を意味するものとするが、これは、有機電子デバイスにおいて１つ以上の機能を有することができる。この機能には、下層の平坦化、電荷輸送および／または電荷注入特性、酸素または金属イオンのような不純物の排除、および、有機電子デバイスの性能を促進するまたは改善する他の機能が包含されるが、これに限定されない。バッファ材料は、ポリマー、オリゴマーまたは小分子とすることができ、さらに、溶液、分散系、懸濁液、エマルジョン、コロイド性混合物または他の組成物の形態とすることができる。「正孔輸送（ｈｏｌｅ−ｔｒａｎｓｐｏｒｔ）」という用語は、層、材料、部材または構造について言う場合は、その層、材料、部材または構造の厚さを通過する正電荷の移動を、比較的高い効率でかつ電荷の損失が低い条件において容易にする層、材料、部材または構造のことを意味するものとする。「電子輸送（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｔｒａｎｓｐｏｒｔ）」という用語は、層、材料、部材または構造について言う場合は、負の電荷が、その層、材料、部材または構造を通って他の層、材料、部材または構造に移動するのを促進または容易にする層、材料、部材または構造のことを意味するものとする。「正孔注入（ｈｏｌｅ−ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ）」という用語は、層、材料、部材または構造について言う場合は、その層、材料、部材または構造の厚さを通過する正電荷の注入および移動を、比較的高い効率でかつ電荷の損失が低い条件において容易にする層、材料、部材または構造のことを意味するものとする。「電子注入（ｅｌｅｃｔｒｏｎ−ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ）」という用語は、層、材料、部材または構造について言う場合は、その層、材料、部材または構造の厚さを通過する負の電荷の注入および移動を、比較的高い効率でかつ電荷の損失が低い条件において容易にする層、材料、部材または構造のことを意味するものとする。
【００１６】
このデバイスは、アノード層１１０またはカソード層１５０に隣接させることが可能な支持体または基板（図示なし）を包含することができる。殆どの場合、支持体はアノード層１１０に隣接する。支持体は、柔軟なものまたは剛性のもの、有機または無機のものとすることができる。一般的に、ガラスまたは柔軟な有機膜が支持体として用いられる。アノード層１１０は、カソード層１５０に比べて正孔注入に対してより効率的な電極である。アノードは、金属、混合金属、合金、金属酸化物または混合酸化物を含む材料を包含できる。適切な材料には、第２族の元素（すなわち、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｒａ）の混合酸化物、第１１族の元素、第４、５および６族の元素、並びに第８〜１０族の遷移元素が包含される。アノード層１１０が光透過性であるべきならば、酸化インジウムスズのような第１２、１３および１４族の元素の混合酸化物を用いることができる。本明細書で用いる「混合酸化物（ｍｉｘｅｄ ｏｘｉｄｅ）」という語句は、第２族の元素あるいは第１２、１３または１４族の元素から選択される２つ以上の異なるカチオンを有する酸化物のことを言う。アノード層１１０用の材料の非制限的ないくつかの具体的な例として、酸化インジウムスズ（「ＩＴＯ」）、酸化アルミニウムスズ、金、銀、銅およびニッケルが包含されるが、これに限定されない。アノードは、ポリアニリン、ポリチオフェンまたはポリピロールのような有機材料を含むこともできる。本明細書全体にわたって、ＩＵＰＡＣの番号システムを用いている。すなわち、周期律表の族については、左から右に第１〜１８族として付番されている（「ＣＲＣ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ」、第８１版、２０００年）。
【００１７】
一実施形態において、バッファ層１２０は正孔輸送材料を含む。層１２０用の正孔輸送材料の例は、例えば、「Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」、第４版、１９９６年、第１８巻、ｐ８３７−８６０のＹ．Ｗａｎｇによる記述に要約されている。正孔輸送性の分子およびポリマーの両方を用いることができる。一般的に用いられる正孔輸送性の分子には次のようなものが包含されるが、これに限定されない。すなわち、４，４'，４''−トリス（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）−トリフェニルアミン（ＴＤＡＴＡ）；４，４'，４''−トリス（Ｎ−３−メチルフェニル−Ｎ−フェニルアミノ）−トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）；Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−Ｎ，Ｎ'−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１'−ビフェニル］−４，４'−ジアミン（ＴＰＤ）；１，１−ビス［（ジ−４−トリルアミノ）フェニル］シクロヘキサン（ＴＡＰＣ）；Ｎ，Ｎ'−ビス（４−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ'−ビス（４−エチルフェニル）−［１，１'−（３，３'−ジメチル）ビフェニル］−４，４'−ジアミン（ＥＴＰＤ）；テトラキス−（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−２，５−フェニレンジアミン（ＰＤＡ）；α−フェニル−４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチレン（ＴＰＳ）；ｐ−（ジエチルアミノ）ベンゾアルデヒドジフェニルヒドラゾン（ＤＥＨ）；トリフェニルアミン（ＴＰＡ）；ビス［４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−２−メチルフェニル］（４−メチルフェニル）メタン（ＭＰＭＰ）；１−フェニル−３−［ｐ−（ジエチルアミノ）スチリル］−５−［ｐ−（ジエチルアミノ）フェニル］ピラゾリン（ＰＰＲまたはＤＥＡＳＰ）；１，２−トランス−ビス（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）シクロブタン（ＤＣＺＢ）；Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス（４−メチルフェニル）−（１，１'−ビフェニル）−４，４'−ジアミン（ＴＴＢ）；Ｎ，Ｎ'−ビス（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ'−ビス（フェニル）ベンジジン（α−ＮＰＢ）；および、フタロシアニン銅のようなポルフィリン化合物、である。一般的に用いられる正孔輸送性のポリマーには、ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン−コ−Ｎ−（４−ブチルフェニル）ジフェニルアミン）など、ポリビニルカルバゾール、（フェニルメチル）ポリシラン、ポリ（ジオキシチオフェン）、ポリアニリン、およびポリピロールが包含されるが、これに限定されない。上記のような正孔輸送性分子を、ポリスチレンおよびポリカーボネートのようなポリマーにドープすることによって、正孔輸送性のポリマーを得ることも可能である。
【００１８】
光活性層１３０は、通常、任意の有機エレクトロルミネッセンス（「ＥＬ」）材料とすることができる。この材料には、小分子の有機蛍光化合物、蛍光性およびリン光性の金属錯体、共役ポリマー、およびこれらの混合物が包含されるが、これに限定されない。蛍光化合物の例としては、ピレン、ペリレン、ルブレン、クマリン、これらの誘導体、およびこれらの混合物が包含されるが、これに限定されない。金属錯体の例としては、トリス（８−ヒドロキシキノラート）アルミニウム（Ａｌｑ３）のような金属キレート化オキシノイド化合物と、イリジウムのフェニルピリジン配位子、フェニルキノリン配位子またはフェニルピリミジン配位子との錯体のようなシクロメタル化イリジウムおよび白金エレクトロルミネッセンス性化合物であって、Ｐｅｔｒｏｖらに付与された米国特許第６，６７０，６４５号明細書、および公刊されたＰＣＴ出願の国際公開第０３／０６３５５５号パンフレットおよび同第２００４／０１６７１０号パンフレットに開示されている化合物と、例えば、公刊されたＰＣＴ出願の国際公開第０３／００８４２４号パンフレット、同第０３／０９１６８８号パンフレットおよび同第０３／０４０２５７号パンフレットに開示されている有機金属錯体と、これらの混合物とが包含されるが、これに限定されない。電荷担持ホスト材料および金属錯体を含むエレクトロルミネッセンス性の放出層は、Ｔｈｏｍｐｓｏｎらによって米国特許第６，３０３，２３８号明細書において、および、ＢｕｒｒｏｗｓおよびＴｈｏｍｐｓｏｎによって公刊されたＰＣＴ出願の国際公開第００／７０６５５号パンフレットおよび同第０１／４１５１２号パンフレットにおいて記述されている。共役ポリマーの例としては、ポリ（フェニレンビニレン）、ポリフルオレン、ポリ（スピロビフルオレン）、ポリチオフェン、ポリ（ｐ−フェニレン）、これらのコポリマー、およびこれらの混合物が包含されるが、これに限定されない。
【００１９】
選択される特定の材料は、具体的な用途、運転中に使用される可能性、または他の因子によって変わることがあり得る。エレクトロルミネッセンス性の有機材料を含むＥＬ層１３０は、液相処理法を包含するいくつもの技法を用いて塗布できる。別の実施形態においては、ＥＬポリマーの前駆体を塗布して、続いて、通常熱または他の外部エネルギー源（例えば、可視光またはＵＶ放射）によってそれをポリマーに転化することが可能である。
【００２０】
オプションとしての層１４０は、電子の注入／輸送の両者を容易にするように機能することが可能であり、層の界面におけるクエンチ反応を防ぐための閉じ込め層としても作用し得る。より具体的には、層１４０は、電子の動きを促進して、層１３０および１５０が層１４０なしに直接接触していると生じる可能性があるクエンチ反応を低減することができる。オプションとしての層１４０用の材料の例として次のようなものが包含されるが、これに限定されない。すなわち、トリス（８−ヒドロキシキノラート）アルミニウム（Ａｌｑ３）、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（パラフェニルフェノラート）アルミニウム（ＩＩＩ）（ＢＡｌＱ）およびテトラキス−（８−ヒドロキシキノラート）ジルコニウム（ＩＶ）（ＺｒＱ）のような金属キレート化オキシノイド化合物；２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）、３−（４−ビフェニリル）−４−フェニル−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）および１，３，５−トリ（フェニル−２−ベンゾイミダゾール）ベンゼン（ＴＰＢＩ）のようなアゾール化合物；２，３−ビス（４−フルオロフェニル）キノキサリンのようなキノキサリン誘導体；４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリン（ＤＰＡ）および２，９−ジメチル−４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリン（ＤＤＰＡ）のようなフェナントロリン；およびこれらの混合物である。代替的に、オプションとしての層１４０を無機のものとしてもよく、ＢａＯ、ＬｉＦ、Ｌｉ2Ｏなどがこれに含まれる。
【００２１】
カソード層１５０は、電子または負の電荷の担体の注入に対して特に効率的な電極である。カソード層１５０は、第１の電気接点層（この場合アノード層１１０）よりも低い仕事関数を有する任意の金属または非金属とすることが可能である。本明細書で用いる「より低い仕事関数（ｌｏｗｅｒ ｗｏｒｋ ｆｕｎｃｔｉｏｎ）」という用語は、約４．４ｅＶ以下の仕事関数を有する材料を意味するものとし、本明細書で用いる「より高い仕事関数（ｈｉｇｈｅｒ ｗｏｒｋ ｆｕｎｃｔｉｏｎ）」という用語は、少なくとも約４．４ｅＶの仕事関数を有する材料を意味するものとする。
【００２２】
カソード層用の材料は、第１族のアルカリ金属（例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ）、第２族の金属（例えば、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａなど）、第１２族の金属、ランタニド（例えば、Ｃｅ、Ｓｍ、Ｅｕなど）、およびアクチニド（例えば、Ｔｈ、Ｕなど）から選択できる。アルミニウム、インジウム、イットリウム、およびこれらの組合せのような材料も使用することができる。カソード層１５０用の材料の非制限的な具体例として、バリウム、リチウム、セリウム、セシウム、ユーロピウム、ルビジウム、イットリウム、マグネシウム、サマリウム、および、これらの合金および組合せが包含されるが、これに限定されない。
【００２３】
他の実施形態においては、有機電子デバイスの内部に、１つまたは複数の追加の層が存在することができる。例えば、バッファ層１２０およびＥＬ層１３０の間の層（図示なし）は、正電荷の輸送、層のエネルギー準位のマッチング、保護層としての機能などを促進することができる。同様に、ＥＬ層１３０およびカソード層１５０の間の付加層（図示なし）は、負電荷の輸送、層間のエネルギー準位のマッチング、保護層としての機能などを促進することができる。当分野で知られている層を利用することが可能である。さらに、上記の層の任意の層を２つ以上の層から構成することが可能である。また代替的に、無機アノード層１１０、バッファ層１２０、ＥＬ層１３０、およびカソード層１５０のいくつかまたはすべてを、電荷担体の輸送効率を高めるために表面処理することができる。各構成要素の層に対する材料の選択は、高いデバイス効率を有するデバイスを供給するという目標と、製造コスト、製造の複雑さ、あるいは他の潜在的な因子とを比較考量することにより決定することができる。
【００２４】
種々の層は任意の適切な厚さを有することができる。一実施形態においては、無機アノード層１１０は通常約５００ｎｍ以下、例えば約１０〜２００ｎｍであり、バッファ層１２０は通常約２５０ｎｍ以下、例えば約５０〜２００ｎｍであり、ＥＬ層１３０は通常約１００ｎｍ以下、例えば約５０〜８０ｎｍであり、オプションとしての層１４０は通常約１００ｎｍ以下、例えば約２０〜８０ｎｍであり、カソード層１５０は通常約１００ｎｍ以下、例えば約１〜５０ｎｍである。アノード層１１０またはカソード層１５０が、少なくともいくらかの光を透過する必要がある場合は、これらの層の厚さは約１００ｎｍを超える必要はない。
【００２５】
有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）においては、それぞれカソード層１５０およびアノード層１１０からＥＬ層１３０に注入される電子および正孔が、ポリマー中に負および正に荷電された極性イオンを形成する。この極性イオンは、印加された電界の影響の下に移動して、逆に荷電された化学種と極性イオン励起子を形成し、引き続いて放射再結合を受ける。通常約１２ボルト未満、多くの例では約５ボルト以下のアノードおよびカソード間の十分な電位差をデバイスに印加することができる。実際の電位差は、より大きな電子部品におけるデバイスの使用に応じて変化する可能性がある。多くの実施形態において、アノード層１１０は正電圧にバイアスをかけられ、カソード層１５０は、電子デバイスの運転中、実質的に接地電位またはゼロボルトにある。バッテリまたは他の電源を回路の一部として電子デバイスに電気接続してもよいが、これは図１には示されていない。
【００２６】
図２は、一連のノズル２００の一実施形態を示す。流入口２０２は、印刷材料（図示なし）を、少なくとも３個のノズル２０６ａ、２０６ｂおよび２０６ｃを有するノズル構造体２０４に導く。ノズル構造体２０４は、６個、９個、１２個または所要ノズルの任意の系列を含むことができる。吸収材料２０８が、余剰の印刷材料（図示なし）を吸収するように各ノズル２０６に隣接して配置される。吸収材料２０８は、セラミック、金属、プラスチックまたは天然産品ベースの多孔質媒体を包含するいくつもある吸収材料から構成することができる。多孔質媒体は５〜５００μｍの細孔サイズを含む。一実施形態においては、多孔質媒体をステンレス鋼または多孔質プラスチックとすることができる。吸収材料２０８は、可動アーム２１０上に配置することが可能であり、第１印刷パス後にかつ第２印刷パスの開始の前に、ノズル２０６からの流出物を吸収する機能を有する。
【００２７】
図３は、基板３０２に隣接して配置される吸収材料２０８を有する構造３００の一実施形態を示す。ノズル構造体２０４（図３には示していない）は、第１方向３０４において印刷パスを作り出すことができ、方向を反転して、第２印刷パスを第２方向３０６に作り出すことができる。印刷材料のピラーは、ノズル２０６から基板３０２までの間隙を方向反転の間一定に保持することによって維持される。吸収材料２０８は、追加の表面領域を露出させるように、回転装置２１０によって駆動できる。一実施形態においては、先に吸収された印刷材料を除去することによって吸収材料２０８を再生するために、真空源３０８を使用できる。
【００２８】
以上の実施形態における印刷材料は、バッファ層、電荷ブロック層、電荷注入層、電荷輸送層、エレクトロルミネッセンス層、またはこれらの組合せとすることができる。印刷材料は、液体および固体材料を含み、溶液、懸濁液、分散系、エマルジョン、コロイド性混合物、または他の組成物を生成する。液体は、本明細書において以下に述べるように有機溶媒または水とすることができる。固体は、バッファ層１２０、ＥＬ層１３０、あるいはオプションとしての層１４０において使用される任意の１つ以上の材料である。
【００２９】
別の実施形態においては、液体混合物が５センチポアズ以下の粘度を有する。さらに別の実施形態においては、液体混合物が液体の溶媒を包含し、その場合、この液体の溶媒は２種以上の溶媒を包含することができる。さらに別の実施形態においては、少なくとも１つの溶媒は水である。
【００３０】
付加的な機器がノズル構造体２０４の範囲内に存在してもよいし、あるいは、それをノズル構造体２０４と共に用いることができる。このような付加的な機器として、液相混合物を形成するいくつもの構成成分を受け入れるための、容器と、ノズル構造体２０４に流体連結される供給ラインとが包含される。さらに他の機器として、１つ以上のステップモータ、ポンプ、フィルタ、制御電子装置、他の電気的、機械的または電気機械的アセンブリまたはサブアセンブリ、設備接続器具、あるいは、これらの任意の組合せが包含され得る。
【００３１】
３．液体組成物
一連のノズル２００は、液体溶液を包含する種々の異なる材料の堆積用として用いることが可能である。以下の段落は、使用し得る材料のすべてではなくいくつかのみを包含する。一実施形態においては、電子デバイス内部の有機層用の１つ以上の材料が、一連のノズル２００を用いて形成される。
【００３２】
一連のノズル２００は、液体組成物の印刷用としてよく適している。一連のノズル２００は、従来型のインクジェットプリンタに比べて、使用し得る操作パラメータおよび液体組成物の範囲が拡大される。一実施形態においては、１つ以上のパラメータが液体組成物の流れの特性に影響を及ぼす可能性がある。粘度は流れの特性に影響し得る１つのパラメータである。粘度は、液体媒体の選択、液体媒体内の固形分含有量、液体組成物の温度、または可能性のある１つ以上の他の因子、またはこれらの任意の組合せによって影響を受ける可能性がある。また、粘度は、温度によって直接的に（液体媒体の粘度は温度の低下と共に増大し、温度の上昇と共に低下する）、あるいは、液体組成物内の液体媒体の蒸発速度を変化させること（すなわち、より低沸点またはより高沸点の液体媒体の使用、液体組成物の温度の変化、またはこれらの組合せ）によって間接的に影響を受ける可能性がある。当業者は、本明細書を読了後、液体媒体のきわめて大きな選択範囲、使用される液体組成物の固形分濃度の大きな範囲、またはこれらの組合せを可能にする多くの異なる方法を有していることを理解するであろう。
【００３３】
液体混合物は、溶液、分散系、エマルジョンまたは懸濁液の形態にすることができる。以下の段落においては、固体材料および液体媒体の非制限的な例を述べる。固体材料は、結果的に形成される層に関する電子的特性または電気放射特性に基づいて選択できる。液体媒体は、本明細書において以下に記述する基準に基づいて選択できる。
【００３４】
一連のノズル２００を用いる場合は、液体組成物は、閉塞に関する懸念の必要なしに、約２．０重量パーセントより多い固形分を有することができる。一実施形態においては、固形分含有量は約２．０〜３．０重量パーセントの範囲にある。従って、一連のノズル２００は、従来型のインクジェットプリンタに比べて、より高い粘度またはより低い沸点を有する液体組成物を用いることができる。さらに、一連のノズル２００は、従来型のインクジェットプリンタに比べて、より低い粘度またはより高い沸点を有する液体組成物を用いることができる。またさらに、液体組成物内の液体媒体は印刷前に脱気する必要はない。例えば、水溶液中の導電性有機材料を塗布処理するのに用いられる従来型のインクジェットプリンタの場合は、水性溶媒を脱気する必要がある。しかし、一連のノズル２００はより大きな処理上の余裕を有しているので、一連のノズル２００の適正な操作のために液体媒体を脱気する必要はない。
【００３５】
一連のノズル２００を用いて印刷される有機層には、有機活性層（例えば、放射放出有機活性層または放射応答有機活性層）、フィルタ層、バッファ層、電荷注入層、電荷輸送層、電荷ブロック層、またはこれらの任意の組合せが包含され得る。有機層は、抵抗器、トランジスタ、キャパシタ、ダイオードなどの一部として用いることができる。
【００３６】
放射放出有機活性層については、適切な放射放出材料として、１つ以上の小分子材料、１つ以上のポリマー材料、またはこれらの組合せが包含される。小分子材料には、例えば、米国特許第４，３５６，４２９号（「Ｔａｎｇ」）明細書、同第４，５３９，５０７号（「Ｖａｎ Ｓｌｙｋｅ」）明細書、米国特許出願公開第２００２／０１２１６３８号（「Ｇｒｕｓｈｉｎ」）明細書、または米国特許第６，４５９，１９９号（「城戸」）明細書に記載される材料の任意の１つ以上の材料が包含され得る。また、小分子材料の代わりのポリマー材料には、米国特許第５，２４７，１９０号（「Ｆｒｉｅｎｄ」）明細書、同第５，４０８，１０９号（「Ｈｅｅｇｅｒ」）明細書、または同第５，３１７，１６９号（「中野」）明細書に記載される材料の任意の１つ以上の材料が包含され得る。１つの典型的な材料種は半導電性の共役ポリマーであり、このようなポリマーの例として、ポリ（パラフェニレンビニレン）（ＰＰＶ）、ＰＰＶのコポリマー、ポリフルオレン、ポリフェニレン、ポリアセチレン、ポリアルキルチオフェン、ポリ（ｎ−ビニルカルバゾール）（ＰＶＫ）などが包含される。１つの特定の実施形態においては、いかなるゲスト材料も含まない放射放出活性層が青色の光を放出することができる。
【００３７】
放射応答有機活性層については、適切な放射応答材料として、共役ポリマーまたはエレクトロルミネッセンス材料が包含され得る。このような材料には、例えば、共役ポリマー、または、エレクトロルミネッセンス性およびフォトルミネッセンス性の材料が包含される。具体的な例として、ポリ（２−メトキシ，５−（２−エチルヘキシルオキシ）−１，４−フェニレンビニレン）（「ＭＥＨ−ＰＰＶ」）、または、ＣＮ−ＰＰＶを含むＭＥＨ−ＰＰＶ組成物が包含される。
【００３８】
正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、またはこれらの任意の組合せについては、適切な材料として、ポリアニリン（「ＰＡＮＩ」）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（「ＰＥＤＯＴ」）、ポリピロール、例えばテトラチアフルバレンテトラシアノキノジメタン（「ＴＴＦ−ＴＣＱＮ」）のような有機電荷移動化合物、「城戸」に記載されるような正孔輸送材料、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００３９】
電子注入層、電子輸送層、正孔ブロック層、またはこれらの任意の組合せについては、適切な材料として次のようなものが包含される。すなわち、金属キレート化オキシノイド化合物（例えば、Ａｌｑ3、またはアルミニウム（ＩＩＩ）ビス（２−メチル−８−キノリナート）４−フェニルフェノレート）（「ＢＡｌｑ」））；フェナントロリンベースの化合物（例えば、２，９−ジメチル−４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリン（「ＤＤＰＡ」）または９，１０−ジフェニルアントラセンス（「ＤＰＡ」））；アゾール化合物（例えば、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−５−ビフェニル−１，３，４−オキサジアゾール（「ＰＢＤ」）または３−（４−ビフェニル）−４−フェニル−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール（「ＴＡＺ」））；「城戸」に記載されるような電子輸送材料；ジフェニルアントラセン誘導体；ジナフチルアントラセン誘導体；４，４−ビス（２，２−ジフェニルエテン−１−イル）−ビフェニル（「ＤＰＶＢＩ」）；９，１０−ジ−ベータ−ナフチルアントラセン；９，１０−ジ−（ナフェンチル）アントラセン；９，１０−ジ−（２−ナフチル）アントラセン（「ＡＤＮ」）；４，４’−ビス（カルバゾール−９−イル）ビフェニル（「ＣＢＰ」）；９，１０−ビス−［４−（２，２−ジフェニルビニル）−フェニル］−アントラセン（「ＢＤＰＶＰＡ」）；アントラセン、Ｎ−アリールベンゾイミダゾール（「ＴＰＢＩ」のような）；１，４−ビス−［２−（９−エチル−３−カルバゾイル）ビニレニル］ベンゼン；４，４’−ビス−［２−（９−エチル−３−カルバゾイル）ビニレニル］−１，１’−ビフェニル；９，１０−ビス［２，２−（９、９−フルオレニレン）ビニレニル］アントラセン；１，４−ビス−［２，２−（９，９−フルオレニレン）ビニレニル］ベンゼン；４，４’−ビス［２，２−（９，９−フルオレニレン）ビニレニル］−１，１’−ビフェニル；ペリレン、置換ペリレン；テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルペリレン（「ＴＢＰｅ」）；ビス（３，５−ジフルオロ−２−（２−ピリジル）フェニル−（２−カルボキシピリジル））イリジウムＩＩＩ（「Ｆ（Ｉｒ）Ｐｉｃ」）；ピレン、置換ピレン；スチリルアミン；フッ素化フェニレン；オキシダゾール；１，８−ナフタルイミド；ポリキノリン；ＰＰＶ中の１つ以上のカーボンナノチューブ、またはこれらの任意の組合せ、である。
【００４０】
抵抗器、トランジスタ、キャパシタなどのような電子部品については、有機層は、チオフェン（例えば、ポリチオフェン、ポリ（アルキルチオフェン）、アルキルチオフェン、ビス（ジチエンチオフェン）、アルキルアントラジチオフェンなど）、ポリアセチレン、ペンタセン、フタロシアニン、またはこれらの任意の組合せの１つ以上を包含することができる。
【００４１】
有機染料の例としては、４−ジシアンメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ）、クマリン、ピレン、ペリレン、ルブレン、これらの誘導体、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００４２】
有機金属材料の例としては、少なくとも１つの金属に配位結合された１つ以上の官能基を含む官能基化ポリマーが包含される。使用し得ると考えられる典型的な官能基には、カルボン酸、カルボン酸塩、スルホン酸基、スルホン酸塩、ＯＨ部分を有する基、アミン、イミン、ジイミン、Ｎ−オキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、β−ジカルボニル基、またはこれらの任意の組合せが包含される。使用し得ると考えられる典型的な金属には、ランタニド金属（例えば、Ｅｕ、Ｔｂ）、第７族の金属（例えば、Ｒｅ）、第８族の金属（例えば、Ｒｕ、Ｏｓ）、第９族の金属（例えば、Ｒｈ、Ｉｒ）、第１０族の金属（例えば、Ｐｄ、Ｐｔ）、第１１族の金属（例えば、Ａｕ）、第１２族の金属（例えば、Ｚｎ）、第１３族の金属（例えば、Ａｌ）、またはこれらの任意の組合せが包含される。このような有機金属材料には、トリス（８−ヒドロキシキノラート）アルミニウム（Ａｌｑ3）のような金属キレート化オキシノイド化合物と、イリジウムのフェニルピリジン配位子、フェニルキノリン配位子またはフェニルピリミジン配位子との錯体のようなシクロメタル化イリジウムまたは白金エレクトロルミネッセンス性化合物であって、公刊されたＰＣＴ出願の国際公開第０２／０２７１４号パンフレットに開示されている化合物と、例えば、公刊された米国特許出願公開第２００１／００１９７８２号明細書、欧州特許出願公開第１１９１６１２号明細書、国際公開第０２／１５６４５号パンフレット、同第０２／３１８９６号パンフレットおよび欧州特許出願公開第１１９１６１４号明細書に開示されている有機金属錯体と、これらの任意の混合物とが包含される。
【００４３】
共役ポリマーの例としては、ポリ（フェニレンビニレン）、ポリフルオレン、ポリ（スピロビフルオレン）、これらのコポリマー、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００４４】
液体媒体の選択も、液体混合物の１つ以上の適切な特性を達成するための重要な因子であり得る。液体媒体を選択する際に考慮するべき因子には、例えば、結果として得られる溶液、エマルジョン、懸濁液または分散系の粘度、ポリマー材料の分子量、固形分のローディング、液体媒体のタイプ、液体媒体の沸点、下層の基板の温度、ゲスト材料を受け取る有機層の厚さ、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００４５】
いくつかの実施形態においては、液体媒体は少なくとも１つの溶媒を包含する。典型的な有機溶媒としては、ハロゲン化溶媒、コロイド形成ポリマー酸、炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒、エーテル溶媒、環状エーテル溶媒、アルコール溶媒、グリコール溶媒、ケトン溶媒、ニトリル溶媒、スルホキシド溶媒、アミド溶媒、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００４６】
典型的なハロゲン化溶媒としては、四塩化炭素、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ビス（２−クロロエチル）エーテル、クロロメチルエチルエーテル、クロロメチルメチルエーテル、２−クロロエチルエチルエーテル、２−クロロエチルプロピルエーテル、２−クロロエチルメチルエーテル、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００４７】
典型的なコロイド形成ポリマー酸としては、フッ素化スルホン酸（例えば、ペルフルオロ化エチレンスルホン酸のようなフッ素化アルキルスルホン酸）、またはこの任意の組合せが包含される。
【００４８】
典型的な炭化水素溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカヒドロナフタレン、石油エーテル、リグロイン、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００４９】
典型的な芳香族炭化水素溶媒としては、ベンゼン、ナフタレン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン（イソプロピルベンゼン）、メシチレン（トリメチルベンゼン）、エチルトルエン、ブチルベンゼン、シメン（イソプロピルトルエン）、ジエチルベンゼン、イソブチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、ｓｅｃ−ブチルベンゼン、ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン、アニソール、４−メチルアニソール、３，４−ジメチルアニソール、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５０】
典型的なエーテル溶媒としては、ジエチルエーテル、エチルプロピルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、グリム、ジグリム、ベンジルメチルエーテル、イソクロマン、２−フェニルエチルメチルエーテル、ｎ−ブチルエチルエーテル、１，２−ジエトキシエタン、ｓｅｃ−ブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、エチルｎ−プロピルエーテル、エチルイソプロピルエーテル、ｎ−ヘキシルメチルエーテル、ｎ−ブチルメチルエーテル、メチルｎ−プロピルエーテル、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５１】
典型的な環状エーテル溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、テトラヒドロピラン、４メチル−１，３−ジオキサン、４−フェニル−１，３−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、２−メチル−１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキサン、２，５−ジメトキシテトラヒドロフラン、２，５−ジメトキシ−２，５−ジヒドロフラン、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５２】
典型的なアルコール溶媒としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール（すなわち、イソブタノール）、２−メチル−２−プロパノール（すなわち、ｔｅｒｔ−ブタノール）、１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２，２−ジメチル−１−プロパノール、１−ヘキサノール、シクロペンタノール、３−メチル−１−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、２−メチル−１−ブタノール、２，２−ジメチル−１−プロパノール、３−ヘキサノール、２−ヘキサノール、４−メチル−２−ペンタノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−エチルブタノール、２，４−ジメチル−３−ペンタノール、３−ヘプタノール、４−ヘプタノール、２−ヘプタノール、１−ヘプタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、２，６−ジメチル−４−ヘプタノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキサノール、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５３】
アルコールエーテル溶媒も使用することができる。典型的なアルコールエーテル溶媒としては、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、１−メトキシ−２−ブタノール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、１−エトキシ−２−プロパノール、３−メトキシ−１−ブタノール、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、３−メトキシ−３−メチルブタノール、エチレングリコールモノ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５４】
典型的なグリコール溶媒としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＤＰＧＭＥ）、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５５】
典型的なケトン溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソプロピルメチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、３−ヘキサノン、ジイソプロピルケトン、２−ヘキサノン、シクロペンタノン、４−ヘプタノン、イソアミルメチルケトン、３−ヘプタノン、２−ヘプタノン、４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノン、５−メチル−３−ヘプタノン、２−メチルシクロヘキサノン、ジイソブチルケトン、５−メチル−２−オクタノン、３−メチルシクロヘキサノン、２−シクロヘキセン−１−オン、４−メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサノン、イソホロン、ベンジルアセトン、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５６】
典型的なニトリル溶媒としては、アセトニトリル、アクリロニトリル、トリクロロアセトニトリル、プロピオニトリル、ピバロニトリル、イソブチロニトリル、ｎ−ブチロニトリル、メトキシアセトニトリル、２−メチルブチロニトリル、イソバレロニトリル、Ｎ−バレロニトリル、ｎ−カプロニトリル、３−メトキシプロピオニトリル、３−エトキシプロピオニトリル、３，３’−オキシジプロピオニトリル、ｎ−ヘプタンニトリル、グリコロニトリル、ベンゾニトリル、エチレンシアノヒドリン、スクシノニトリル、アセトンシアノヒドリン、３−ｎ−ブトキシプロピオニトリル、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５７】
典型的なスルホキシド溶媒としては、ジメチルスルホキシド、ジ−ｎ−ブチルスルホキシド、テトラメチレンスルホキシド、メチルフェニルスルホキシド、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５８】
典型的なアミド溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アシルアミド、２−アセトアミドエタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｍ−トルアミド、トリフルオロアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルドデカンアミド、エプシロン−カプロラクタム、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルホルムアミド、ホルムアミド、ピバルアミド、Ｎ−ブチルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ−ホルミルエチルアミン、アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホルムアミド、１−ホルミルピペリジン、Ｎ−メチルホルムアニリド、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５９】
考えられるクラウンエーテルとしては、本発明によって処理される組合せの一部としてのエポキシ化合物出発材料の塩化物含有量の低減を補助するように機能することが可能な任意の１つ以上のクラウンエーテルが包含される。典型的なクラウンエーテルとしては次のようなものが包含される。すなわち、ベンゾ−１５−クラウン−５；ベンゾ−１８−クラウン−６；１２−クラウン−４；１５−クラウン−５；１８−クラウン−６；シクロヘキサノ−１５−クラウン−５；４’，４''（５''）−ジｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ−１８−クラウン−６；４’，４''（５''）−ジｔｅｒｔ−ブチルジシクロヘキサノ−１８−クラウン−６；ジシクロヘキサノ−１８−クラウン−６；ジシクロヘキサノ−２４−クラウン−８；４’−アミノベンゾ−１５−クラウン−５；４’−アミノベンゾ−１８−クラウン−６；２−（アミノメチル）−１５−クラウン−５；２−（アミノメチル）−１８−クラウン−６；４’−アミノ−５’−ニトロベンゾ−１５−クラウン−５；１−アザ−１２−クラウン−４；１−アザ−１５−クラウン−５；１−アザ−１８−クラウン−６；ベンゾ−１２−クラウン−４；ベンゾ−１５−クラウン−５；ベンゾ−１８−クラウン−６；ビス（（ベンゾ−１５−クラウン−５）−１５−イルメチル）ピメレート；４−ブロモベンゾ−１８−クラウン−６；（＋）−（１８−クラウン−６）−２，３，１１，１２−テトラカルボン酸；ジベンゾ−１８−クラウン−６；ジベンゾ−２４−クラウン−８；ジベンゾ−３０−クラウン−１０；ａｒ−ａｒ’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ−１８−クラウン−６；４’−ホルミルベンゾ−１５−クラウン−５；２−（ヒドロキシメチル）−１２−クラウン−４；２−（ヒドロキシメチル）−１５−クラウン−５；２−（ヒドロキシメチル）−１８−クラウン−６；４’−ニトロベンゾ−１５−クラウン−５；ポリ−［（ジベンゾ−１８−クラウン−６）−コ−ホルムアルデヒド］；１，１−ジメチルシラ−１１−クラウン−４；１，１−ジメチルシラ−１４−クラウン−５；１，１−ジメチルシラ−１７−クラウン−５；シクラム；１，４，１０，１３−テトラチア−７，１６−ジアザシクロオクタデカン；ポルフィン；またはこれらの任意の組合せである。
【００６０】
別の実施形態においては、液体媒体として水が包含される。水不溶性のコロイド形成ポリマー酸と複合された導電性ポリマーを、基板上に堆積させて、電荷輸送層として用いることが可能である。
【００６１】
以上においては、多くの異なる種類の液体媒体（例えば、ハロゲン化溶媒、炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒、水など）が記述されている。異なる種類からの２つ以上の液体媒体の混合物も使用することができる。
【００６２】
液体混合物は、また、バインダ材料、充填剤材料、またはこれらの組合せのような不活性材料を包含することができる。液体混合物に関しては、不活性材料が、その液体混合物の少なくとも一部によって形成されるかあるいはそれを受け入れる層の電子的特性、放射放出特性、または放射応答特性に重要な影響は及ぼすことはない。
【００６３】
本明細書において、明確化のために別個のいくつかの実施形態の文脈に記述されている本発明の特定の特徴は、単一の実施形態における組合せにおいても提供し得ることが理解されるべきである。逆に、簡潔さのために単一の実施形態の文脈に記述される本発明のさまざまな特徴は、個別にも、あるいは任意のサブコンビネーションにおいても提供することができる。さらに、範囲として述べられた値への言及は、その範囲内のそれぞれの値をいずれも包含する。
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本願は、米国特許法第１１９条（ｅ）項に基づいて、２００８年１２月２７日に出願された米国仮特許出願第６１／１４０，９４４号からの優先権を主張するものであり、この仮特許出願第６１／１４０，９４４号の内容は、その全体が参照によって本願に組み込まれる。
【０００２】
本発明は、一般的には電子デバイスを作製する装置および方法に関する。具体的には、本発明は、液相の印刷材料を連続塗布するための一連のノズルと、基板上における印刷材料の飛散を低減する吸収材料とに関する。
【背景技術】
【０００３】
電子装置における活性有機分子の利用が増大している。この活性有機分子は、エレクトロルミネッセンスを含む電子特性または電気放射特性を有する。有機活性材料を組み込む電子デバイスは電気エネルギーを放射に変換するのに用いることができ、発光ダイオード、発光ダイオードディスプレイまたはダイオードレーザがそれに包含され得る。
【０００４】
有機発光ダイオード（「ＯＬＥＤ」）ディスプレイを作製するには、一般的に、２つの方法が用いられる。すなわち、真空蒸着法および液相処理法である。（後者は、真の溶液または懸濁液のような流体から層を形成するすべての形態を包含する。）真空蒸着設備は、通常、非常に高い投資コストを要し、材料の利用率が劣る（高い運転コスト）ので、特に大面積のディスプレイには液相処理法が好まれる。
【０００５】
有機活性層を堆積させるための液相処理法には、基板上の層の厚さを制御するためのいくつもの技術が包含される。これらの技術のいくつかには、厚さを制御するための自己調整型の方法が包含される。例えば、スピンコーティング、ロッドコーティング、浸漬コーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングまたは印刷、リソグラフィーまたはフレクソグラフィー印刷、スクリーンコーティングなどである。これらの技術以外には、制御された堆積技法を用いて堆積厚さを制御する方式が探索されている。これには、インクジェット印刷、スプレーコーティング、ノズルコーティング、スロットダイコーティング、カーテンコーティング、バーまたはスライドコーティングなどが包含される。
【０００６】
自己調整型の技法はいくつかの欠点を有する。ＯＬＥＤディスプレイをコーティングするのに用いられる流体は、多くの場合、微細構造―すなわち、電極、接点パッド、薄膜トランジスタ、フォトレジストから形成されるピクセルウェル、カソードセパレータ構造など―を有する表面上に塗布される。自己調整型の技法によって堆積される湿式層の一様性は、コーティング間隙とそれによって生じる圧力分布とに依存している。そのため、基板の微細構造における変化によって、湿式コーティング厚さの好ましくない変化がもたらされる。自己調整型の技法は、一般的に、基板に供給される流体のすべてが堆積されるわけではないという点で高い運転コストを余儀なくされる。いくらかの流体は、流体浴に循環される（例えば、浸漬コーティング）か、塗布器に循環される（例えば、ロールコーティングまたはグラビアコーティング）か、浪費される（例えば、スピンコーティング）かのいずれかである。循環される流体から溶媒が蒸発するので、プロセスの安定を維持するために調整が必要である。洗浄材料と、循環および調整材料とがコストに加算される。
【０００７】
制御された技法は低い運転コストをもたらすことができるが、いくつかの場合には、連続印刷によって、指定された基板上の所要の位置以外の箇所に印刷材料の堆積が生じることがある。一態様においては、連続的な液相印刷材料が好ましくない液滴に分裂して、基板上の好ましくない位置に堆積することがあり得る。この欠陥は飛散（ｓｐｌａｔｔｅｒ）と呼称されることが多いが、電子デバイスの性能劣化を惹起する可能性がある。
【０００８】
この問題に対処する先行技術は、余剰の印刷材料をダクトまたはチャンネル内に捕集して、排気空気流れを用いてそれを除去する操作を伴っていたが、この解決策は、飛散欠陥を除去するには非効率であることが分かってきた。別の技法は、ノズルと被印刷表面との間の同じ間隙もしくは距離に捕集表面を保持する方式を採用した。これは、印刷材料の連続的な流れもしくはピラーを維持するが、この解決策は、基板に沿って追加のパスを作るために方向を変える場合のノズルの反転時に、流れの溜りもしくは液滴を発生させる。飛散問題の解決策には、印刷材料のピラーのエーロゾルサイズの液滴への分解を低減または除去する方法、さらに、印刷パスの終端におけるノズル反転時の溜りを除去する方法が包含される。
【０００９】
有機層が不的確に形成されると、通常、デバイスの性能が劣り、デバイス製造プロセスにおける歩留まりが低下する結果が生じる。ＯＬＥＤ塗布用の有機材料の液相堆積のための改良された方法に対する必要性が継続して存在している。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
制御されたコーティング法においては、ノズルに供給されるすべての流体が基板または加工品に塗布される。ノズルと基板との間の相対的な動きによって印刷材料の一様かつ正確な堆積が可能になる。この相対的な動きは、固定された基板上にノズルの組を動かすことによって実現できるが、代わりの方式として、固定されたノズルの組に対して基板を動かす方式、あるいは、基板およびノズルの組の両者が動く組合せ方式によっても実現可能である。上記の方式のいずれにおいても、印刷操作は、パス（ｐａｓｓ）とも呼称される印刷行程であって基板を横断する印刷行程を実行する。この場合、一般的に、第１パスに対して反対向きの第２パスが続けて実行される。このような印刷パスが基板の完成まで継続される。第１パスから第２パスへのこの方向反転によって、印刷材料の基板上への飛散が作り出され、結果として得られる電子デバイスに関する操作上の問題を生じさせる。
【００１１】
ＯＬＥＤディスプレイ製造用の有機層の連続ノズルコーティングは、数１０ナノメートルレベルの厚さの層を生成する。容認し得る層の性能をこのような薄い寸法において作り出すための方法の改善が要求されている。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
少なくとも１つの実施形態は、印刷材料の連続的な流れを基板上に分配することができる一連のノズルを含むノズルアセンブリと、さらに、印刷材料の飛散を低減するための吸収材料と、その吸収材料の吸収能力を再生する装置とを包含する。一連のノズルは少なくとも３個のノズルを含むことができるが、６個、９個、１２個またはそれより多いノズルを含むことも可能である。一実施形態においては、吸収材料は、滑らかな表面または不規則な表面を有することができ、スポンジ、天然繊維、合成繊維および多孔質媒体からなる群から選択できる。一実施形態においては、吸収能力を再生する装置は、吸収材料を動かして追加の表面領域を露出させる回転装置である。一実施形態においては、真空源が、吸収材料を通して（吸収材料によって）印刷材料を吸引して吸収材料を再生する。一実施形態においては、連続流れの分配を第１方向において行い、さらに余剰の印刷材料を吸収材料の上に導き、続いて第２方向において印刷する。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】電子デバイスの図解である。
【図２】本発明の一連のノズルの一実施形態の図解である。
【図３】本発明の隣接吸収材料および真空装置を有する基板を含む別の実施形態の図解である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
有機発光ダイオード（「ＯＬＥＤ」）を含む電子デバイスの１つの例が図１に符号１００として示されている。このデバイスは、アノード層１１０と、バッファ層１２０と、光活性層１３０と、カソード層１５０とを有する。カソード層１５０には、オプションとしての電子注入／輸送層１４０が隣接している。バッファ層１２０および光活性層１３０の間には、オプションとしての正孔注入／輸送層が設けられる（図示なし）。
【００１５】
本明細書で用いる「バッファ層（ｂｕｆｆｅｒ ｌａｙｅｒ）」または「バッファ材料（ｂｕｆｆｅｒ ｍａｔｅｒｉａｌ）」という用語は、導電性または半導電性の材料を意味するものとするが、これは、有機電子デバイスにおいて１つ以上の機能を有することができる。この機能には、下層の平坦化、電荷輸送および／または電荷注入特性、酸素または金属イオンのような不純物の排除、および、有機電子デバイスの性能を促進するまたは改善する他の機能が包含されるが、これに限定されない。バッファ材料は、ポリマー、オリゴマーまたは小分子とすることができ、さらに、溶液、分散系、懸濁液、エマルジョン、コロイド性混合物または他の組成物の形態とすることができる。「正孔輸送（ｈｏｌｅ−ｔｒａｎｓｐｏｒｔ）」という用語は、層、材料、部材または構造について言う場合は、その層、材料、部材または構造の厚さを通過する正電荷の移動を、比較的高い効率でかつ電荷の損失が低い条件において容易にする層、材料、部材または構造のことを意味するものとする。「電子輸送（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｔｒａｎｓｐｏｒｔ）」という用語は、層、材料、部材または構造について言う場合は、負の電荷が、その層、材料、部材または構造を通って他の層、材料、部材または構造に移動するのを促進または容易にする層、材料、部材または構造のことを意味するものとする。「正孔注入（ｈｏｌｅ−ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ）」という用語は、層、材料、部材または構造について言う場合は、その層、材料、部材または構造の厚さを通過する正電荷の注入および移動を、比較的高い効率でかつ電荷の損失が低い条件において容易にする層、材料、部材または構造のことを意味するものとする。「電子注入（ｅｌｅｃｔｒｏｎ−ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ）」という用語は、層、材料、部材または構造について言う場合は、その層、材料、部材または構造の厚さを通過する負の電荷の注入および移動を、比較的高い効率でかつ電荷の損失が低い条件において容易にする層、材料、部材または構造のことを意味するものとする。
【００１６】
このデバイスは、アノード層１１０またはカソード層１５０に隣接させることが可能な支持体または基板（図示なし）を包含することができる。殆どの場合、支持体はアノード層１１０に隣接する。支持体は、柔軟なものまたは剛性のもの、有機または無機のものとすることができる。一般的に、ガラスまたは柔軟な有機膜が支持体として用いられる。アノード層１１０は、カソード層１５０に比べて正孔注入に対してより効率的な電極である。アノードは、金属、混合金属、合金、金属酸化物または混合酸化物を含む材料を包含できる。適切な材料には、第２族の元素（すなわち、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｒａ）の混合酸化物、第１１族の元素、第４、５および６族の元素、並びに第８〜１０族の遷移元素が包含される。アノード層１１０が光透過性であるべきならば、酸化インジウムスズのような第１２、１３および１４族の元素の混合酸化物を用いることができる。本明細書で用いる「混合酸化物（ｍｉｘｅｄ ｏｘｉｄｅ）」という語句は、第２族の元素あるいは第１２、１３または１４族の元素から選択される２つ以上の異なるカチオンを有する酸化物のことを言う。アノード層１１０用の材料の非制限的ないくつかの具体的な例として、酸化インジウムスズ（「ＩＴＯ」）、酸化アルミニウムスズ、金、銀、銅およびニッケルが包含されるが、これに限定されない。アノードは、ポリアニリン、ポリチオフェンまたはポリピロールのような有機材料を含むこともできる。本明細書全体にわたって、ＩＵＰＡＣの番号システムを用いている。すなわち、周期律表の族については、左から右に第１〜１８族として付番されている（「ＣＲＣ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ」、第８１版、２０００年）。
【００１７】
一実施形態において、バッファ層１２０は正孔輸送材料を含む。層１２０用の正孔輸送材料の例は、例えば、「Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」、第４版、１９９６年、第１８巻、ｐ８３７−８６０のＹ．Ｗａｎｇによる記述に要約されている。正孔輸送性の分子およびポリマーの両方を用いることができる。一般的に用いられる正孔輸送性の分子には次のようなものが包含されるが、これに限定されない。すなわち、４，４'，４''−トリス（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）−トリフェニルアミン（ＴＤＡＴＡ）；４，４'，４''−トリス（Ｎ−３−メチルフェニル−Ｎ−フェニルアミノ）−トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）；Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−Ｎ，Ｎ'−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１'−ビフェニル］−４，４'−ジアミン（ＴＰＤ）；１，１−ビス［（ジ−４−トリルアミノ）フェニル］シクロヘキサン（ＴＡＰＣ）；Ｎ，Ｎ'−ビス（４−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ'−ビス（４−エチルフェニル）−［１，１'−（３，３'−ジメチル）ビフェニル］−４，４'−ジアミン（ＥＴＰＤ）；テトラキス−（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−２，５−フェニレンジアミン（ＰＤＡ）；α−フェニル−４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチレン（ＴＰＳ）；ｐ−（ジエチルアミノ）ベンゾアルデヒドジフェニルヒドラゾン（ＤＥＨ）；トリフェニルアミン（ＴＰＡ）；ビス［４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−２−メチルフェニル］（４−メチルフェニル）メタン（ＭＰＭＰ）；１−フェニル−３−［ｐ−（ジエチルアミノ）スチリル］−５−［ｐ−（ジエチルアミノ）フェニル］ピラゾリン（ＰＰＲまたはＤＥＡＳＰ）；１，２−トランス−ビス（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）シクロブタン（ＤＣＺＢ）；Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス（４−メチルフェニル）−（１，１'−ビフェニル）−４，４'−ジアミン（ＴＴＢ）；Ｎ，Ｎ'−ビス（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ'−ビス（フェニル）ベンジジン（α−ＮＰＢ）；および、フタロシアニン銅のようなポルフィリン化合物、である。一般的に用いられる正孔輸送性のポリマーには、ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン−コ−Ｎ−（４−ブチルフェニル）ジフェニルアミン）など、ポリビニルカルバゾール、（フェニルメチル）ポリシラン、ポリ（ジオキシチオフェン）、ポリアニリン、およびポリピロールが包含されるが、これに限定されない。上記のような正孔輸送性分子を、ポリスチレンおよびポリカーボネートのようなポリマーにドープすることによって、正孔輸送性のポリマーを得ることも可能である。
【００１８】
光活性層１３０は、通常、任意の有機エレクトロルミネッセンス（「ＥＬ」）材料とすることができる。この材料には、小分子の有機蛍光化合物、蛍光性およびリン光性の金属錯体、共役ポリマー、およびこれらの混合物が包含されるが、これに限定されない。蛍光化合物の例としては、ピレン、ペリレン、ルブレン、クマリン、これらの誘導体、およびこれらの混合物が包含されるが、これに限定されない。金属錯体の例としては、トリス（８−ヒドロキシキノラート）アルミニウム（Ａｌｑ３）のような金属キレート化オキシノイド化合物と、イリジウムのフェニルピリジン配位子、フェニルキノリン配位子またはフェニルピリミジン配位子との錯体のようなシクロメタル化イリジウムおよび白金エレクトロルミネッセンス性化合物であって、Ｐｅｔｒｏｖらに付与された米国特許第６，６７０，６４５号明細書、および公刊されたＰＣＴ出願の国際公開第０３／０６３５５５号パンフレットおよび同第２００４／０１６７１０号パンフレットに開示されている化合物と、例えば、公刊されたＰＣＴ出願の国際公開第０３／００８４２４号パンフレット、同第０３／０９１６８８号パンフレットおよび同第０３／０４０２５７号パンフレットに開示されている有機金属錯体と、これらの混合物とが包含されるが、これに限定されない。電荷担持ホスト材料および金属錯体を含むエレクトロルミネッセンス性の放出層は、Ｔｈｏｍｐｓｏｎらによって米国特許第６，３０３，２３８号明細書において、および、ＢｕｒｒｏｗｓおよびＴｈｏｍｐｓｏｎによって公刊されたＰＣＴ出願の国際公開第００／７０６５５号パンフレットおよび同第０１／４１５１２号パンフレットにおいて記述されている。共役ポリマーの例としては、ポリ（フェニレンビニレン）、ポリフルオレン、ポリ（スピロビフルオレン）、ポリチオフェン、ポリ（ｐ−フェニレン）、これらのコポリマー、およびこれらの混合物が包含されるが、これに限定されない。
【００１９】
選択される特定の材料は、具体的な用途、運転中に使用される可能性、または他の因子によって変わることがあり得る。エレクトロルミネッセンス性の有機材料を含むＥＬ層１３０は、液相処理法を包含するいくつもの技法を用いて塗布できる。別の実施形態においては、ＥＬポリマーの前駆体を塗布して、続いて、通常熱または他の外部エネルギー源（例えば、可視光またはＵＶ放射）によってそれをポリマーに転化することが可能である。
【００２０】
オプションとしての層１４０は、電子の注入／輸送の両者を容易にするように機能することが可能であり、層の界面におけるクエンチ反応を防ぐための閉じ込め層としても作用し得る。より具体的には、層１４０は、電子の動きを促進して、層１３０および１５０が層１４０なしに直接接触していると生じる可能性があるクエンチ反応を低減することができる。オプションとしての層１４０用の材料の例として次のようなものが包含されるが、これに限定されない。すなわち、トリス（８−ヒドロキシキノラート）アルミニウム（Ａｌｑ３）、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（パラフェニルフェノラート）アルミニウム（ＩＩＩ）（ＢＡｌＱ）およびテトラキス−（８−ヒドロキシキノラート）ジルコニウム（ＩＶ）（ＺｒＱ）のような金属キレート化オキシノイド化合物；２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）、３−（４−ビフェニリル）−４−フェニル−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）および１，３，５−トリ（フェニル−２−ベンゾイミダゾール）ベンゼン（ＴＰＢＩ）のようなアゾール化合物；２，３−ビス（４−フルオロフェニル）キノキサリンのようなキノキサリン誘導体；４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリン（ＤＰＡ）および２，９−ジメチル−４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリン（ＤＤＰＡ）のようなフェナントロリン；およびこれらの混合物である。代替的に、オプションとしての層１４０を無機のものとしてもよく、ＢａＯ、ＬｉＦ、Ｌｉ2Ｏなどがこれに含まれる。
【００２１】
カソード層１５０は、電子または負の電荷の担体の注入に対して特に効率的な電極である。カソード層１５０は、第１の電気接点層（この場合アノード層１１０）よりも低い仕事関数を有する任意の金属または非金属とすることが可能である。本明細書で用いる「より低い仕事関数（ｌｏｗｅｒ ｗｏｒｋ ｆｕｎｃｔｉｏｎ）」という用語は、約４．４ｅＶ以下の仕事関数を有する材料を意味するものとし、本明細書で用いる「より高い仕事関数（ｈｉｇｈｅｒ ｗｏｒｋ ｆｕｎｃｔｉｏｎ）」という用語は、少なくとも約４．４ｅＶの仕事関数を有する材料を意味するものとする。
【００２２】
カソード層用の材料は、第１族のアルカリ金属（例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ）、第２族の金属（例えば、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａなど）、第１２族の金属、ランタニド（例えば、Ｃｅ、Ｓｍ、Ｅｕなど）、およびアクチニド（例えば、Ｔｈ、Ｕなど）から選択できる。アルミニウム、インジウム、イットリウム、およびこれらの組合せのような材料も使用することができる。カソード層１５０用の材料の非制限的な具体例として、バリウム、リチウム、セリウム、セシウム、ユーロピウム、ルビジウム、イットリウム、マグネシウム、サマリウム、および、これらの合金および組合せが包含されるが、これに限定されない。
【００２３】
他の実施形態においては、有機電子デバイスの内部に、１つまたは複数の追加の層が存在することができる。例えば、バッファ層１２０およびＥＬ層１３０の間の層（図示なし）は、正電荷の輸送、層のエネルギー準位のマッチング、保護層としての機能などを促進することができる。同様に、ＥＬ層１３０およびカソード層１５０の間の付加層（図示なし）は、負電荷の輸送、層間のエネルギー準位のマッチング、保護層としての機能などを促進することができる。当分野で知られている層を利用することが可能である。さらに、上記の層の任意の層を２つ以上の層から構成することが可能である。また代替的に、無機アノード層１１０、バッファ層１２０、ＥＬ層１３０、およびカソード層１５０のいくつかまたはすべてを、電荷担体の輸送効率を高めるために表面処理することができる。各構成要素の層に対する材料の選択は、高いデバイス効率を有するデバイスを供給するという目標と、製造コスト、製造の複雑さ、あるいは他の潜在的な因子とを比較考量することにより決定することができる。
【００２４】
種々の層は任意の適切な厚さを有することができる。一実施形態においては、無機アノード層１１０は通常約５００ｎｍ以下、例えば約１０〜２００ｎｍであり、バッファ層１２０は通常約２５０ｎｍ以下、例えば約５０〜２００ｎｍであり、ＥＬ層１３０は通常約１００ｎｍ以下、例えば約５０〜８０ｎｍであり、オプションとしての層１４０は通常約１００ｎｍ以下、例えば約２０〜８０ｎｍであり、カソード層１５０は通常約１００ｎｍ以下、例えば約１〜５０ｎｍである。アノード層１１０またはカソード層１５０が、少なくともいくらかの光を透過する必要がある場合は、これらの層の厚さは約１００ｎｍを超える必要はない。
【００２５】
有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）においては、それぞれカソード層１５０およびアノード層１１０からＥＬ層１３０に注入される電子および正孔が、ポリマー中に負および正に荷電された極性イオンを形成する。この極性イオンは、印加された電界の影響の下に移動して、逆に荷電された化学種と極性イオン励起子を形成し、引き続いて放射再結合を受ける。通常約１２ボルト未満、多くの例では約５ボルト以下のアノードおよびカソード間の十分な電位差をデバイスに印加することができる。実際の電位差は、より大きな電子部品におけるデバイスの使用に応じて変化する可能性がある。多くの実施形態において、アノード層１１０は正電圧にバイアスをかけられ、カソード層１５０は、電子デバイスの運転中、実質的に接地電位またはゼロボルトにある。バッテリまたは他の電源を回路の一部として電子デバイスに電気接続してもよいが、これは図１には示されていない。
【００２６】
図２は、一連のノズル２００の一実施形態を示す。流入口２０２は、印刷材料（図示なし）を、少なくとも３個のノズル２０６ａ、２０６ｂおよび２０６ｃを有するノズル構造体２０４に導く。ノズル構造体２０４は、６個、９個、１２個または所要ノズルの任意の系列を含むことができる。吸収材料２０８が、余剰の印刷材料（図示なし）を吸収するように各ノズル２０６に隣接して配置される。吸収材料２０８は、セラミック、金属、プラスチックまたは天然産品ベースの多孔質媒体を包含するいくつもある吸収材料から構成することができる。多孔質媒体は５〜５００μｍの細孔サイズを含む。一実施形態においては、多孔質媒体をステンレス鋼または多孔質プラスチックとすることができる。吸収材料２０８は、可動アーム２１０上に配置することが可能であり、第１印刷パス後にかつ第２印刷パスの開始の前に、ノズル２０６からの流出物を吸収する機能を有する。
【００２７】
図３は、基板３０２に隣接して配置される吸収材料２０８を有する構造３００の一実施形態を示す。ノズル構造体２０４（図３には示していない）は、第１方向３０４において印刷パスを作り出すことができ、方向を反転して、第２印刷パスを第２方向３０６に作り出すことができる。印刷材料のピラーは、ノズル２０６から基板３０２までの間隙を方向反転の間一定に保持することによって維持される。吸収材料２０８は、追加の表面領域を露出させるように、回転装置２１０によって駆動できる。一実施形態においては、先に吸収された印刷材料を除去することによって吸収材料２０８を再生するために、真空源３０８を使用できる。
【００２８】
以上の実施形態における印刷材料は、バッファ層、電荷ブロック層、電荷注入層、電荷輸送層、エレクトロルミネッセンス層、またはこれらの組合せとすることができる。印刷材料は、液体および固体材料を含み、溶液、懸濁液、分散系、エマルジョン、コロイド性混合物、または他の組成物を生成する。液体は、本明細書において以下に述べるように有機溶媒または水とすることができる。固体は、バッファ層１２０、ＥＬ層１３０、あるいはオプションとしての層１４０において使用される任意の１つ以上の材料である。
【００２９】
別の実施形態においては、液体混合物が５センチポアズ以下の粘度を有する。さらに別の実施形態においては、液体混合物が液体の溶媒を包含し、その場合、この液体の溶媒は２種以上の溶媒を包含することができる。さらに別の実施形態においては、少なくとも１つの溶媒は水である。
【００３０】
付加的な機器がノズル構造体２０４の範囲内に存在してもよいし、あるいは、それをノズル構造体２０４と共に用いることができる。このような付加的な機器として、液相混合物を形成するいくつもの構成成分を受け入れるための、容器と、ノズル構造体２０４に流体連結される供給ラインとが包含される。さらに他の機器として、１つ以上のステップモータ、ポンプ、フィルタ、制御電子装置、他の電気的、機械的または電気機械的アセンブリまたはサブアセンブリ、設備接続器具、あるいは、これらの任意の組合せが包含され得る。
【００３１】
３．液体組成物
一連のノズル２００は、液体溶液を包含する種々の異なる材料の堆積用として用いることが可能である。以下の段落は、使用し得る材料のすべてではなくいくつかのみを包含する。一実施形態においては、電子デバイス内部の有機層用の１つ以上の材料が、一連のノズル２００を用いて形成される。
【００３２】
一連のノズル２００は、液体組成物の印刷用としてよく適している。一連のノズル２００は、従来型のインクジェットプリンタに比べて、使用し得る操作パラメータおよび液体組成物の範囲が拡大される。一実施形態においては、１つ以上のパラメータが液体組成物の流れの特性に影響を及ぼす可能性がある。粘度は流れの特性に影響し得る１つのパラメータである。粘度は、液体媒体の選択、液体媒体内の固形分含有量、液体組成物の温度、または可能性のある１つ以上の他の因子、またはこれらの任意の組合せによって影響を受ける可能性がある。また、粘度は、温度によって直接的に（液体媒体の粘度は温度の低下と共に増大し、温度の上昇と共に低下する）、あるいは、液体組成物内の液体媒体の蒸発速度を変化させること（すなわち、より低沸点またはより高沸点の液体媒体の使用、液体組成物の温度の変化、またはこれらの組合せ）によって間接的に影響を受ける可能性がある。当業者は、本明細書を読了後、液体媒体のきわめて大きな選択範囲、使用される液体組成物の固形分濃度の大きな範囲、またはこれらの組合せを可能にする多くの異なる方法を有していることを理解するであろう。
【００３３】
液体混合物は、溶液、分散系、エマルジョンまたは懸濁液の形態にすることができる。以下の段落においては、固体材料および液体媒体の非制限的な例を述べる。固体材料は、結果的に形成される層に関する電子的特性または電気放射特性に基づいて選択できる。液体媒体は、本明細書において以下に記述する基準に基づいて選択できる。
【００３４】
一連のノズル２００を用いる場合は、液体組成物は、閉塞に関する懸念の必要なしに、約２．０重量パーセントより多い固形分を有することができる。一実施形態においては、固形分含有量は約２．０〜３．０重量パーセントの範囲にある。従って、一連のノズル２００は、従来型のインクジェットプリンタに比べて、より高い粘度またはより低い沸点を有する液体組成物を用いることができる。さらに、一連のノズル２００は、従来型のインクジェットプリンタに比べて、より低い粘度またはより高い沸点を有する液体組成物を用いることができる。またさらに、液体組成物内の液体媒体は印刷前に脱気する必要はない。例えば、水溶液中の導電性有機材料を塗布処理するのに用いられる従来型のインクジェットプリンタの場合は、水性溶媒を脱気する必要がある。しかし、一連のノズル２００はより大きな処理上の余裕を有しているので、一連のノズル２００の適正な操作のために液体媒体を脱気する必要はない。
【００３５】
一連のノズル２００を用いて印刷される有機層には、有機活性層（例えば、放射放出有機活性層または放射応答有機活性層）、フィルタ層、バッファ層、電荷注入層、電荷輸送層、電荷ブロック層、またはこれらの任意の組合せが包含され得る。有機層は、抵抗器、トランジスタ、キャパシタ、ダイオードなどの一部として用いることができる。
【００３６】
放射放出有機活性層については、適切な放射放出材料として、１つ以上の小分子材料、１つ以上のポリマー材料、またはこれらの組合せが包含される。小分子材料には、例えば、米国特許第４，３５６，４２９号（「Ｔａｎｇ」）明細書、同第４，５３９，５０７号（「Ｖａｎ Ｓｌｙｋｅ」）明細書、米国特許出願公開第２００２／０１２１６３８号（「Ｇｒｕｓｈｉｎ」）明細書、または米国特許第６，４５９，１９９号（「城戸」）明細書に記載される材料の任意の１つ以上の材料が包含され得る。また、小分子材料の代わりのポリマー材料には、米国特許第５，２４７，１９０号（「Ｆｒｉｅｎｄ」）明細書、同第５，４０８，１０９号（「Ｈｅｅｇｅｒ」）明細書、または同第５，３１７，１６９号（「中野」）明細書に記載される材料の任意の１つ以上の材料が包含され得る。１つの典型的な材料種は半導電性の共役ポリマーであり、このようなポリマーの例として、ポリ（パラフェニレンビニレン）（ＰＰＶ）、ＰＰＶのコポリマー、ポリフルオレン、ポリフェニレン、ポリアセチレン、ポリアルキルチオフェン、ポリ（ｎ−ビニルカルバゾール）（ＰＶＫ）などが包含される。１つの特定の実施形態においては、いかなるゲスト材料も含まない放射放出活性層が青色の光を放出することができる。
【００３７】
放射応答有機活性層については、適切な放射応答材料として、共役ポリマーまたはエレクトロルミネッセンス材料が包含され得る。このような材料には、例えば、共役ポリマー、または、エレクトロルミネッセンス性およびフォトルミネッセンス性の材料が包含される。具体的な例として、ポリ（２−メトキシ，５−（２−エチルヘキシルオキシ）−１，４−フェニレンビニレン）（「ＭＥＨ−ＰＰＶ」）、または、ＣＮ−ＰＰＶを含むＭＥＨ−ＰＰＶ組成物が包含される。
【００３８】
正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、またはこれらの任意の組合せについては、適切な材料として、ポリアニリン（「ＰＡＮＩ」）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（「ＰＥＤＯＴ」）、ポリピロール、例えばテトラチアフルバレンテトラシアノキノジメタン（「ＴＴＦ−ＴＣＱＮ」）のような有機電荷移動化合物、「城戸」に記載されるような正孔輸送材料、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００３９】
電子注入層、電子輸送層、正孔ブロック層、またはこれらの任意の組合せについては、適切な材料として次のようなものが包含される。すなわち、金属キレート化オキシノイド化合物（例えば、Ａｌｑ3、またはアルミニウム（ＩＩＩ）ビス（２−メチル−８−キノリナート）４−フェニルフェノレート）（「ＢＡｌｑ」））；フェナントロリンベースの化合物（例えば、２，９−ジメチル−４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリン（「ＤＤＰＡ」）または９，１０−ジフェニルアントラセンス（「ＤＰＡ」））；アゾール化合物（例えば、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−５−ビフェニル−１，３，４−オキサジアゾール（「ＰＢＤ」）または３−（４−ビフェニル）−４−フェニル−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール（「ＴＡＺ」））；「城戸」に記載されるような電子輸送材料；ジフェニルアントラセン誘導体；ジナフチルアントラセン誘導体；４，４−ビス（２，２−ジフェニルエテン−１−イル）−ビフェニル（「ＤＰＶＢＩ」）；９，１０−ジ−ベータ−ナフチルアントラセン；９，１０−ジ−（ナフェンチル）アントラセン；９，１０−ジ−（２−ナフチル）アントラセン（「ＡＤＮ」）；４，４’−ビス（カルバゾール−９−イル）ビフェニル（「ＣＢＰ」）；９，１０−ビス−［４−（２，２−ジフェニルビニル）−フェニル］−アントラセン（「ＢＤＰＶＰＡ」）；アントラセン、Ｎ−アリールベンゾイミダゾール（「ＴＰＢＩ」のような）；１，４−ビス−［２−（９−エチル−３−カルバゾイル）ビニレニル］ベンゼン；４，４’−ビス−［２−（９−エチル−３−カルバゾイル）ビニレニル］−１，１’−ビフェニル；９，１０−ビス［２，２−（９、９−フルオレニレン）ビニレニル］アントラセン；１，４−ビス−［２，２−（９，９−フルオレニレン）ビニレニル］ベンゼン；４，４’−ビス［２，２−（９，９−フルオレニレン）ビニレニル］−１，１’−ビフェニル；ペリレン、置換ペリレン；テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルペリレン（「ＴＢＰｅ」）；ビス（３，５−ジフルオロ−２−（２−ピリジル）フェニル−（２−カルボキシピリジル））イリジウムＩＩＩ（「Ｆ（Ｉｒ）Ｐｉｃ」）；ピレン、置換ピレン；スチリルアミン；フッ素化フェニレン；オキシダゾール；１，８−ナフタルイミド；ポリキノリン；ＰＰＶ中の１つ以上のカーボンナノチューブ、またはこれらの任意の組合せ、である。
【００４０】
抵抗器、トランジスタ、キャパシタなどのような電子部品については、有機層は、チオフェン（例えば、ポリチオフェン、ポリ（アルキルチオフェン）、アルキルチオフェン、ビス（ジチエンチオフェン）、アルキルアントラジチオフェンなど）、ポリアセチレン、ペンタセン、フタロシアニン、またはこれらの任意の組合せの１つ以上を包含することができる。
【００４１】
有機染料の例としては、４−ジシアンメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ）、クマリン、ピレン、ペリレン、ルブレン、これらの誘導体、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００４２】
有機金属材料の例としては、少なくとも１つの金属に配位結合された１つ以上の官能基を含む官能基化ポリマーが包含される。使用し得ると考えられる典型的な官能基には、カルボン酸、カルボン酸塩、スルホン酸基、スルホン酸塩、ＯＨ部分を有する基、アミン、イミン、ジイミン、Ｎ−オキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシド、β−ジカルボニル基、またはこれらの任意の組合せが包含される。使用し得ると考えられる典型的な金属には、ランタニド金属（例えば、Ｅｕ、Ｔｂ）、第７族の金属（例えば、Ｒｅ）、第８族の金属（例えば、Ｒｕ、Ｏｓ）、第９族の金属（例えば、Ｒｈ、Ｉｒ）、第１０族の金属（例えば、Ｐｄ、Ｐｔ）、第１１族の金属（例えば、Ａｕ）、第１２族の金属（例えば、Ｚｎ）、第１３族の金属（例えば、Ａｌ）、またはこれらの任意の組合せが包含される。このような有機金属材料には、トリス（８−ヒドロキシキノラート）アルミニウム（Ａｌｑ3）のような金属キレート化オキシノイド化合物と、イリジウムのフェニルピリジン配位子、フェニルキノリン配位子またはフェニルピリミジン配位子との錯体のようなシクロメタル化イリジウムまたは白金エレクトロルミネッセンス性化合物であって、公刊されたＰＣＴ出願の国際公開第０２／０２７１４号パンフレットに開示されている化合物と、例えば、公刊された米国特許出願公開第２００１／００１９７８２号明細書、欧州特許出願公開第１１９１６１２号明細書、国際公開第０２／１５６４５号パンフレット、同第０２／３１８９６号パンフレットおよび欧州特許出願公開第１１９１６１４号明細書に開示されている有機金属錯体と、これらの任意の混合物とが包含される。
【００４３】
共役ポリマーの例としては、ポリ（フェニレンビニレン）、ポリフルオレン、ポリ（スピロビフルオレン）、これらのコポリマー、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００４４】
液体媒体の選択も、液体混合物の１つ以上の適切な特性を達成するための重要な因子であり得る。液体媒体を選択する際に考慮するべき因子には、例えば、結果として得られる溶液、エマルジョン、懸濁液または分散系の粘度、ポリマー材料の分子量、固形分のローディング、液体媒体のタイプ、液体媒体の沸点、下層の基板の温度、ゲスト材料を受け取る有機層の厚さ、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００４５】
いくつかの実施形態においては、液体媒体は少なくとも１つの溶媒を包含する。典型的な有機溶媒としては、ハロゲン化溶媒、コロイド形成ポリマー酸、炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒、エーテル溶媒、環状エーテル溶媒、アルコール溶媒、グリコール溶媒、ケトン溶媒、ニトリル溶媒、スルホキシド溶媒、アミド溶媒、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００４６】
典型的なハロゲン化溶媒としては、四塩化炭素、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ビス（２−クロロエチル）エーテル、クロロメチルエチルエーテル、クロロメチルメチルエーテル、２−クロロエチルエチルエーテル、２−クロロエチルプロピルエーテル、２−クロロエチルメチルエーテル、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００４７】
典型的なコロイド形成ポリマー酸としては、フッ素化スルホン酸（例えば、ペルフルオロ化エチレンスルホン酸のようなフッ素化アルキルスルホン酸）、またはこの任意の組合せが包含される。
【００４８】
典型的な炭化水素溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカヒドロナフタレン、石油エーテル、リグロイン、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００４９】
典型的な芳香族炭化水素溶媒としては、ベンゼン、ナフタレン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン（イソプロピルベンゼン）、メシチレン（トリメチルベンゼン）、エチルトルエン、ブチルベンゼン、シメン（イソプロピルトルエン）、ジエチルベンゼン、イソブチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、ｓｅｃ−ブチルベンゼン、ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン、アニソール、４−メチルアニソール、３，４−ジメチルアニソール、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５０】
典型的なエーテル溶媒としては、ジエチルエーテル、エチルプロピルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、グリム、ジグリム、ベンジルメチルエーテル、イソクロマン、２−フェニルエチルメチルエーテル、ｎ−ブチルエチルエーテル、１，２−ジエトキシエタン、ｓｅｃ−ブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、エチルｎ−プロピルエーテル、エチルイソプロピルエーテル、ｎ−ヘキシルメチルエーテル、ｎ−ブチルメチルエーテル、メチルｎ−プロピルエーテル、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５１】
典型的な環状エーテル溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、テトラヒドロピラン、４メチル−１，３−ジオキサン、４−フェニル−１，３−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、２−メチル−１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキサン、２，５−ジメトキシテトラヒドロフラン、２，５−ジメトキシ−２，５−ジヒドロフラン、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５２】
典型的なアルコール溶媒としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール（すなわち、イソブタノール）、２−メチル−２−プロパノール（すなわち、ｔｅｒｔ−ブタノール）、１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２，２−ジメチル−１−プロパノール、１−ヘキサノール、シクロペンタノール、３−メチル−１−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、２−メチル−１−ブタノール、２，２−ジメチル−１−プロパノール、３−ヘキサノール、２−ヘキサノール、４−メチル−２−ペンタノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−エチルブタノール、２，４−ジメチル−３−ペンタノール、３−ヘプタノール、４−ヘプタノール、２−ヘプタノール、１−ヘプタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、２，６−ジメチル−４−ヘプタノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキサノール、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５３】
アルコールエーテル溶媒も使用することができる。典型的なアルコールエーテル溶媒としては、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、１−メトキシ−２−ブタノール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、１−エトキシ−２−プロパノール、３−メトキシ−１−ブタノール、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、３−メトキシ−３−メチルブタノール、エチレングリコールモノ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５４】
典型的なグリコール溶媒としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＤＰＧＭＥ）、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５５】
典型的なケトン溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソプロピルメチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、３−ヘキサノン、ジイソプロピルケトン、２−ヘキサノン、シクロペンタノン、４−ヘプタノン、イソアミルメチルケトン、３−ヘプタノン、２−ヘプタノン、４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノン、５−メチル−３−ヘプタノン、２−メチルシクロヘキサノン、ジイソブチルケトン、５−メチル−２−オクタノン、３−メチルシクロヘキサノン、２−シクロヘキセン−１−オン、４−メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサノン、イソホロン、ベンジルアセトン、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５６】
典型的なニトリル溶媒としては、アセトニトリル、アクリロニトリル、トリクロロアセトニトリル、プロピオニトリル、ピバロニトリル、イソブチロニトリル、ｎ−ブチロニトリル、メトキシアセトニトリル、２−メチルブチロニトリル、イソバレロニトリル、Ｎ−バレロニトリル、ｎ−カプロニトリル、３−メトキシプロピオニトリル、３−エトキシプロピオニトリル、３，３’−オキシジプロピオニトリル、ｎ−ヘプタンニトリル、グリコロニトリル、ベンゾニトリル、エチレンシアノヒドリン、スクシノニトリル、アセトンシアノヒドリン、３−ｎ−ブトキシプロピオニトリル、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５７】
典型的なスルホキシド溶媒としては、ジメチルスルホキシド、ジ−ｎ−ブチルスルホキシド、テトラメチレンスルホキシド、メチルフェニルスルホキシド、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５８】
典型的なアミド溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アシルアミド、２−アセトアミドエタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｍ−トルアミド、トリフルオロアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルドデカンアミド、エプシロン−カプロラクタム、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルホルムアミド、ホルムアミド、ピバルアミド、Ｎ−ブチルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ−ホルミルエチルアミン、アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホルムアミド、１−ホルミルピペリジン、Ｎ−メチルホルムアニリド、またはこれらの任意の組合せが包含される。
【００５９】
考えられるクラウンエーテルとしては、本発明によって処理される組合せの一部としてのエポキシ化合物出発材料の塩化物含有量の低減を補助するように機能することが可能な任意の１つ以上のクラウンエーテルが包含される。典型的なクラウンエーテルとしては次のようなものが包含される。すなわち、ベンゾ−１５−クラウン−５；ベンゾ−１８−クラウン−６；１２−クラウン−４；１５−クラウン−５；１８−クラウン−６；シクロヘキサノ−１５−クラウン−５；４’，４''（５''）−ジｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ−１８−クラウン−６；４’，４''（５''）−ジｔｅｒｔ−ブチルジシクロヘキサノ−１８−クラウン−６；ジシクロヘキサノ−１８−クラウン−６；ジシクロヘキサノ−２４−クラウン−８；４’−アミノベンゾ−１５−クラウン−５；４’−アミノベンゾ−１８−クラウン−６；２−（アミノメチル）−１５−クラウン−５；２−（アミノメチル）−１８−クラウン−６；４’−アミノ−５’−ニトロベンゾ−１５−クラウン−５；１−アザ−１２−クラウン−４；１−アザ−１５−クラウン−５；１−アザ−１８−クラウン−６；ベンゾ−１２−クラウン−４；ベンゾ−１５−クラウン−５；ベンゾ−１８−クラウン−６；ビス（（ベンゾ−１５−クラウン−５）−１５−イルメチル）ピメレート；４−ブロモベンゾ−１８−クラウン−６；（＋）−（１８−クラウン−６）−２，３，１１，１２−テトラカルボン酸；ジベンゾ−１８−クラウン−６；ジベンゾ−２４−クラウン−８；ジベンゾ−３０−クラウン−１０；ａｒ−ａｒ’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ−１８−クラウン−６；４’−ホルミルベンゾ−１５−クラウン−５；２−（ヒドロキシメチル）−１２−クラウン−４；２−（ヒドロキシメチル）−１５−クラウン−５；２−（ヒドロキシメチル）−１８−クラウン−６；４’−ニトロベンゾ−１５−クラウン−５；ポリ−［（ジベンゾ−１８−クラウン−６）−コ−ホルムアルデヒド］；１，１−ジメチルシラ−１１−クラウン−４；１，１−ジメチルシラ−１４−クラウン−５；１，１−ジメチルシラ−１７−クラウン−５；シクラム；１，４，１０，１３−テトラチア−７，１６−ジアザシクロオクタデカン；ポルフィン；またはこれらの任意の組合せである。
【００６０】
別の実施形態においては、液体媒体として水が包含される。水不溶性のコロイド形成ポリマー酸と複合された導電性ポリマーを、基板上に堆積させて、電荷輸送層として用いることが可能である。
【００６１】
以上においては、多くの異なる種類の液体媒体（例えば、ハロゲン化溶媒、炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒、水など）が記述されている。異なる種類からの２つ以上の液体媒体の混合物も使用することができる。
【００６２】
液体混合物は、また、バインダ材料、充填剤材料、またはこれらの組合せのような不活性材料を包含することができる。液体混合物に関しては、不活性材料が、その液体混合物の少なくとも一部によって形成されるかあるいはそれを受け入れる層の電子的特性、放射放出特性、または放射応答特性に重要な影響は及ぼすことはない。
【００６３】
本明細書において、明確化のために別個のいくつかの実施形態の文脈に記述されている本発明の特定の特徴は、単一の実施形態における組合せにおいても提供し得ることが理解されるべきである。逆に、簡潔さのために単一の実施形態の文脈に記述される本発明のさまざまな特徴は、個別にも、あるいは任意のサブコンビネーションにおいても提供することができる。さらに、範囲として述べられた値への言及は、その範囲内のそれぞれの値をいずれも包含する。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷材料の連続的な流れを基板上に分配することができる一連のノズルと、
前記印刷材料の飛散を低減するための吸収材料と、
前記吸収材料の吸収能力を再生する装置と、
を含む装置。
【請求項２】
前記一連のノズルが少なくとも３個のノズルを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記一連のノズルが少なくとも６個のノズルを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記一連のノズルが少なくとも９個のノズルを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記一連のノズルが少なくとも１２個のノズルを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記吸収材料が滑らかな表面を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記吸収材料が不規則な表面を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記吸収材料が、スポンジ、天然繊維および合成繊維からなる群から選択される、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記吸収能力を再生する装置が、前記吸収材料を動かすための回転装置である、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記回転装置が、前記吸収材料を通して前記印刷材料を吸引するための真空源をさらに含む、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の装置を用いる液相コーティング方法であって、
一連のノズルを準備し、
吸収材料を準備し、
前記吸収材料の吸収能力を再生する装置を準備し、
印刷材料の連続的な流れを基板上に分配し、
前記印刷材料の飛散を低減するために、余剰の印刷材料を前記吸収材料の上に導くこと、
を含む方法。
【請求項１２】
前記連続的な流れの分配が第１方向において行われ、さらに余剰の印刷材料が前記吸収材料の上に導かれ、続いて第２方向における印刷が行われる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記第１方向が前記第２方向と反対向きである、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記吸収能力を再生する装置が、前記吸収材料を動かすための回転装置である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記吸収能力を再生する装置が、前記吸収材料を通して前記印刷材料を吸引するための真空源である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１】
印刷材料の連続的な流れを基板上に分配することができる一連のノズルと、
前記印刷材料の飛散を低減するための吸収材料と、
前記吸収材料の吸収能力を再生する装置と、
を含む装置。
【請求項２】
前記一連のノズルが少なくとも３個のノズルを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記一連のノズルが少なくとも６個のノズルを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記一連のノズルが少なくとも９個のノズルを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記一連のノズルが少なくとも１２個のノズルを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記吸収材料が滑らかな表面を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記吸収材料が不規則な表面を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記吸収材料が、スポンジ、天然繊維および合成繊維からなる群から選択される、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記吸収能力を再生する装置が、前記吸収材料を動かすための回転装置である、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記回転装置が、前記吸収材料を通して前記印刷材料を吸引するための真空源をさらに含む、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の装置を用いる液相コーティング方法であって、
一連のノズルを準備し、
吸収材料を準備し、
前記吸収材料の吸収能力を再生する装置を準備し、
印刷材料の連続的な流れを基板上に分配し、
前記印刷材料の飛散を低減するために、余剰の印刷材料を前記吸収材料の上に導くこと、
を含む方法。
【請求項１２】
前記連続的な流れの分配が第１方向において行われ、さらに余剰の印刷材料が前記吸収材料の上に導かれ、続いて第２方向における印刷が行われる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記第１方向が前記第２方向と反対向きである、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記吸収能力を再生する装置が、前記吸収材料を動かすための回転装置である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記吸収能力を再生する装置が、前記吸収材料を通して前記印刷材料を吸引するための真空源である、請求項１２に記載の方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公表番号】特表２０１２−５１４３００（Ｐ２０１２−５１４３００Ａ）
【公表日】平成２４年６月２１日（２０１２．６．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５４３７０２（Ｐ２０１１−５４３７０２）
【出願日】平成２１年１２月２８日（２００９．１２．２８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００９／０６９５６８
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／０７５５８９
【国際公開日】平成２２年７月１日（２０１０．７．１）
【出願人】（３９００２３６７４）イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー (2,692)
【氏名又は名称原語表記】Ｅ．Ｉ．ＤＵ ＰＯＮＴ ＤＥ ＮＥＭＯＵＲＳ ＡＮＤ ＣＯＭＰＡＮＹ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２４年６月２１日（２０１２．６．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１２月２８日（２００９．１２．２８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００９／０６９５６８
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／０７５５８９
【国際公開日】平成２２年７月１日（２０１０．７．１）
【出願人】（３９００２３６７４）イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー (2,692)
【氏名又は名称原語表記】Ｅ．Ｉ．ＤＵ ＰＯＮＴ ＤＥ ＮＥＭＯＵＲＳ ＡＮＤ ＣＯＭＰＡＮＹ
【Ｆターム（参考）】
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