説明

重イオンガントリー用ビーム走査システム

【課題】重イオン癌治療設備用のイオンビーム用走査マグネットシステムを提供する。
【解決手段】システムは、走査マグネット1−2、3−4と、この下流に位置する90度ダイポール6、この下流にステイプル止めされたビーム診療板タイプ検知装置7から成る。90度ダイポールは走査域に適応する開口を有し、ギャップの付いたヨークエレメントを包含して電界の均一性を増強する。走査マグネットは、約1.5度の最大曲げ角度、約22mの曲率半径、約0.6mの路長を有し、120乃至150mmのギャップ高とギャップ巾を有し、0.3mm迄の範囲の厚さで、2%までのシリコンとの合金製鋼板で作られた1個の接着されたヨークエレメントから成る。このヨークエレメントは、300乃至400mmの範囲の巾、200乃至250mmの範囲の高さ、500乃至600mmの範囲の長さを持つ。走査マグネットのコイル巻き数は、50乃至70の範囲とする。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本願発明はクレーム1の目的物による、重イオン癌治療設備に用いる重イオンガントリー(heavy ion gantry)用ビーム走査システムに関する。
【背景技術】
【0002】
米国特許4,870,287(特許文献1)の記載から、単一のプロトン源から、選択的に発生させて運ぶプロトンビームの、プロトンビーム治療システム、および、ステーション内の固定方向に保持されている患者に、異なる角度でプロトンビームを与える回転可能なガントリーを有する、複数の患者処理ステーションから一つを選ぶ加速装置が知られている。
【0003】
更に、米国特許4,870,287から、コンピューター化された断層撮影走査のような新しい像技術が知られており、その走査は処理すべき位置の正確な場所を確認する走査技術を用いるものであるが、米国特許4,870,287には、走査マグネットを使って直接、かつ正確に治療ビームを、処理すべき位置の正確な所に移動したり、或いは曲げたりするヒントは示されていない。
【0004】
H.エイコッフ等(H. Eickhoff et al.)の著書"ハイデルベルグにおける軽イオン癌治療用に提案された加速装置"(Proc. Of the IEEE Part. Acc. Conf.NY, 1999, p 2513-2515)(非特許文献1)から、 強度―制御されたラスター(raster)走査技術は、治療システムのイオンビームを動かし、あるいは曲げることが知られている。しかしながら、走査マグネットも規定されておらず、治療システム内のこれら走査マグネットの記載もない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】米国特許4,870,287号明細書
【非特許文献】
【0006】
【非特許文献1】H.エイコッフ等(H. Eickhoff et al.)"ハイデルベルグにおける軽イオン癌治療用に提案された加速装置"(Proc. Of the IEEE Part. Acc. Conf.NY, 1999, p 2513-2515)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
この様に、本発明の目的は、重イオン癌治療設備に使用する高エネルギー用走査マグネットを、規定し、与えることにある。特に、本発明の目的は、最後部の曲げマグネットの上流に位置する走査マグネットの組み合わせを提供するものである。
【0008】
この目的は、独立クレーム1の主題目的物により達成される。より好ましい態様の形は、従属クレームに開示される。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明によれば、重イオンガントリー用走査システムは、最大約1.5度の曲げ角度(α);約22mの曲率半径;約0.6mの路長;および120mm〜150mmの範囲のギャップ高さ(h)とギャップ巾(w)を有する重イオン癌治療システムに用いる高エネルギーイオンビーム用走査マグネットが与えられる。更に、各走査マグネット(1−2,3−4)は、0.3mmまでの厚さの鋼板で、2%までのシリコンとの合金製の一個の接着されたヨーク(yoke) エレメントからなる。このヨークエレメントは、300mm〜400mmの範囲の巾;200mm〜250mmの範囲の高さ;と500〜600mmの範囲の長さを有する。各走査マグネット用コイルは、50〜70の範囲の巻き数を有する。更に、システムは、走査エアリアに適応する装置を持ち、ギャップの付いたヨークを包含している該走査マグネットの下流に位置する90度ダイポールからなり、電界の均一性を増大する。更に付け加えると、システムは、該90度曲げマグネットの下流にステープル止めされた、ビーム診断板タイプ検知器を含んでいる。
【0010】
そのような走査システムは、少なくとも二個の走査マグネットが、水平および垂直ダイポールマグネットとして用いられるとき、ISO-板、またはISO-センターで、200×200mmの走査エアリアの方向に、イオンビームをコントロールする利益がある。
【0011】
より好ましい態様では、該走査マグネットは、後部の90度曲げマグネットの上流の、重イオン癌治療システムのガントリシステム内に置かれる。この位置は、患者の処理位置用のスペースが、走査マグネットの容積によって、削られたり、限定されたりしない利益がある。ガントリの全半径内の範囲が最小限となり、ガントリ重量が減少される。該走査マグネットと、規定ギャップを持つ適当なヨークを有し、さらに該90度曲げダイポールの下流の走査と平行な、適当な出口エッジを有する該90度曲げダイポールとの組合せが可能である。
【0012】
好ましくは、該走査マグネットのコイルは、500〜600Aの範囲の最大コイル電流が流れ得るように設計されている。そのような高コイル電流は、該コイルの50から70回転に供給され、約1.5度のイオンビームの最大曲げ角度が得られる。
【0013】
そのようなコイルの熱損失を管理するため、走査マグネットは、複数の冷却チャネル、好ましくは少なくとも6個の冷却チャネル、および5 L/min〜10 L/minの範囲の全冷却水供給によって水冷される。そのような水冷コイルは、水素または窒素冷却の超伝導コイルと比較して、患者を処理する間の作業の安全性が増大する利益がある。
【0014】
更なる好ましい態様において、コイルは、超伝導でなく、10KW〜12KWの最大直流電力消費を必要とする、30mΩ〜50mΩの範囲のコイル抵抗を持つ。
【0015】
該最大曲げ角度を保証する為、該走査マグネットの全コイルインダクタンスは3〜4 mHである。
【0016】
コイルの全供給電圧は、それぞれの曲げ方向の最大コイル電流を維持するために、-350V〜-400Vまたは+350V〜+400Vの範囲が好ましい。
【0017】
更なる好ましい態様において、該走査マグネットは一個の単一ヨーク部分から成る。このことは、走査システムの作業コストを最小にする簡単な構造、簡単な維持、ならびに組立―取り扱いにおける利益がある。
【0018】
90度ダイポールは、約±2×10-の電界の均一性を与える。このような電界の均一性は、像エラーと楕円形ビームスポットをなくする。曲げダイポールのヨーク内のギャップは、23×23cmのような大きな走査面積の均等度が、ガントリーのISOセンターにおける上記の限界内にあるという利益がある。
エッジ角を持つ90度曲げダイポールの出口における飽和効果が生ずるので、ヨークの断面が局部的に増大する。更に、最大電界が1.8テスラに限定され、飽和効果を最小にする。
【0019】
曲げダイポールの全重量は、約72トンある。ヨークは、6個の部分に分かれており、それぞれの部分は4つの調節手段を持つ。
【図面の簡単な説明】
【0020】
【図1】図1は、走査システムの概略図を示す。
【図2】図2Aから2Eは走査マグネトの配置の異なる形を示す。
【図3】図3は、出口エッジ角の機能としてのビーム角を示す。
【図4】図4は、出口エッジ角の機能としての走査角を示す。
【図5】図5は、全フラックス密度の横方向分布を示す。
【図6】図6は、静止状態下の縁取り域(fringing field)の減衰を示し、走査マグネットの1つのヨークエッジの場所を示す。
【図7】図7は、ヨークのエデイ(Eddy)電流によっておこる流動電流密度変化を示す。
【図8】図8は、走査域における計算によるビーム強度分布を示す。
【図9】図9は、ガントリシステムを貫通する特定イオンビーム通路を示す。
【図10】図10は、本発明の態様による走査システムを示す。
【発明を実施するための形態】
【0021】
図10に示す、直交する、水平および垂直のダイポールマグネット1−2,および3−4から成るビーム走査システム5は、90度ダイポールマグネット6の前にある。90度ダイポールマグネット6の開口(23×23cm)とビーム走査システムは、ISO面に20×20cmの走査域に計画されている。90度ダイポールマグネット6の出口エッジ角は、強力に最終ビーム角を決定する。21度の出口エッジ角θで、両横断面のビーム角度は小さく(≒2.5mrad)、両横断面とも等しい。
【0022】
【表1】

【0023】
処理領域に対するビームラインは、図1に示すビーム走査システムとほぼ同じ装置を備えている。これらビーム走査機は、患者の位置の上流数メーターのところにある2個の固定した、直交に配置されたダイポールマグネットのセットの外にある。その違いは、ガントリーの場合、最後の走査ダイポールマグネットの下流(≒7m)漂流スペースが、90度曲げマグネットの大開口部で置き換えられているか、あるいは開口で満たされているという事実により生ずる。
【0024】
ISO面の或る横断位置に達するために必要な操舵角は、イオン光学計算式から求めることが出来る。ダイポールのエッジ角の効果のため、計算される移動は、簡単な三角法評価とは、正確に一致しない。ビームを或る特定の位置に動かすに必要な、計算された走査角は、下記の表2に表記されている。エッジ角の効果のほかに、拡張されたフリンジング域が、ISO面のビーム位置およびビーム形状に影響がある。フリンジング域の影響は、コンピューターコードによる方法の、第3オーダーで調べることが出来る。
【0025】
表の左欄は、一次近似によって得られる走査角を示す。中央の欄にはより高次の計算結果が含まれている。より高次の異常が、一次式モデルから2mmまでのビーム位置の違いを生じていることを知ることが出来る。右欄は、逸脱効果を補償するために必要な走査角の、測定された違いが示されている。変移以外のより高次の像逸脱が、ビームを走査域のコーナーで楕円形にしているのかもしれない。この効果は、フリンジング域の管球容器の大きさに強く依存している。参照ガントリー光学的特性として使用されたマグネットセッテングに対しては、ダイポール浮遊域の管球容器のサイズを最小にすることが、一つの目標となった。
【0026】
【表2】

【0027】
図1は走査形状の概略図を示す。走査されたビームは20×20cm2をカバーし、≒±0.85度の偏光角に相当する。ビーム位置相互間の代表的間隔の大きさは1―5mmであるので、形状の精度は±0.25mmのオーダーとなると期待される。
【0028】
活性な光学的エレメントのない場合の移動率を想定すると、ISO―面における水平(x)ならびに垂直(y)方向のビームの移動は、以下の式で表すことができる。
X = z1 tan(ax) および y = z2 tang(ay)
【0029】
ここで、z1はISO平面からの水平走査の距離(z1 = 8.955m)、Z2はISO平面からの垂直走査の距離(Z2 =9.805m)であり、axおよびayは対応する走査角である。規定される走査マグネットは、ビームを最大磁気剛性6.6 Tm、コイル電流540 Aの時1.5°曲げられる。従って上記の等式は次のように書くことができる。
X = 8.955 m tan (1.5°/540 AIx)、および y =9.805 m tan
(1.5°/540 A Iy)
【0030】
ここでIx/yは、瞬間的走査電流である。許容できるコイル電流公差の計算によると、0.1 mmの最大x、y移動が考えられる。対応する電流はIy = 210 mAおよびIx = 230 mAと計算することができる。
【0031】
ダイポールエッジ角は、イオンビームの垂直焦点、および水平焦点ボケを生ずる。さらに、フリンジング域の影響が考えられるかもしれない。フリンジング域は、ISO面のビーム位置の走査角からの僅かな非一次依存をもたらす。この効果は、寧ろ小さく、ここでは、無視することが出来る。エッジ角の影響、特に出口における影響は、ISO面の或る走査角におけるビームの変移の減少をもたらす。例えば、ISO面におけるx=0.1mおよびy=0.1mの最大変移は、走査角ay = 15.515 mrad = 0.889°およびax = 21.27 mrad = 1.219°に達する。純粋な漂流概算によれば、これらの角度は、ay = 10.19 mrad = 0.584°およびax = 11.17 mrad = 0.64°となる。この様に、最大変位における公称電流からの許容できる偏りは、垂直面においては1.52倍、水平面においては1.9倍緩和される。
【0032】
図2A―2Cは、自明のように、走査マグネット1−2,および3−4のレイアウトの別の図を示す。図2Dは図2AのX方向からの図を示す。図2Eは走査マグネットのコイルの断面図を示す。
【0033】
図3は、出口エッジ角の機能としてのビーム角を示したものである。エッジ角は、ビームが光学軸に関して最も小さい角度を有し、ほぼ平行する走査を与えるように選ばれる。図は、走査システムと組み合わされた90度曲げマグネットに対し21度のエッジ角では、ビーム角がほぼ等しく且つ小さい(平行走査)ことを示している。
【0034】
図4は、別の出口エッジ角の機能としての最大走査角を示す。最大走査角は、エッジ焦点または、焦点はずれに大きく依存する。
【0035】
図5は、全体流動密度の横方向の分布を示す。カーブは2箇所で、2電界密度での、横方向の流動密度について計算されたものである。
【0036】
図6は、光学軸に沿った90度ガントリーダイポールマグネットの静止状態フリンジ域減衰を示す。ヨークエッジの位置とスクリーニング板の位置が示されている。電界が急激に減少し、患者の範囲で法律的に許される限界以下に落ちることが示されている。
【0037】
図7は、流動密度変化を示す。特に、電流を切った後のヨーク内の渦電流(Eddy current)の効果を示す。電流を切った後、90度ダイポールマグネットの静的磁場は、一時的の処理に影響される。ヨーク内の渦電流は、時間依存の磁場を発生し、主および浮遊域を変形する。渦電流は、3秒までの局部減少を与える。そのため、人はビーム治療が始められる迄、待たなければならない。渦電流はランプ速度を増強し、流動密度を増大する。
【0038】
図8は、計算されたビーム強度分布を示す。図8において、9つの枠は、各枠の5×5ミリメートル全体寸法を示す。
【0039】
図9は、ガントリーシステムを貫通する特定イオンビーム路を示す。図9では、ISO面の一番遠い位置へのビーム走査の例を示す。
【0040】
図10は、本発明の態様による走査システム5を示す。図10において、2個の走査マグネット1−2,および3−4、その内の1個がイオンビームの垂直偏光、他の1個が水平偏光用であることは自明である。該走査マグネットの下流に90度曲げダイポール6が位置しており、走査されたイオンビームに適当な大開口と、電界の均一性を増大する、ギャップの付いたヨークエレメントが設けられる。ビーム診断板タイプ検知器7は、該90度曲げマグネット5の下流にステープル留めされている。該90度曲げマグネット5の入口エッジ角δは、出口エッジ角θとほぼ同様の、21度の大きさを持っている。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
約1.5度の最大曲げ角度(α);約22mの曲率半径;約0.6mの光路長;120mm〜150mmの範囲のギャップ高さ(h)とギャップ巾(w);0.3mmまでの厚さの、2%までのシリコンを含むスチール合金板からなる一枚の接着されたヨークエレメントで、300mm〜400mmの範囲の巾、200mm〜250mmの範囲の高さ、および500mm〜600mmの範囲の長さのヨークエレメント;および50〜70の範囲の巻き数のコイル(5)を有する2つの走査マグネット(1−2;3−4)からなる、重イオンガントリー用走査システムであり、
走査システム(11)は更に、走査域に適合する開口と、電界の均一性を増大するギャップを有するヨークエレメントを有する、該走査マグネット(1−2;3−4)の下流に位置する90度ダイポール(6);および該90度曲げマグネットの下流にステイプル留めされたビーム診断板タイプ検知器(7)から成る走査システム。
【請求項2】
該走査マグネット(1−2;3−4)が、最後部の曲げマグネット上流の重イオン癌治療システムのガントリーに位置していることを特徴とする請求の範囲1項記載のシステム。
【請求項3】
走査マグネット(1−2;3−4)のコイル(5)が、500〜600Aの範囲の最大コイル電流を許容するように設計されていることを特徴とする請求の範囲1項または2項記載のシステム。
【請求項4】
全コイル抵抗が30mΩ〜50mΩの範囲にある前記特許請求の範囲の何れか一項記載のシステム。
【請求項5】
全コイルインダクタンスが3mH〜4mHの範囲にあることを特徴とする前記特許請求の範囲の何れか一項記載のシステム。
【請求項6】
該走査マグネットの該コイル(5)に対する全供給電圧が-350V〜-400Vまたは+350V〜+400Vの範囲にあることを特徴とする前記特許請求の範囲の何れか一項記載のシステム。
【請求項7】
該走査マグネット(1−2;3−4)が複数の水冷室から成り、5 L/min〜10 L/minの範囲の全冷却水供給量により水冷されることを特徴とする前記特許請求の範囲の何れか一項記載のシステム。
【請求項8】
該走査マグネット(1−2;3−4)の最大直流電力電圧が10KW〜12KWであることを特徴とする特許請求の範囲の何れか一項記載のシステム。
【請求項9】
該走査マグネット(1−2;3−4)が一個の単独ヨークセグメントから成ることを特徴とする前記特許請求の範囲の何れか一項記載のシステム。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【図10】
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【公開番号】特開2009−162770(P2009−162770A)
【公開日】平成21年7月23日(2009.7.23)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2009−51605(P2009−51605)
【出願日】平成21年3月5日(2009.3.5)
【分割の表示】特願2002−568382(P2002−568382)の分割
【原出願日】平成14年2月6日(2002.2.6)
【出願人】(599138272)ジー エス アイ ゲゼルシャフト フュア シュベールイオーネンフォルシュンク エム ベー ハー (2)
【Fターム(参考)】