電子ビーム照射用装置および方法
本発明は、ウエブ（Ｗ）の少なくとも第１面（Ｗ１）を電子ビーム照射するための装置に関し、この装置は、このウエブ（Ｗ）を通すようにしたトンネルを含み、上記トンネルは、ウエブ入口部（５）、ウエブ出口部（６）およびそれを通して電子をこのトンネルの中へ放射するようにした電子出口窓（２１）を備え、少なくとも第１電子ビーム放射源（２）を受けるようにした中央部を備える。このトンネルは、この入口部（５）および出口部（６）の各々の少なくとも２個所で、このウエブ（Ｗ）の電子ビーム照射中にできたＸ線をこのトンネルを出る前に少なくとも２度このトンネル壁に当らせるような方法で、曲げてある。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくともウエブの第１面の電子ビーム照射のための装置および方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
食品包装業界では、紙またはボール紙、例えばポリマーの液体遮断層および、例えばアルミニウムの薄膜の気体遮断層の種々の層を含む包装材料のウエブから作った包装を永い間使っている。包装機械では、このウエブの縦縁を重ね合せて封止することによりこのウエブをチューブにする。このチューブを製品で連続的に満たし、次に横に封止してクッションを作る。これらのクッションを切離して、例えば平行六面体の容器に作る。ウエブからチューブを作るこの技術は、それ自体周知であるので詳しくは説明しない。
【０００３】
包装した製品の貯蔵寿命を延すために、成形および充填作業の前にウエブを滅菌することが前から知られている。どれだけ永い貯蔵寿命が必要か、配送および保管を冷蔵温度で行うか大気温度で行うかに依って、滅菌を異なるレベルに選ぶことができる。ウエブを滅菌する一つの方法は、例えば過酸化水素浴を使う化学的滅菌である。別の方法は、電子ビーム放射源から出る電子でウエブを照射することである。そのような放射源は、例えばＵＳ−Ａ−５，１９４，７４２に開示してある。
【０００４】
しかし、電子による照射は、好ましくないＸ線を作り出す。これらの電子は、それらが特に空気分子、バクテリア、ウエブおよびシールド壁と衝突すると減速する。電子のこの減速は、Ｘ線の放出をもたらす。そのようなＸ線がシールドに当るとき、このＸ線は、この材料の中へある距離入り、新しいＸ線を生じる。合理的サイズの照射装置の外側で許容できる放射線レベルを得ることが問題であった。
【０００５】
インクの連続電子硬化用装置を記述するＧＢ２１５７１４０に、この問題を解決する一つの方法が示してある。放射源を中央室の中に置き、そこにウエブを通してこの放射源によって処理する。この中央室は、遮蔽してあり、このウエブによって吸収されないままの放射線のかなりの量を吸収するための放射線トラップを含む。この中央室の入口および出口に第１副室が設けてある。これらの第１副室は、この中央室の出口および入口から漏れる放射線を吸収するための放射線トラップが設けてある。この中央室の入口および出口と対向して位置する副室の開口で、許容放射線レベルが得られている。第１副室の放射線トラップは、その内壁から伸びる平行突起として作ってある。各々狭い“郵便物差入れ口”として機能し、それにウエブを通せる。第２副室も設けてあり、それは、中央室へ移った酸素の量を減らすために不活性ガスを導入するためのプレナムおよび排出手段を含む。
【０００６】
この装置の空間位置決めに対して移動するウエブの入口および出口角を変えるため、これらの副室が交換可能である。それで、副室の一つ以上を除去し、それらを異なる形状寸法の副室で置換えることにより、この中央室を妨害することなくこれらの角度を変えられる。
【０００７】
しかし、食品包装業界で、例えば包装材料ウエブを滅菌するとき、放射線トラップを使うＧＢ２１５７１４０による解決策は好ましくない。第１に、これらの放射線トラップの設計のために、それらは、滅菌中にこの照射装置を通る制御不能な流体流れを生じるかも知れず且つこの装置それ自体の予備滅菌中に幾つかの難点を生じるかも知れない。これは、望ましくないおよび／または制御不能の衛生レベルを生じるかも知れない。第２に、包装材料ウエブは、このウエブ表面から突出する、キャップのような、予め付けた開口装置を備えるかも知れない。それで、この放射線トラップの“郵便物差入れ口”は、このキャップの付いたウエブを通す大きさである必要がある。差入れ口が大きいとトラップが有効でなくなり、狭い差入れ口と同じ性能を得るためにはトラップの数を増す必要があるかも知れない。今度は、照射装置が大きくなり且つより嵩張る。それで、例えば食品包装業界での滅菌目的には、合理的サイズの照射装置の外側で許容できる放射線レベルを得る問題はまだ残っている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って、この発明の目的は、電子ビーム照射用の合理的サイズの装置で、この装置の外側の放射線レベルが許容できる装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この目的は、ウエブの少なくとも第１面を電子ビーム照射するための装置であって、このウエブを通すようにしたトンネルを含み、上記トンネルは、ウエブ入口部、ウエブ出口部およびそれを通して電子をこのトンネルの中へ放射するようにした電子出口窓を備え、少なくとも第１電子ビーム放射源を受けるようにした中央部を備え、並びにそれでこのトンネルが、この入口部および出口部の各々の少なくとも２個所で、このウエブの電子ビーム照射中にできたＸ線をこのトンネルを出る前に少なくとも２度このトンネル壁に当らせるような方法で、曲げてある装置によって達成される。それで、この発明は、ウエブが通過することは可能であるが、Ｘ線が先ずそれらのエネルギーを許容限界値まで下げずに出口を見付けることが可能であるリスクを最小化するように作ったシールドを含む。この限界値は、例えば、政府規制または市場によって認められた値によって決めることができる。このトンネル設計がシールドとして機能し且つＸ線のエネルギーを低減するという事実のために、このトンネル内部に放射線トラップが何も必要ない。これは、換気して、例えば照射中にできたオゾンを排出するための装置によって、制御された、乱されない気流を導ける可能性をもたらす。更に、そのような制御された、乱されない気流は、この包装機械の停止中に滅菌レベルを維持する可能性をもたらす。これは、後に更に詳しく説明する。
【００１０】
この発明の好適実施例で、この入口部および出口部は、それぞれ三つの連続するセグメント、すなわち入口セグメント、中央セグメントおよび出口セグメントを含み、並びにこの中央セグメントは、この入口セグメントに対し第１角度を成しおよびこの出口セグメントは、この中央セグメントに対し第２角度を成す。この様にして、このシールドの入口と出口の両方が容易に２度曲げられる。
【００１１】
このトンネルの幅、上記角度およびこれらのセグメントの長さの間の関係は、この入口セグメントでこのトンネル壁に当る仮想直線が、この出口セグメントを出る前に、少なくともこの出口セグメントのトンネル壁にも当り、且つこの入口セグメントを通過する仮想直線が、この中央セグメントのトンネル壁に当って、それがこの出口セグメントを出る前に、少なくともこの出口セグメントのトンネル壁にも当るようになっているのが好ましい。Ｘ線をこのシールドを出る前に少なくとも２度トンネル壁に当てさせることによって、Ｘ線エネルギーの許容できる低減を得る。これは、以下に更に詳しく説明する。
【００１２】
この中央部は、それを通して電子をこのトンネルの中へ放射するようにした電子出口窓を備える追加の第２電子ビーム放射源を受けるようになっていて、この電子ビーム放射源は、このウエブの第２面を電子で照射するように配置するようになっているのが都合がよい。ウエブの両面を照射することによって、ウエブの再汚染のリスクが最小化する、即ち、ウエブの滅菌しない面からのバクテリアが滅菌した面を再汚染できるリスクを避ける。
【００１３】
この電子出口窓が実質的に平面であり且つこのウエブと実質的に平行に設けるようになっているのが好ましい。電子をウエブに垂直に放射することによって、電子が移動しなければならない距離が最小になり、それが今度は電子がウエブに達する前の電子エネルギーの損失を最小化する。更に、ウエブに達する電子の量は、放射源をウエブに垂直に向ければ高く、それは今度は良い滅菌結果に繋がる。
【００１４】
更なる好適実施例では、この追加の第２電子ビーム放射源がこの第１電子ビーム放射源と実質的に対向して配置するようになっていて、且つこの電子出口窓がこの第１電子出口窓と実質的に対向して配置するようになっている。この様にして、ウエブの両面を照射し、同時にウエブの再汚染のリスクを効果的に最小化する。
【００１５】
その上更なる実施例では、この放射源がハウジングに収納してある。放射源を収納するハウジングを設けることにより、１次Ｘ線を閉込めることが容易である。更に、このハウジングは、これらの放射源の周辺にこの室を取巻く圧力と異なる圧力が存在することを可能にする。例えば、この装置を通る気流をそれによってより容易に制御できる。
【００１６】
もう一つの実施例では、この放射源が低電圧電子ビーム放射源である。低電圧電子ビーム放射源を使うことは、例えば、照射したウエブで作った包装から出ることがあるような、製品の異臭のような、照射誘発変化のリスクを最小化する。更に、低電圧電子ビーム放射源は、電子およびＸ線のエネルギーが少ないので、エネルギー消費が少なくなり、強いシールドの必要性が低いことは言うまでもない。更に、出来たＸ線およびオゾン（Ｏ３）の取扱いは、低電圧電子ビーム放射源では比較的少量しか出来ないので、簡単になる。更に、低電圧電子ビーム放射源を使うとき、放射源自体を比較的小さくできる。
【００１７】
更に別の実施例では、この入口および出口部がこのトンネルを通してこのウエブを案内するために各々少なくとも一つのウエブ案内を備える。この様にして、ウエブの案内を簡単な方法で達成する。
【００１８】
この出口部のこの少なくとも一つのウエブ案内が、このウエブに関してこのウエブの第２面と接触するように、且つこのウエブの第１面と接触しないようになっている方法で配置するのが好ましい。このウエブ案内を出口に説明したように配置することによって、後にこの包装内容物と接触するようになる、このウエブの第１面がこのウエブ案内と接触させられない。これは、トンネルの出口でのウエブ取扱中に滅菌した表面に負に影響する偶発的リスクを最小化する。それで、この発明は、比較的高い滅菌レベルを保証しなければならない食品包装業界で使うのに適する。
【００１９】
或る実施例では、このウエブ案内が支持部材に支承してある第１および第２ローラを含み、これらのローラは、この第１ローラがこのウエブを第２角度曲げ、第２ローラがウエブを第１角度曲げるような方法で作ってあり且つ相互に位置する。これらのローラは、信頼性があり且つ比較的安い。
【００２０】
更に別の実施例では、この入口部および出口部の入口セグメントがこのトンネルの中央部に隣接し、この入口部および出口部の出口セグメントが互いから離れる方向に向いていて、それによって滅菌したウエブを滅菌しないウエブから更に引離し、それによって再汚染のリスクを更に最小化する。
【００２１】
このトンネル部およびこの放射源ハウジングがハウジングに収容してあるのが都合がよい。これは、照射中に出来たオゾンを封入、制御および排出するのを容易にする。
【００２２】
更に、この発明は、ウエブの少なくとも第１面を電子ビーム照射するための方法に関し、この方法は、このウエブをトンネルに通し、上記トンネルは、ウエブ入口部、ウエブ出口部および電子出口窓を備え、少なくとも第１電子ビーム放射源を受ける中央部を備える工程、この放射源からこの電子出口窓を通してこのトンネルの中へ電子を放射する工程、並びにこのトンネルをこの入口および出口部の各々の少なくとも２個所で曲っているように作ることによって、このウエブの照射中に電子によってできたＸ線をこのトンネルを出る前に少なくとも２度このトンネル壁に当らせる工程を含む。それで、ウエブが通過することを可能にしながら、照射装置をシールドする方法を提供し、さらに、Ｘ線がそのエネルギーを許容限界値まで下げずにこのシールドからの出口を見付けることが可能であるリスクを最小化する。このトンネル設計がシールドとして機能し且つＸ線のエネルギーを低減するという事実のために、このトンネル内部に放射線トラップが何も必要ない。これは、換気して、例えば照射中にできたオゾンを排出するためにこの装置を通る制御された、乱されない気流を導ける可能性をもたらす。更に、そのような制御された、乱されない気流は、この包装機械の停止中に滅菌レベルを維持する可能性をもたらす。
【００２３】
この入口部および出口部をそれぞれの部分が三つの連続するセグメント、すなわち入口セグメント、中央セグメントおよび出口セグメントの列を含むように作り、この中央セグメントは、この入口セグメントに対し第１角度を成すように作りおよびこの出口セグメントは、この中央セグメントに対し第２角度を成すように作るのが好ましい。先に述べたように、この様にしてこのシールドの入口および出口の両方を容易に２度曲げられる。
【００２４】
このトンネルの幅、上記角度およびこれらのセグメントの長さの間の関係を、この入口セグメントでこのトンネル壁に当る仮想直線が、この出口セグメントを出る前に、少なくともこの出口セグメントのトンネル壁にも当るように、およびこの入口セグメントを通過する仮想直線が、この中央セグメントのトンネル壁に当って、それがこの出口セグメントを出る前に、少なくともこの出口セグメントのトンネル壁にも当るようにするのが都合がよい。これらのＸ線をこのシールドを出る前にトンネル壁に少なくとも２度当らせることによって、Ｘ線エネルギーの許容できる低減が得られる。
【００２５】
以下に、この発明の現在好適な実施例を添付の図面を参照して詳しく説明する。
【実施例】
【００２６】
図１に示すこの装置は、中に一つまたは二つの放射源２、３が取付けてある、内ハウジング１を含む。この内ハウジングの中央部は、これらの放射源を受けるようになっている。内ハウジング１は、トンネルを形成し、包装材料ウエブＷをこのトンネルに入れて放射源２、３を通過させる。更に、内ハウジング１は、このウエブを出し入れするための出口部６および入口部５を備える。このウエブ入口部５は、入口部５の中へのウエブＷの流入方向がこの入口部５からのウエブＷの流出方向に対して傾斜しているように設計してある。この入口部５からのウエブＷの流出方向は、ウエブＷが放射源２、３を通過する方向に等しい。入口部５でのウエブＷの流入および流出方向の間の角度は、少なくとも９０°である。入口部５は、少なくとも２個所で曲っているように作ってある。図２に、入口部５が三つの連続するセグメント、すなわち入口セグメント５ａ、中央セグメント５ｂおよび出口セグメント５ｃを含むことを示す。中央セグメント５ｂは、入口セグメント５ａに対し第１角度αを成し、出口セグメント５ｃは、この中央セグメント５ｂに対し第２角度βを成す。更に、トンネルの幅、上記角度α、βおよびセグメント５ａ−ｃの長さの間の関係は、入口セグメント５ａでトンネル壁に当る仮想直線が、出口セグメント５ｃを出る前に、少なくとも出口セグメント５ｃのトンネル壁にも当り、且つ入口セグメント５ａを通過する仮想直線が、中央セグメント５ｂのトンネル壁に当って、それが出口セグメント５ｃを出る前に、少なくともこの出口セグメント５ｃのトンネル壁にも当るようになっている。図３および図４に、紙、定規およびペンを使ってこの設計を得る方法を示す。図３に、第１の最悪ケースのシナリオを示す。入口セグメント５ａの外部に始り、実質的に入口セグメント５ａと中央セグメント５ｂの間の外角の方に向けて直線を引く。この線は、入口セグメント５ａでトンネル壁に当り、実質的に中央セグメント５ｂと出口セグメント５ｃの間の内角に向けて引く。もし、トンネルの幅、角度α、βおよびセグメント長さの間の関係を十分良く考えるべきなら、この直線は、出口セグメント５ｃを出る前に、無理に出口セグメント５ｃのトンネル壁に当てられるだろう。図４に、第２の最悪ケースのシナリオを示す。直線を今度は入口セグメント５ａの外部に始って、実質的にこの入口セグメント５ａの出口に近い内角の方に向くが、中央セグメント５ｂでトンネル壁に当てて引く。次にこの線を実質的に中央セグメント５ｂと出口セグメント５ｃの間の内角の方へ引く。もし、トンネルの幅、角度α、βおよびセグメント長さの間の関係を十分良く考えるべきなら、この直線は、出口セグメント５ｃを出る前に、無理に出口セグメント５ｃのトンネル壁に当てられるだろう。それで、もしある角度を使うなら、修正できるパラメータはトンネルの幅かセグメントの長さであることが分る。トンネルが広いと長いセグメントを必要とする。もし、短いセグメントが必要なら、トンネルの幅を減らさねばならない。もう一つの可能性は、勿論角度の一つまたは両方を変えることである。図示する例では、入口部の角度αおよびβ、長さおよび幅が出口部の対応する角度、長さおよび幅と同じである。二つの部分の長さおよび幅は、勿論角度が違ってもよいことを理解すべきである。
【００２７】
先に述べたように、ウエブＷは、照射装置１を通過し、その中でそれが滅菌され、続いて充填機の無菌塔１０５の中へ送られ、そこでこのウエブＷは、このウエブＷの縦縁を重ね合せて封止することによりチューブにされる。このチューブを連続的に製品で満たし、横に封止してクッションを作る。これらのクッションを切離して、例えば平行六面体の容器、即ち包装に作る。ウエブからチューブを作るこの技術は、それ自体周知であるのでこれ以上は説明しない。
【００２８】
このウエブＷは、二つの面、第１面Ｗ１と第２面Ｗ２がある。このウエブＷの第１面Ｗ１は、ウエブＷのこの包装の内容物、即ち製品と接触するようにされる面であり、チューブ成形中このチューブの内側に、従ってこのクッションの内側に、且つ完成後の包装の内側になるようになっている面であると定義する。従って、このウエブＷの第２面Ｗ２は、それでウエブＷのこの製品と接触しないことになっている面であり、チューブ成形中このチューブの外側に、従ってこのクッションの外側に、且つ完成後の包装の外側になるようになっている面であると定義する。
【００２９】
この入口部で、少なくとも一つのウエブ案内を設けることによってウエブＷの走行方向を変更する。この例では、このウエブ案内が入口部５の内部に取付けた第１および第２ローラ９、１０である。この開示した設計で、ウエブＷは、ほぼ水平に入口部５の中へ走行し、それが入口部５を離れるとき実質的に垂直に上方へ走行し、内ハウジング１に入る。この方向変更を達成するために、ローラ９、１０は、第１ローラ９がウエブＷを第２角度β曲げ、第２ローラ１０がウエブＷを第１角度α曲げるように作られ、配置されている。ローラ９、１０は、支持部材に支承してあるのが好ましい。この支持部材は、例えば、トンネルと同じ設計基準に従って設計した外シールドまたは軸受ハウジングを備える軸受でもよい。
【００３０】
このウエブＷは、ウエブＷの第１面Ｗ１がウエブ案内と接触するように入口部５に送込む。それで、給送中、この第１面Ｗ１は、ローラ９、１０の外被面と一時的に接触する。
【００３１】
出口部６は、入口セグメント６ａ、中央セグメント６ｂおよび出口セグメント６ｃで同様に設計してある。ウエブＷの走行方向を変えるために、出口部６は、一つ以上のローラ１１、１２を含む。この入口部５および出口部６は、ウエブＷが出口部６を離れるとき、それが入口部５に入るときと同じ方向に走行するように取付け且つ設計してある。開示した設計では、入口部５と出口部６は類似していて、それぞれ同じフランジを使うが、この内ハウジング１を縦貫するウエブＷの中心線に沿って伸びる軸線Ａの周りに１８０°回転して内ハウジング１の二つの対向する面１ａ、１ｂに取付けてある。それで、入口部５および出口部６のそれぞれの入口セグメント５ａ、６ａは、このトンネルの中央部に隣接し、入口部５および出口部６のそれぞれの出口セグメント５ｃ、６ｃは、互いから離れる方に向いている。入口部６に類似する出口部６を有することは、この照射装置１の製造中に同じ型を使えるので有利である。
【００３２】
図１で、入口部５に対する出口部６の設計が、ウエブＷの第１面Ｗ１がウエブ案内と接触するのを防ぐように、ウエブＷが出口部６を通過することを保証するのが分る。その代りに給送中、第２面Ｗ２がローラ１１、１２の外被面と一時的に接触する。
【００３３】
外ハウジング４が内ハウジング１を囲み、この外ハウジング４は、ウエブＷを出し入れするための出口８および入口７を形成する開口を備える。
【００３４】
放射源２、３は、出口窓２１、３１から電子ビームを送出する。これらの放射源は、第１放射源２はウエブＷの第１面Ｗ１を照射するように、第２放射源３は第２面Ｗ２を照射するように配置してある。このため、第２電子ビーム放射源３は、実質的に第１放射源２に対向して位置し、この第２放射源３の出口窓３１は、実質的に第１電子出口窓２１に対向して位置する。以下には、第１放射源２だけを詳しく説明する。図５に示す、開示した設計によれば、放射源２は、一般的に中にフィラメント２３およびケージ２４を備える真空室２２を含む。このフィラメント２３に電流を送ると、フィラメント２３の電気抵抗がこのフィラメント２３を２０００°Ｃのオーダの温度に加熱させる。この加熱は、フィラメント２３に電子雲を出させる。多数の開口を備えるケージ２４がフィラメント２３を囲む。このケージ２４は、ファラデー箱の役をし、電子を制御した状態で分配するのを助ける。これらの電子を、ケージ２４と出口窓２１の間の電圧によって加速する。使用する放射源は、一般的に低電圧電子ビーム放射と称されるもので、その電圧は通常３００ｋＶ以下である。開示した設計では、加速電圧が７０−８５ｋＶのオーダである。この電圧は、各電子に関して７０−８５ｋＶの運動エネルギー（動力）を出す。この電子出口窓は、実質的に平面で、ウエブと実質的に平行に設けてある。更に、この出口窓２１は、金属箔で作ってあり、６μｍのオーダの厚さを有する。アルミニウムで作った支持ネットが出口窓２１を支持する。この種の放射源は、ＵＳ−Ｂ１−６，４０７，４９２に更に詳しく開示してある。ＵＳ−Ａ−５，６３７，９５３にもう一つの放射源が開示してある。この放射源は、一般的に出口窓を備える真空室を含み、この真空室内にフィラメントおよび二つの収束板が設けてある。ＵＳ−Ａ−４，９１０，４３５に、更に別の放射源が開示してあり、そこでは電子がイオン衝撃による材料からの２次電子放射によって放出される。これらの種々の放射源の更に詳しい説明については上記の特許を引用する。これらの放射源およびその他の放射源が説明したシステムに使えることを意図する。
【００３５】
電子が真空室内にある限り、それらは、ケージ２４および窓に供給する電圧が定める直線経路に沿って移動するが、それらがこの放射源窓を通して放射源から出ると、それらは多かれ少なかれ不規則な経路を動き（散乱し）始める。これらの電子は、特に空気分子、バクテリア、ウエブおよびハウジングの壁と衝突すると減速する。電子のこの減速は、全ての方向にＸ線（レントゲン線）の放出をもたらす。これらのＸ線は、直線に沿って伝播する。そのようなＸ線がこのハウジングの内壁に当ると、このＸ線は、この材料の中へある距離入り、最初のＸ線が入った点からあらゆる方向に新しいＸ線を出す。Ｘ線がハウジング壁に当り、２次Ｘ線を生じる度毎に、エネルギーが、このハウジング用に選択される材料に応じて約７００分の１−１０００分の１に減少する。ステンレス鋼は、減少率が約８００、即ち、２次Ｘ線のエネルギーが１次Ｘ線に対して約８００分の１に減少する。鉛は、放射線が関わるとき屡々考慮される材料である。鉛は、減少比が低いが、他方この材料を通るＸ線の透過に対して高い抵抗を有する。もし、電子を約８０ｋＶの電圧で加速するならば、電子は約８０ｋＶの運動エネルギーを与えられる。このエネルギーレベルのＸ線が内ハウジング１を貫通しないことを保証するために、この内ハウジング１を厚さ約２２ｍｍのステンレス鋼で作る。同様に、入口および出口部をステンレス鋼で作り、図１で分るように、実質的に同じ厚さにする。この様にして、内ハウジング並びに入口および出口部の両壁が放射線シールドを作る。ウエブＷの電子ビーム照射中にできたＸ線は、その壁を貫通するのを妨げられる。この厚さは、この壁に対して垂直に進むＸ線に対して計算する。この壁に対して傾斜して進行するＸ線は、同じ深さに達するために壁の中で、より長い距離を通る、即ち、より厚い壁を通るのと同じ効果をもたらす。この壁の厚さは、ハウジング外部の放射線の量に関する政府規制によって決る。今日放射線の限界値（放射線はこの限界値より低くなければならない。）は、アクセス可能面、即ちシールドの外部から０．１ｍの距離で測定して０．１μＳｖ／ｈである。材料および寸法の選択は、現在該当する規則によって影響されること、および新しい規則が材料または寸法の選択を変えるかも知れないことに注意すべきである。各電子のエネルギー（８０ｋＶ）および電子の数がこの電子雲の全エネルギーを決める。この全エネルギーが滅菌すべき表面へ伝達される全エネルギーとなる。この放射線エネルギーは、グレイ単位（Ｇｙ）で測定する。上に簡単に説明した電子放射源（フィラメントおよびファラデー箱を備える）の場合、このフィラメントを通る約１７ｍＡの電流を使うのが現在適当と考えられる。しかし、これは、決定した放射線レベルおよび滅菌すべき表面の面積に依る。この例では、放射源を３５ｍ／ｓの速度で通過する幅４００ｍｍのウエブを滅菌することをもくろむ。これは、平均３５ｋＧｙのオーダの放射線エネルギーを与える。もう一つの例では、ウエブ幅がやはり４００ｍｍであるが、ウエブが移動する速度を１００ｍ／ｓに増す。同じ放射線エネルギー、３５ｋＧｙを得るために、電流を約５０ｍＡに増す。
【００３６】
以下に、この装置のガス状流体システムを説明する。この実施例では、流体が無菌空気であるが、それは、勿論、この装置を使う応用分野に適するどんなガス状流体でもよい。
【００３７】
図６に示す、この機械の空気システム１００は、圧縮機１０１および水分離器１０２を含み、それから加圧空気を得る。この空気を熱交換器１０３に供給し、そこでこの空気を約１００°Ｃに予熱する。熱交換器１０３から、この空気を過熱器１０４へ送り、そこでこの空気を３３０−４５０°Ｃの範囲内の温度に加熱する。３３０°Ｃ以上の温度で空気中のあらゆるバクテリアは死滅する。この殺滅率は、温度およびバクテリアが上記温度に曝される時間に依る。過熱器１０４からの空気は、入来空気の上記予熱を達成するために熱交換器１０３へ戻す。熱交換器１０３の２度目の通過後、この空気は、約９０°Ｃの温度を有する。次にこの空気を、充填機の塔１０５と流体連通した第１分岐および外ハウジング４が形成する第１室１０７と流体連通した第２分岐を有する切替弁１０６へ送る。塔１０５へ供給した空気の少量は、出口開口１０８を通ってこの塔１０５から出るウエブＷに追従するだろう。塔１０５の中では、ウエブＷがその縦縁を重ね合せて封止することによってチューブにされる。このチューブを、ウエブＷのまだチューブに変形されていない端からこのチューブの中へ伸びる製品パイプ１０９を介して連続的に製品で満たす。ウエブからチューブを作るこの技術は、それ自体周知であるので詳しくは説明しない。出口開口１０８は、この出口開口１０８から外への空気の制御した流れを得るために、封止リング（図示せず）を備える。これは、開口１０８から送出されるチューブとこの出口開口１０８との隙間を与えられた寸法とすることによっても達成できる。このチューブを横に封止してクッションを作り、それを切離して平行六面体の容器に作る。再び、この技術は、それ自体周知であるので詳しくは説明しない。塔１０５に供給する空気のかなりの部分は、塔１０５の中をウエブＷの移動方向とは反対の方向に流れる。塔１０５は、空気出口開口として作用するウエブ入口開口１１０を備える。塔１０５からの空気は、内ハウジング１から成る第２室１１１へ送られる。
【００３８】
以下に、図６で破線で表した部分を説明する。これらの破線は、第１室および第２室への空気流の二つの代替実施例を表す。第１実施例では、これらの線は連続で、直接第２室１１１のウエブ出口開口１１２と、第１室１０７のウエブ出口開口１２１（出口８でもある。）との間の閉じた流通を表す。第２実施例では、これらの線がなく、第１および第２室１０７、１１１と第１室１０７のウエブ出口開口１２１の間の開いた流通を表す。
【００３９】
この第１実施例では、第２室１１１のウエブ出口開口１１２と第１室１０７のウエブ出口開口１２１の間に流体結合がある。それで、空気を、空気流入口開口として作用するウエブ出口開口１１２を介して第２室１１１へ送込む。塔１０５は、第１空気源として作用する。もし、第２室１１１のウエブ出口開口１１２が第１室１０７のウエブ出口開口１２１から少し離れて、且つ好ましくはそれと整列して位置するならば、この流体結合は、例えば、第２室１１１のウエブ出口開口１１２を第１室１０７のウエブ出口開口１２１に結合するパイプを含むことができる。あるいはその代りに、第２室１１１のウエブ出口開口１１２が第１室１０７のウエブ出口開口１２１まで伸びる。第１室１０７と第１室１０７のウエブ出口開口１２１の間の流体結合は、それによって妨げられる。先に説明したように、切替弁１０６は、第１室１０７のための空気源１０６として作用する。
【００４０】
第２実施例では、第１室１０７と第２室１１１が第１室１０７のウエブ出口開口１２１と流体結合していて、それで両室１０７、１１１が塔１０５の空気源と結合している。その上、第１室１０７が空気の追加供給のために弁１０６と接触している。
【００４１】
両実施例で、第２室１１１の空気は、この第２室１１１を通るウエブＷの移動方向と反対方向に流れる。第２室１１１を殆ど完全に通過してから、この空気は、その最終処理のために排出出口１１３経由で送られる。同様に、第１室１０７に提供した空気は、ウエブＷの移動方向と反対方向に流れる。第１室１０７および第２室１１１からの空気は、出口１１３から排出される。それで、両室１０７、１１１がこの出口と連絡している。第１室１０７に供給した空気の少量が、ウエブ入口開口１１５（入口７でもある。）から漏れる。漏れる量は、隙間の形状および使用するシールに依る。隙間の形状および使用するシールは、特にウエブが予め付けられた開口装置と共に供給されるかどうかに依る。
【００４２】
排出出口１１３は、第２室１１１のウエブ入口開口１１４近くに位置する。図１で、出口１１３は、第２室１１１の内部に位置する。例えば、出口１１３は、第２室１１１のウエブ入口開口１１４付近に位置することができる。出口１１３は、第２室１１１からの殆ど全ての空気および第１室１０７からの殆どの空気を排出する。第１室１０７のウエブ入口開口１１５は、第１室１０７と第２室１１１のウエブ入口開口１１４の両方との間に流体結合がある。図７に示す代替実施例では、出口１１３が第２室１１１と流体連通した二つの分岐１１３ａ、１１３ｂを含む。この図を参照すると、第１出口分岐１１３ａは、第２室１１１のウエブ入口開口１１４付近の室壁の上に位置し、第２出口分岐１１３ｂは、第１出口分岐と反対の底壁に位置する。
【００４３】
このシステムの空気の流れは、第１過圧を第１室１０７の内部で創るように制御する。説明した実施例で、この圧力は、２９４Ｐａのオーダである。更に、第２過圧は、第２室１１１内部で創る。これらの過圧は、例えば、第１過圧および第２過圧が同じであるように選ぶことができる。その代りに、これらの過圧を第１過圧と第２過圧が違うように選ぶこともできる。第１過圧が第２過圧より高くてもよく、逆も同様である。第１過圧を第２過圧より高いように選ぶ一つの理由は、照射中にできるオゾン（Ｏ３）を第２室１１１内に保ち、そうすればそれを出口１１３から直ちに排出できるからである。更に、第１過圧より低い第２過圧は、例えば、この機械の始動でのこの装置の予備滅菌に役立つ。第２室の圧力を第１室に比べて低くすることにより、滅菌中に使う過酸化水素の十分な量をこの第２室内部に押込むことができる。この予備滅菌を以下に更に詳しく説明する。第２過圧を第１過圧より高いように選ぶ一つの理由は、第２室から、例えば、異臭を生じる、オゾンおよび起り得るその他の揮発性物質の迅速な排出を得るためである。
【００４４】
内ハウジング１内部、即ち、放射源２、３周辺の圧力は好ましくは第２室１１１内部の圧力より低くする。第２室１１１内部の圧力より低い圧力を選ぶ一つの理由は、内ハウジング１に含まれる汚染した空気によるウエブＷの再汚染のリスクを最小化するためである。この特別の実施例で使用する放射源２、３に何も決った圧力が必要ないので、内ハウジング１内の圧力は、大気圧でもよい。しかし、もし、使用する放射源が必要とするなら、内ハウジング１を加圧してもよいことを理解すべきである。
【００４５】
第１室１０７の外部に、空気システム１００は、所謂ゼロ点１１６を備える。このゼロ点１１６は、このシステムの何処かが故障したら、大気圧以下の圧力を避けるために必要な空気をこのゼロ点１１６を介してこのシステムに送込むことを確実にする装置である。この様にして、塔１０５、第１室１０７および第２室１１１内部の圧力が少なくとも大気圧以下に落ちないことが保証される。このゼロ点１１６は、一般的に入口１１７、出口１１８および弁１２０によって閉じる開口１１９を有するハウジングを含む。大気圧を超える圧力は、この弁を外方に押して開口１１９を封止する。ゼロ点１１６内部の圧力が大気圧以下に落ちると、弁１２０は、開口１１９に押付けられない（それどころか、それがゼロ点１１６の内方に押されて、この開口１１９から空気をこのシステムに導入できる）。
【００４６】
例えば、この機械の始動中、塔１０５および室１０７、１１１の内部の表面をウエブＷが入る前に滅菌するためにこの空気システム１００を使うことができる。この滅菌は、過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）で行う。過酸化水素を使う滅菌は、それ自体知られているが、以下にこの空気システム１００に関して簡単に説明する。塔１０５は、過酸化水素供給源と接続されていて、それはエアロゾル・ノズルを備える。これらのノズルは、過酸化水素を空気中にスプレーとして送り、この塔に供給した空気を、過酸化水素が気化する温度、通常４０−５０°Ｃのオーダの温度に加熱する。空気に含まれる過酸化水素は、塔１０５および室１０７、１１１を先に説明した方向に流過し、排出出口１１３で排出される。途中、過酸化水素は、表面に凝結する。次にこの過酸化水素は、過酸化水素気化温度以上の温度の空気を供給することによってこの表面から除去する。この実施例では、７０−９０°Ｃのオーダの温度を使用する。気化温度より十分上の温度にすることにより、過酸化水素をこの表面から効果的且つ迅速に除去する。
【００４７】
この装置のガス状流体システムの利点の一つは、この充填機の停止中に現れる。停止中、ウエブＷを停止し、このウエブＷを損傷しないように照射装置１の電子ビーム放射源２、３を止めるべきである。しかし、第１および第２室１０７、１１１の両方にウエブＷの移動方向と反対方向に無菌空気の流れをまだ連続的に提供することにより、この装置１の内部に所望の滅菌レベルを維持することができる。それによって、ウエブＷの滅菌の所望のレベルを確保し、あらゆる起り得るその再汚染のリスクを最小化する。
【００４８】
ウエブＷの電子ビーム放射のための方法によれば、ウエブＷが供給されてトンネルを通過させる。このトンネルは、ウエブ入口部５、ウエブ出口部６および電子出口窓２１、３１を備える電子ビーム放射源２、３を受けるようになっている中央部を備える。電子は、放射源２、３から電子出口窓２１、３１を介してこのトンネルの中へ放射し、このウエブＷの照射中に電子によって作られるＸ線は、このトンネルを出る前に、このトンネル壁に２度強制的に衝突させられる。少なくとも２度の衝突を達成するために、このトンネルは、入口および出口部５、６の各々で少なくとも２個所で曲げて作ってある。
【００４９】
ウエブＷは、入口および出口部５、６の各々に設けた少なくとも一つのウエブ案内によってこのトンネルを通して案内する。出口部６のウエブ案内は、ウエブＷに関して、このウエブＷの第２面Ｗ２と接触するようになっていて、ウエブＷの第１面Ｗ１との接触を妨げるようになっているような方法で位置する。
【００５０】
更に、この方法は、入口部５が三つの連続するセグメント、すなわち入口セグメント５ａ、中央セグメント５ｂおよび出口セグメント５ｃの列を含むようにこの入口部５を作る工程を含む。この中央セグメント５ｂは、入口セグメント５ａに対し第１角度αを成すように作ってある。更に、出口セグメント５ｃは、この中央セグメント５ｂに対し第２角度βを成す。出口部６も同様に設計してある。
【００５１】
トンネルの幅、上記角度α、βおよびセグメント５ａ−ｃの長さの間の関係は、入口セグメント５ａでトンネル壁に当る仮想直線が、出口セグメント５ｃを出る前に、少なくとも出口セグメント５ｃのトンネル壁にも当り、且つ入口セグメント５ａを通過する仮想直線が、中央セグメント５ｂのトンネル壁に当って、それが出口セグメント５ｃを出る前に、少なくともこの出口セグメント５ｃのトンネル壁にも当るようになっている。
【００５２】
電子による照射中、この装置の内部にオゾン（Ｏ３）ができることが分っている。従って、この発明は、この装置を換気する方法も含む。この方法は、ウエブ入口開口１１５およびウエブ出口開口１２１を含む第１室１０７を用意する工程を含む。この第１室１０７は、外ハウジング４である。トンネルである、第２室１１１も設けてあり、第１室１０７の内部を伸びる。この第２室１１１は、ウエブ入口開口１１４およびウエブ出口開口１１２を含むように作ってある。更に、電子出口窓２１、３１を備え、それを通して電子を第２室１１１の中へ放射するようになっている。ウエブＷは、第２室１１１を貫通し、第１および第２室１０７、１１１の両方を通る空気の流れができる。この空気流は、ウエブＷの移動方向と反対方向に流れる。この空気を第１室１０７のウエブ出口開口１２１に供給し、また、少なくとも一つの出口１１３を設ける。
【００５３】
代替方法では、第２室１１１のウエブ出口開口１２１と第１室１０７のウエブ出口開口１１２の間に流体結合がもたらされる。同時に第１室１０７と第１室１０７のウエブ出口開口１２１の間の流体結合が妨げられる。ウエブＷの移動方向と反対方向に第１および第２室１０７、１１１の両方を通る空気の流れを、上記空気を第１室１０７におよび第１室１０７のウエブ出口開口１２１に供給し且つ少なくとも一つの出口１１３を設けることによって創ることができる。空気を第１室１０７と流体連通している弁１０６から第１室１０７に供給する。
【００５４】
この方法によれば、ウエブＷは、第１室１０７のウエブ入口開口１１５からこの装置に入り、第２室１１１にそのウエブ入口開口１１４から入る。両開口１１５、１１４は、それらを通るときウエブＷを真っ直ぐに、実質的に水平に保つように位置する。入口部５の内部で、ウエブＷは、第１ローラ９で第２角度β曲げられ、第２ローラ１０で第１角度α曲げられる。移動中、ウエブＷは、ウエブＷと反対方向の流れる空気流に遭遇する。ウエブＷがこのトンネルの中央部を通るとき、今度は垂直方向に移動し、電子出口窓２１、３１を通過し、それを通してこのウエブＷが放射源２、３によって照射される。電子出口窓２１、３１は、トンネルの対向する側に位置し、それによってウエブＷの両面を照射する。照射後、ウエブＷは、出口部６に入り、そこでウエブＷは、入口部５でのように、２度曲げられる。最後に、ウエブＷは第２室１１１のウエブ出口開口１１２から、および次に第１室１０７のウエブ出口開口１２１からこの装置を出て塔１０５に入る。
【００５５】
本発明を現在好適な実施例に関して説明したが、この発明の目的および添付の請求項に定義する範囲から逸脱することなく種々の修正および変形を為してもよいことを理解すべきである。
【００５６】
説明した実施例は、二つの放射源２、３を、一つはウエブＷの第１面Ｗ１の電子照射用に、他はウエブＷの第２面Ｗ２の電子照射用に含む。しかし、この装置は二つの放射源２、３を含む必要はなく、製品と接触する面を照射するために第１放射源２だけを含むことができることを理解すべきである。更に、二つの放射源２、３が互いに対向して位置することを説明した。その代りに、それらは、ウエブ移動方向に互いから少し離れて位置することができる。
【００５７】
その上、放射源の数が２を超えてもよいことも理解すべきである。例えば、広いウエブを扱うために、幾つかの放射源を並べることが可能である。また、二つ以上の放射源をウエブ移動方向に沿って並べて配置し、決った放射線レベルをもたらす後続滅菌領域を作るか、または高い放射線レベルが必要な場所、例えば、閉鎖装置を選択的に放射するための手段とすることも可能である。
【００５８】
説明したウエブ案内は、曲げローラである。しかし、ウエブ案内は曲げローラである必要はなく、トンネルを通してウエブを案内するために適したどんな他の手段でもよいことを理解すべきである。
【００５９】
更に、出口１１３の位置を修正できることを理解すべきである。上に説明した実施例では、この出口１１３が第２室１１１の内部に位置する。その代りに、この出口１１３は、例えば、第２室１１１のウエブ入口開口１１４の付近または第１室１０７のウエブ入口開口１１５の付近に位置してもよい。出口１１３を第１室１０７の外部で入口開口１１５付近に位置付けることも可能である。
【００６０】
その上、上に説明した実施例では、出口１１３が第２室１１１の内部に位置し、第１室１０７がこの第２室１１１と流体結合している。代替実施例では、第２室１１１のウエブ入口開口１１４が第１室１０７のウエブ入口開口１１５と流体結合していて、一方第１室１０７、そのウエブ入口開口１１５と第２室１１１のウエブ入口開口１１４の間の流体結合は妨げられる。二つの室１０７、１１１は、別々の出口に通じている。少なくとも一つの出口が第１室１０７に存在し、少なくとも一つの出口が第２室１１１に存在するかまたは第２室１１１と流体連通している。
【００６１】
更に、過酸化水素を使う説明した空気システムは、防腐応用分野で使うのが好ましい。低温殺菌した製品を取扱うために使用する包装機械での対応する空気システムでは、機械滅菌を通常濾過した空気を使って行うが、空気流は同じである。上に説明したシステムの代りに、このシステムは、フィルタとファンを含むことができる。作業中これらの室からオゾンを排出するために、このシステムは、触媒コンバータを備えることができる。
【００６２】
その上、図示する実施例では、第２室１１１のウエブ入口開口１１４が第１室１０７のウエブ入口開口１１５から少し離れて、且つ好ましくはそれと整列して位置する。その代りに、この第２室１１１は、第１室１０７のウエブ入口開口１１５までいっぱいに伸びることができ、それによって第１室１０７とウエブ入口開口１１５の間の流体結合を妨げる。この場合第２室１１１の壁は、このウエブ入口開口から少し離れるが、出口１１３の前に開口、好ましくはスリットを備える。それによって二つの室の間の流体結合がもたらされ、この構成は、インジェクタ効果を生じ、第１室からこれらのスリットを通って第２室へ流れる空気流を作り、そこで出口１１３から排出される。少量の空気もハウジングの外部からウエブ入口開口１１５を通って吸引される。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】この装置の実施例の概略断面図を示す。
【図２】トンネルのセグメント、角度および放射源を備える内ハウジングを図解する概略図を示す。
【図３】トンネルの幅、セグメントの角度および長さの関係についての概略第１図解を示す。
【図４】トンネルの幅、セグメントの角度および長さの関係についての概略第２図解を示す。
【図５】この装置に収納した放射源の概略断面図を示す。
【図６】この発明による空気システムの概略図を示す。
【図７】図１に類似する概略図を示すが、反対側から示し且つ代替実施例を示す。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくともウエブの第１面の電子ビーム照射のための装置および方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
食品包装業界では、紙またはボール紙、例えばポリマーの液体遮断層および、例えばアルミニウムの薄膜の気体遮断層の種々の層を含む包装材料のウエブから作った包装を永い間使っている。包装機械では、このウエブの縦縁を重ね合せて封止することによりこのウエブをチューブにする。このチューブを製品で連続的に満たし、次に横に封止してクッションを作る。これらのクッションを切離して、例えば平行六面体の容器に作る。ウエブからチューブを作るこの技術は、それ自体周知であるので詳しくは説明しない。
【０００３】
包装した製品の貯蔵寿命を延すために、成形および充填作業の前にウエブを滅菌することが前から知られている。どれだけ永い貯蔵寿命が必要か、配送および保管を冷蔵温度で行うか大気温度で行うかに依って、滅菌を異なるレベルに選ぶことができる。ウエブを滅菌する一つの方法は、例えば過酸化水素浴を使う化学的滅菌である。別の方法は、電子ビーム放射源から出る電子でウエブを照射することである。そのような放射源は、例えばＵＳ−Ａ−５，１９４，７４２に開示してある。
【０００４】
しかし、電子による照射は、好ましくないＸ線を作り出す。これらの電子は、それらが特に空気分子、バクテリア、ウエブおよびシールド壁と衝突すると減速する。電子のこの減速は、Ｘ線の放出をもたらす。そのようなＸ線がシールドに当るとき、このＸ線は、この材料の中へある距離入り、新しいＸ線を生じる。合理的サイズの照射装置の外側で許容できる放射線レベルを得ることが問題であった。
【０００５】
インクの連続電子硬化用装置を記述するＧＢ２１５７１４０に、この問題を解決する一つの方法が示してある。放射源を中央室の中に置き、そこにウエブを通してこの放射源によって処理する。この中央室は、遮蔽してあり、このウエブによって吸収されないままの放射線のかなりの量を吸収するための放射線トラップを含む。この中央室の入口および出口に第１副室が設けてある。これらの第１副室は、この中央室の出口および入口から漏れる放射線を吸収するための放射線トラップが設けてある。この中央室の入口および出口と対向して位置する副室の開口で、許容放射線レベルが得られている。第１副室の放射線トラップは、その内壁から伸びる平行突起として作ってある。各々狭い“郵便物差入れ口”として機能し、それにウエブを通せる。第２副室も設けてあり、それは、中央室へ移った酸素の量を減らすために不活性ガスを導入するためのプレナムおよび排出手段を含む。
【０００６】
この装置の空間位置決めに対して移動するウエブの入口および出口角を変えるため、これらの副室が交換可能である。それで、副室の一つ以上を除去し、それらを異なる形状寸法の副室で置換えることにより、この中央室を妨害することなくこれらの角度を変えられる。
【０００７】
しかし、食品包装業界で、例えば包装材料ウエブを滅菌するとき、放射線トラップを使うＧＢ２１５７１４０による解決策は好ましくない。第１に、これらの放射線トラップの設計のために、それらは、滅菌中にこの照射装置を通る制御不能な流体流れを生じるかも知れず且つこの装置それ自体の予備滅菌中に幾つかの難点を生じるかも知れない。これは、望ましくないおよび／または制御不能の衛生レベルを生じるかも知れない。第２に、包装材料ウエブは、このウエブ表面から突出する、キャップのような、予め付けた開口装置を備えるかも知れない。それで、この放射線トラップの“郵便物差入れ口”は、このキャップの付いたウエブを通す大きさである必要がある。差入れ口が大きいとトラップが有効でなくなり、狭い差入れ口と同じ性能を得るためにはトラップの数を増す必要があるかも知れない。今度は、照射装置が大きくなり且つより嵩張る。それで、例えば食品包装業界での滅菌目的には、合理的サイズの照射装置の外側で許容できる放射線レベルを得る問題はまだ残っている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って、この発明の目的は、電子ビーム照射用の合理的サイズの装置で、この装置の外側の放射線レベルが許容できる装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この目的は、ウエブの少なくとも第１面を電子ビーム照射するための装置であって、このウエブを通すようにしたトンネルを含み、上記トンネルは、ウエブ入口部、ウエブ出口部およびそれを通して電子をこのトンネルの中へ放射するようにした電子出口窓を備え、少なくとも第１電子ビーム放射源を受けるようにした中央部を備え、並びにそれでこのトンネルが、この入口部および出口部の各々の少なくとも２個所で、このウエブの電子ビーム照射中にできたＸ線をこのトンネルを出る前に少なくとも２度このトンネル壁に当らせるような方法で、曲げてある装置によって達成される。それで、この発明は、ウエブが通過することは可能であるが、Ｘ線が先ずそれらのエネルギーを許容限界値まで下げずに出口を見付けることが可能であるリスクを最小化するように作ったシールドを含む。この限界値は、例えば、政府規制または市場によって認められた値によって決めることができる。このトンネル設計がシールドとして機能し且つＸ線のエネルギーを低減するという事実のために、このトンネル内部に放射線トラップが何も必要ない。これは、換気して、例えば照射中にできたオゾンを排出するための装置によって、制御された、乱されない気流を導ける可能性をもたらす。更に、そのような制御された、乱されない気流は、この包装機械の停止中に滅菌レベルを維持する可能性をもたらす。これは、後に更に詳しく説明する。
【００１０】
この発明の好適実施例で、この入口部および出口部は、それぞれ三つの連続するセグメント、すなわち入口セグメント、中央セグメントおよび出口セグメントを含み、並びにこの中央セグメントは、この入口セグメントに対し第１角度を成しおよびこの出口セグメントは、この中央セグメントに対し第２角度を成す。この様にして、このシールドの入口と出口の両方が容易に２度曲げられる。
【００１１】
このトンネルの幅、上記角度およびこれらのセグメントの長さの間の関係は、この入口セグメントでこのトンネル壁に当る仮想直線が、この出口セグメントを出る前に、少なくともこの出口セグメントのトンネル壁にも当り、且つこの入口セグメントを通過する仮想直線が、この中央セグメントのトンネル壁に当って、それがこの出口セグメントを出る前に、少なくともこの出口セグメントのトンネル壁にも当るようになっているのが好ましい。Ｘ線をこのシールドを出る前に少なくとも２度トンネル壁に当てさせることによって、Ｘ線エネルギーの許容できる低減を得る。これは、以下に更に詳しく説明する。
【００１２】
この中央部は、それを通して電子をこのトンネルの中へ放射するようにした電子出口窓を備える追加の第２電子ビーム放射源を受けるようになっていて、この電子ビーム放射源は、このウエブの第２面を電子で照射するように配置するようになっているのが都合がよい。ウエブの両面を照射することによって、ウエブの再汚染のリスクが最小化する、即ち、ウエブの滅菌しない面からのバクテリアが滅菌した面を再汚染できるリスクを避ける。
【００１３】
この電子出口窓が実質的に平面であり且つこのウエブと実質的に平行に設けるようになっているのが好ましい。電子をウエブに垂直に放射することによって、電子が移動しなければならない距離が最小になり、それが今度は電子がウエブに達する前の電子エネルギーの損失を最小化する。更に、ウエブに達する電子の量は、放射源をウエブに垂直に向ければ高く、それは今度は良い滅菌結果に繋がる。
【００１４】
更なる好適実施例では、この追加の第２電子ビーム放射源がこの第１電子ビーム放射源と実質的に対向して配置するようになっていて、且つこの電子出口窓がこの第１電子出口窓と実質的に対向して配置するようになっている。この様にして、ウエブの両面を照射し、同時にウエブの再汚染のリスクを効果的に最小化する。
【００１５】
その上更なる実施例では、この放射源がハウジングに収納してある。放射源を収納するハウジングを設けることにより、１次Ｘ線を閉込めることが容易である。更に、このハウジングは、これらの放射源の周辺にこの室を取巻く圧力と異なる圧力が存在することを可能にする。例えば、この装置を通る気流をそれによってより容易に制御できる。
【００１６】
もう一つの実施例では、この放射源が低電圧電子ビーム放射源である。低電圧電子ビーム放射源を使うことは、例えば、照射したウエブで作った包装から出ることがあるような、製品の異臭のような、照射誘発変化のリスクを最小化する。更に、低電圧電子ビーム放射源は、電子およびＸ線のエネルギーが少ないので、エネルギー消費が少なくなり、強いシールドの必要性が低いことは言うまでもない。更に、出来たＸ線およびオゾン（Ｏ３）の取扱いは、低電圧電子ビーム放射源では比較的少量しか出来ないので、簡単になる。更に、低電圧電子ビーム放射源を使うとき、放射源自体を比較的小さくできる。
【００１７】
更に別の実施例では、この入口および出口部がこのトンネルを通してこのウエブを案内するために各々少なくとも一つのウエブ案内を備える。この様にして、ウエブの案内を簡単な方法で達成する。
【００１８】
この出口部のこの少なくとも一つのウエブ案内が、このウエブに関してこのウエブの第２面と接触するように、且つこのウエブの第１面と接触しないようになっている方法で配置するのが好ましい。このウエブ案内を出口に説明したように配置することによって、後にこの包装内容物と接触するようになる、このウエブの第１面がこのウエブ案内と接触させられない。これは、トンネルの出口でのウエブ取扱中に滅菌した表面に負に影響する偶発的リスクを最小化する。それで、この発明は、比較的高い滅菌レベルを保証しなければならない食品包装業界で使うのに適する。
【００１９】
或る実施例では、このウエブ案内が支持部材に支承してある第１および第２ローラを含み、これらのローラは、この第１ローラがこのウエブを第２角度曲げ、第２ローラがウエブを第１角度曲げるような方法で作ってあり且つ相互に位置する。これらのローラは、信頼性があり且つ比較的安い。
【００２０】
更に別の実施例では、この入口部および出口部の入口セグメントがこのトンネルの中央部に隣接し、この入口部および出口部の出口セグメントが互いから離れる方向に向いていて、それによって滅菌したウエブを滅菌しないウエブから更に引離し、それによって再汚染のリスクを更に最小化する。
【００２１】
このトンネル部およびこの放射源ハウジングがハウジングに収容してあるのが都合がよい。これは、照射中に出来たオゾンを封入、制御および排出するのを容易にする。
【００２２】
更に、この発明は、ウエブの少なくとも第１面を電子ビーム照射するための方法に関し、この方法は、このウエブをトンネルに通し、上記トンネルは、ウエブ入口部、ウエブ出口部および電子出口窓を備え、少なくとも第１電子ビーム放射源を受ける中央部を備える工程、この放射源からこの電子出口窓を通してこのトンネルの中へ電子を放射する工程、並びにこのトンネルをこの入口および出口部の各々の少なくとも２個所で曲っているように作ることによって、このウエブの照射中に電子によってできたＸ線をこのトンネルを出る前に少なくとも２度このトンネル壁に当らせる工程を含む。それで、ウエブが通過することを可能にしながら、照射装置をシールドする方法を提供し、さらに、Ｘ線がそのエネルギーを許容限界値まで下げずにこのシールドからの出口を見付けることが可能であるリスクを最小化する。このトンネル設計がシールドとして機能し且つＸ線のエネルギーを低減するという事実のために、このトンネル内部に放射線トラップが何も必要ない。これは、換気して、例えば照射中にできたオゾンを排出するためにこの装置を通る制御された、乱されない気流を導ける可能性をもたらす。更に、そのような制御された、乱されない気流は、この包装機械の停止中に滅菌レベルを維持する可能性をもたらす。
【００２３】
この入口部および出口部をそれぞれの部分が三つの連続するセグメント、すなわち入口セグメント、中央セグメントおよび出口セグメントの列を含むように作り、この中央セグメントは、この入口セグメントに対し第１角度を成すように作りおよびこの出口セグメントは、この中央セグメントに対し第２角度を成すように作るのが好ましい。先に述べたように、この様にしてこのシールドの入口および出口の両方を容易に２度曲げられる。
【００２４】
このトンネルの幅、上記角度およびこれらのセグメントの長さの間の関係を、この入口セグメントでこのトンネル壁に当る仮想直線が、この出口セグメントを出る前に、少なくともこの出口セグメントのトンネル壁にも当るように、およびこの入口セグメントを通過する仮想直線が、この中央セグメントのトンネル壁に当って、それがこの出口セグメントを出る前に、少なくともこの出口セグメントのトンネル壁にも当るようにするのが都合がよい。これらのＸ線をこのシールドを出る前にトンネル壁に少なくとも２度当らせることによって、Ｘ線エネルギーの許容できる低減が得られる。
【００２５】
以下に、この発明の現在好適な実施例を添付の図面を参照して詳しく説明する。
【実施例】
【００２６】
図１に示すこの装置は、中に一つまたは二つの放射源２、３が取付けてある、内ハウジング１を含む。この内ハウジングの中央部は、これらの放射源を受けるようになっている。内ハウジング１は、トンネルを形成し、包装材料ウエブＷをこのトンネルに入れて放射源２、３を通過させる。更に、内ハウジング１は、このウエブを出し入れするための出口部６および入口部５を備える。このウエブ入口部５は、入口部５の中へのウエブＷの流入方向がこの入口部５からのウエブＷの流出方向に対して傾斜しているように設計してある。この入口部５からのウエブＷの流出方向は、ウエブＷが放射源２、３を通過する方向に等しい。入口部５でのウエブＷの流入および流出方向の間の角度は、少なくとも９０°である。入口部５は、少なくとも２個所で曲っているように作ってある。図２に、入口部５が三つの連続するセグメント、すなわち入口セグメント５ａ、中央セグメント５ｂおよび出口セグメント５ｃを含むことを示す。中央セグメント５ｂは、入口セグメント５ａに対し第１角度αを成し、出口セグメント５ｃは、この中央セグメント５ｂに対し第２角度βを成す。更に、トンネルの幅、上記角度α、βおよびセグメント５ａ−ｃの長さの間の関係は、入口セグメント５ａでトンネル壁に当る仮想直線が、出口セグメント５ｃを出る前に、少なくとも出口セグメント５ｃのトンネル壁にも当り、且つ入口セグメント５ａを通過する仮想直線が、中央セグメント５ｂのトンネル壁に当って、それが出口セグメント５ｃを出る前に、少なくともこの出口セグメント５ｃのトンネル壁にも当るようになっている。図３および図４に、紙、定規およびペンを使ってこの設計を得る方法を示す。図３に、第１の最悪ケースのシナリオを示す。入口セグメント５ａの外部に始り、実質的に入口セグメント５ａと中央セグメント５ｂの間の外角の方に向けて直線を引く。この線は、入口セグメント５ａでトンネル壁に当り、実質的に中央セグメント５ｂと出口セグメント５ｃの間の内角に向けて引く。もし、トンネルの幅、角度α、βおよびセグメント長さの間の関係を十分良く考えるべきなら、この直線は、出口セグメント５ｃを出る前に、無理に出口セグメント５ｃのトンネル壁に当てられるだろう。図４に、第２の最悪ケースのシナリオを示す。直線を今度は入口セグメント５ａの外部に始って、実質的にこの入口セグメント５ａの出口に近い内角の方に向くが、中央セグメント５ｂでトンネル壁に当てて引く。次にこの線を実質的に中央セグメント５ｂと出口セグメント５ｃの間の内角の方へ引く。もし、トンネルの幅、角度α、βおよびセグメント長さの間の関係を十分良く考えるべきなら、この直線は、出口セグメント５ｃを出る前に、無理に出口セグメント５ｃのトンネル壁に当てられるだろう。それで、もしある角度を使うなら、修正できるパラメータはトンネルの幅かセグメントの長さであることが分る。トンネルが広いと長いセグメントを必要とする。もし、短いセグメントが必要なら、トンネルの幅を減らさねばならない。もう一つの可能性は、勿論角度の一つまたは両方を変えることである。図示する例では、入口部の角度αおよびβ、長さおよび幅が出口部の対応する角度、長さおよび幅と同じである。二つの部分の長さおよび幅は、勿論角度が違ってもよいことを理解すべきである。
【００２７】
先に述べたように、ウエブＷは、照射装置１を通過し、その中でそれが滅菌され、続いて充填機の無菌塔１０５の中へ送られ、そこでこのウエブＷは、このウエブＷの縦縁を重ね合せて封止することによりチューブにされる。このチューブを連続的に製品で満たし、横に封止してクッションを作る。これらのクッションを切離して、例えば平行六面体の容器、即ち包装に作る。ウエブからチューブを作るこの技術は、それ自体周知であるのでこれ以上は説明しない。
【００２８】
このウエブＷは、二つの面、第１面Ｗ１と第２面Ｗ２がある。このウエブＷの第１面Ｗ１は、ウエブＷのこの包装の内容物、即ち製品と接触するようにされる面であり、チューブ成形中このチューブの内側に、従ってこのクッションの内側に、且つ完成後の包装の内側になるようになっている面であると定義する。従って、このウエブＷの第２面Ｗ２は、それでウエブＷのこの製品と接触しないことになっている面であり、チューブ成形中このチューブの外側に、従ってこのクッションの外側に、且つ完成後の包装の外側になるようになっている面であると定義する。
【００２９】
この入口部で、少なくとも一つのウエブ案内を設けることによってウエブＷの走行方向を変更する。この例では、このウエブ案内が入口部５の内部に取付けた第１および第２ローラ９、１０である。この開示した設計で、ウエブＷは、ほぼ水平に入口部５の中へ走行し、それが入口部５を離れるとき実質的に垂直に上方へ走行し、内ハウジング１に入る。この方向変更を達成するために、ローラ９、１０は、第１ローラ９がウエブＷを第２角度β曲げ、第２ローラ１０がウエブＷを第１角度α曲げるように作られ、配置されている。ローラ９、１０は、支持部材に支承してあるのが好ましい。この支持部材は、例えば、トンネルと同じ設計基準に従って設計した外シールドまたは軸受ハウジングを備える軸受でもよい。
【００３０】
このウエブＷは、ウエブＷの第１面Ｗ１がウエブ案内と接触するように入口部５に送込む。それで、給送中、この第１面Ｗ１は、ローラ９、１０の外被面と一時的に接触する。
【００３１】
出口部６は、入口セグメント６ａ、中央セグメント６ｂおよび出口セグメント６ｃで同様に設計してある。ウエブＷの走行方向を変えるために、出口部６は、一つ以上のローラ１１、１２を含む。この入口部５および出口部６は、ウエブＷが出口部６を離れるとき、それが入口部５に入るときと同じ方向に走行するように取付け且つ設計してある。開示した設計では、入口部５と出口部６は類似していて、それぞれ同じフランジを使うが、この内ハウジング１を縦貫するウエブＷの中心線に沿って伸びる軸線Ａの周りに１８０°回転して内ハウジング１の二つの対向する面１ａ、１ｂに取付けてある。それで、入口部５および出口部６のそれぞれの入口セグメント５ａ、６ａは、このトンネルの中央部に隣接し、入口部５および出口部６のそれぞれの出口セグメント５ｃ、６ｃは、互いから離れる方に向いている。入口部６に類似する出口部６を有することは、この照射装置１の製造中に同じ型を使えるので有利である。
【００３２】
図１で、入口部５に対する出口部６の設計が、ウエブＷの第１面Ｗ１がウエブ案内と接触するのを防ぐように、ウエブＷが出口部６を通過することを保証するのが分る。その代りに給送中、第２面Ｗ２がローラ１１、１２の外被面と一時的に接触する。
【００３３】
外ハウジング４が内ハウジング１を囲み、この外ハウジング４は、ウエブＷを出し入れするための出口８および入口７を形成する開口を備える。
【００３４】
放射源２、３は、出口窓２１、３１から電子ビームを送出する。これらの放射源は、第１放射源２はウエブＷの第１面Ｗ１を照射するように、第２放射源３は第２面Ｗ２を照射するように配置してある。このため、第２電子ビーム放射源３は、実質的に第１放射源２に対向して位置し、この第２放射源３の出口窓３１は、実質的に第１電子出口窓２１に対向して位置する。以下には、第１放射源２だけを詳しく説明する。図５に示す、開示した設計によれば、放射源２は、一般的に中にフィラメント２３およびケージ２４を備える真空室２２を含む。このフィラメント２３に電流を送ると、フィラメント２３の電気抵抗がこのフィラメント２３を２０００°Ｃのオーダの温度に加熱させる。この加熱は、フィラメント２３に電子雲を出させる。多数の開口を備えるケージ２４がフィラメント２３を囲む。このケージ２４は、ファラデー箱の役をし、電子を制御した状態で分配するのを助ける。これらの電子を、ケージ２４と出口窓２１の間の電圧によって加速する。使用する放射源は、一般的に低電圧電子ビーム放射と称されるもので、その電圧は通常３００ｋＶ以下である。開示した設計では、加速電圧が７０−８５ｋＶのオーダである。この電圧は、各電子に関して７０−８５ｋＶの運動エネルギー（動力）を出す。この電子出口窓は、実質的に平面で、ウエブと実質的に平行に設けてある。更に、この出口窓２１は、金属箔で作ってあり、６μｍのオーダの厚さを有する。アルミニウムで作った支持ネットが出口窓２１を支持する。この種の放射源は、ＵＳ−Ｂ１−６，４０７，４９２に更に詳しく開示してある。ＵＳ−Ａ−５，６３７，９５３にもう一つの放射源が開示してある。この放射源は、一般的に出口窓を備える真空室を含み、この真空室内にフィラメントおよび二つの収束板が設けてある。ＵＳ−Ａ−４，９１０，４３５に、更に別の放射源が開示してあり、そこでは電子がイオン衝撃による材料からの２次電子放射によって放出される。これらの種々の放射源の更に詳しい説明については上記の特許を引用する。これらの放射源およびその他の放射源が説明したシステムに使えることを意図する。
【００３５】
電子が真空室内にある限り、それらは、ケージ２４および窓に供給する電圧が定める直線経路に沿って移動するが、それらがこの放射源窓を通して放射源から出ると、それらは多かれ少なかれ不規則な経路を動き（散乱し）始める。これらの電子は、特に空気分子、バクテリア、ウエブおよびハウジングの壁と衝突すると減速する。電子のこの減速は、全ての方向にＸ線（レントゲン線）の放出をもたらす。これらのＸ線は、直線に沿って伝播する。そのようなＸ線がこのハウジングの内壁に当ると、このＸ線は、この材料の中へある距離入り、最初のＸ線が入った点からあらゆる方向に新しいＸ線を出す。Ｘ線がハウジング壁に当り、２次Ｘ線を生じる度毎に、エネルギーが、このハウジング用に選択される材料に応じて約７００分の１−１０００分の１に減少する。ステンレス鋼は、減少率が約８００、即ち、２次Ｘ線のエネルギーが１次Ｘ線に対して約８００分の１に減少する。鉛は、放射線が関わるとき屡々考慮される材料である。鉛は、減少比が低いが、他方この材料を通るＸ線の透過に対して高い抵抗を有する。もし、電子を約８０ｋＶの電圧で加速するならば、電子は約８０ｋＶの運動エネルギーを与えられる。このエネルギーレベルのＸ線が内ハウジング１を貫通しないことを保証するために、この内ハウジング１を厚さ約２２ｍｍのステンレス鋼で作る。同様に、入口および出口部をステンレス鋼で作り、図１で分るように、実質的に同じ厚さにする。この様にして、内ハウジング並びに入口および出口部の両壁が放射線シールドを作る。ウエブＷの電子ビーム照射中にできたＸ線は、その壁を貫通するのを妨げられる。この厚さは、この壁に対して垂直に進むＸ線に対して計算する。この壁に対して傾斜して進行するＸ線は、同じ深さに達するために壁の中で、より長い距離を通る、即ち、より厚い壁を通るのと同じ効果をもたらす。この壁の厚さは、ハウジング外部の放射線の量に関する政府規制によって決る。今日放射線の限界値（放射線はこの限界値より低くなければならない。）は、アクセス可能面、即ちシールドの外部から０．１ｍの距離で測定して０．１μＳｖ／ｈである。材料および寸法の選択は、現在該当する規則によって影響されること、および新しい規則が材料または寸法の選択を変えるかも知れないことに注意すべきである。各電子のエネルギー（８０ｋＶ）および電子の数がこの電子雲の全エネルギーを決める。この全エネルギーが滅菌すべき表面へ伝達される全エネルギーとなる。この放射線エネルギーは、グレイ単位（Ｇｙ）で測定する。上に簡単に説明した電子放射源（フィラメントおよびファラデー箱を備える）の場合、このフィラメントを通る約１７ｍＡの電流を使うのが現在適当と考えられる。しかし、これは、決定した放射線レベルおよび滅菌すべき表面の面積に依る。この例では、放射源を３５ｍ／ｓの速度で通過する幅４００ｍｍのウエブを滅菌することをもくろむ。これは、平均３５ｋＧｙのオーダの放射線エネルギーを与える。もう一つの例では、ウエブ幅がやはり４００ｍｍであるが、ウエブが移動する速度を１００ｍ／ｓに増す。同じ放射線エネルギー、３５ｋＧｙを得るために、電流を約５０ｍＡに増す。
【００３６】
以下に、この装置のガス状流体システムを説明する。この実施例では、流体が無菌空気であるが、それは、勿論、この装置を使う応用分野に適するどんなガス状流体でもよい。
【００３７】
図６に示す、この機械の空気システム１００は、圧縮機１０１および水分離器１０２を含み、それから加圧空気を得る。この空気を熱交換器１０３に供給し、そこでこの空気を約１００°Ｃに予熱する。熱交換器１０３から、この空気を過熱器１０４へ送り、そこでこの空気を３３０−４５０°Ｃの範囲内の温度に加熱する。３３０°Ｃ以上の温度で空気中のあらゆるバクテリアは死滅する。この殺滅率は、温度およびバクテリアが上記温度に曝される時間に依る。過熱器１０４からの空気は、入来空気の上記予熱を達成するために熱交換器１０３へ戻す。熱交換器１０３の２度目の通過後、この空気は、約９０°Ｃの温度を有する。次にこの空気を、充填機の塔１０５と流体連通した第１分岐および外ハウジング４が形成する第１室１０７と流体連通した第２分岐を有する切替弁１０６へ送る。塔１０５へ供給した空気の少量は、出口開口１０８を通ってこの塔１０５から出るウエブＷに追従するだろう。塔１０５の中では、ウエブＷがその縦縁を重ね合せて封止することによってチューブにされる。このチューブを、ウエブＷのまだチューブに変形されていない端からこのチューブの中へ伸びる製品パイプ１０９を介して連続的に製品で満たす。ウエブからチューブを作るこの技術は、それ自体周知であるので詳しくは説明しない。出口開口１０８は、この出口開口１０８から外への空気の制御した流れを得るために、封止リング（図示せず）を備える。これは、開口１０８から送出されるチューブとこの出口開口１０８との隙間を与えられた寸法とすることによっても達成できる。このチューブを横に封止してクッションを作り、それを切離して平行六面体の容器に作る。再び、この技術は、それ自体周知であるので詳しくは説明しない。塔１０５に供給する空気のかなりの部分は、塔１０５の中をウエブＷの移動方向とは反対の方向に流れる。塔１０５は、空気出口開口として作用するウエブ入口開口１１０を備える。塔１０５からの空気は、内ハウジング１から成る第２室１１１へ送られる。
【００３８】
以下に、図６で破線で表した部分を説明する。これらの破線は、第１室および第２室への空気流の二つの代替実施例を表す。第１実施例では、これらの線は連続で、直接第２室１１１のウエブ出口開口１１２と、第１室１０７のウエブ出口開口１２１（出口８でもある。）との間の閉じた流通を表す。第２実施例では、これらの線がなく、第１および第２室１０７、１１１と第１室１０７のウエブ出口開口１２１の間の開いた流通を表す。
【００３９】
この第１実施例では、第２室１１１のウエブ出口開口１１２と第１室１０７のウエブ出口開口１２１の間に流体結合がある。それで、空気を、空気流入口開口として作用するウエブ出口開口１１２を介して第２室１１１へ送込む。塔１０５は、第１空気源として作用する。もし、第２室１１１のウエブ出口開口１１２が第１室１０７のウエブ出口開口１２１から少し離れて、且つ好ましくはそれと整列して位置するならば、この流体結合は、例えば、第２室１１１のウエブ出口開口１１２を第１室１０７のウエブ出口開口１２１に結合するパイプを含むことができる。あるいはその代りに、第２室１１１のウエブ出口開口１１２が第１室１０７のウエブ出口開口１２１まで伸びる。第１室１０７と第１室１０７のウエブ出口開口１２１の間の流体結合は、それによって妨げられる。先に説明したように、切替弁１０６は、第１室１０７のための空気源１０６として作用する。
【００４０】
第２実施例では、第１室１０７と第２室１１１が第１室１０７のウエブ出口開口１２１と流体結合していて、それで両室１０７、１１１が塔１０５の空気源と結合している。その上、第１室１０７が空気の追加供給のために弁１０６と接触している。
【００４１】
両実施例で、第２室１１１の空気は、この第２室１１１を通るウエブＷの移動方向と反対方向に流れる。第２室１１１を殆ど完全に通過してから、この空気は、その最終処理のために排出出口１１３経由で送られる。同様に、第１室１０７に提供した空気は、ウエブＷの移動方向と反対方向に流れる。第１室１０７および第２室１１１からの空気は、出口１１３から排出される。それで、両室１０７、１１１がこの出口と連絡している。第１室１０７に供給した空気の少量が、ウエブ入口開口１１５（入口７でもある。）から漏れる。漏れる量は、隙間の形状および使用するシールに依る。隙間の形状および使用するシールは、特にウエブが予め付けられた開口装置と共に供給されるかどうかに依る。
【００４２】
排出出口１１３は、第２室１１１のウエブ入口開口１１４近くに位置する。図１で、出口１１３は、第２室１１１の内部に位置する。例えば、出口１１３は、第２室１１１のウエブ入口開口１１４付近に位置することができる。出口１１３は、第２室１１１からの殆ど全ての空気および第１室１０７からの殆どの空気を排出する。第１室１０７のウエブ入口開口１１５は、第１室１０７と第２室１１１のウエブ入口開口１１４の両方との間に流体結合がある。図７に示す代替実施例では、出口１１３が第２室１１１と流体連通した二つの分岐１１３ａ、１１３ｂを含む。この図を参照すると、第１出口分岐１１３ａは、第２室１１１のウエブ入口開口１１４付近の室壁の上に位置し、第２出口分岐１１３ｂは、第１出口分岐と反対の底壁に位置する。
【００４３】
このシステムの空気の流れは、第１過圧を第１室１０７の内部で創るように制御する。説明した実施例で、この圧力は、２９４Ｐａのオーダである。更に、第２過圧は、第２室１１１内部で創る。これらの過圧は、例えば、第１過圧および第２過圧が同じであるように選ぶことができる。その代りに、これらの過圧を第１過圧と第２過圧が違うように選ぶこともできる。第１過圧が第２過圧より高くてもよく、逆も同様である。第１過圧を第２過圧より高いように選ぶ一つの理由は、照射中にできるオゾン（Ｏ３）を第２室１１１内に保ち、そうすればそれを出口１１３から直ちに排出できるからである。更に、第１過圧より低い第２過圧は、例えば、この機械の始動でのこの装置の予備滅菌に役立つ。第２室の圧力を第１室に比べて低くすることにより、滅菌中に使う過酸化水素の十分な量をこの第２室内部に押込むことができる。この予備滅菌を以下に更に詳しく説明する。第２過圧を第１過圧より高いように選ぶ一つの理由は、第２室から、例えば、異臭を生じる、オゾンおよび起り得るその他の揮発性物質の迅速な排出を得るためである。
【００４４】
内ハウジング１内部、即ち、放射源２、３周辺の圧力は好ましくは第２室１１１内部の圧力より低くする。第２室１１１内部の圧力より低い圧力を選ぶ一つの理由は、内ハウジング１に含まれる汚染した空気によるウエブＷの再汚染のリスクを最小化するためである。この特別の実施例で使用する放射源２、３に何も決った圧力が必要ないので、内ハウジング１内の圧力は、大気圧でもよい。しかし、もし、使用する放射源が必要とするなら、内ハウジング１を加圧してもよいことを理解すべきである。
【００４５】
第１室１０７の外部に、空気システム１００は、所謂ゼロ点１１６を備える。このゼロ点１１６は、このシステムの何処かが故障したら、大気圧以下の圧力を避けるために必要な空気をこのゼロ点１１６を介してこのシステムに送込むことを確実にする装置である。この様にして、塔１０５、第１室１０７および第２室１１１内部の圧力が少なくとも大気圧以下に落ちないことが保証される。このゼロ点１１６は、一般的に入口１１７、出口１１８および弁１２０によって閉じる開口１１９を有するハウジングを含む。大気圧を超える圧力は、この弁を外方に押して開口１１９を封止する。ゼロ点１１６内部の圧力が大気圧以下に落ちると、弁１２０は、開口１１９に押付けられない（それどころか、それがゼロ点１１６の内方に押されて、この開口１１９から空気をこのシステムに導入できる）。
【００４６】
例えば、この機械の始動中、塔１０５および室１０７、１１１の内部の表面をウエブＷが入る前に滅菌するためにこの空気システム１００を使うことができる。この滅菌は、過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）で行う。過酸化水素を使う滅菌は、それ自体知られているが、以下にこの空気システム１００に関して簡単に説明する。塔１０５は、過酸化水素供給源と接続されていて、それはエアロゾル・ノズルを備える。これらのノズルは、過酸化水素を空気中にスプレーとして送り、この塔に供給した空気を、過酸化水素が気化する温度、通常４０−５０°Ｃのオーダの温度に加熱する。空気に含まれる過酸化水素は、塔１０５および室１０７、１１１を先に説明した方向に流過し、排出出口１１３で排出される。途中、過酸化水素は、表面に凝結する。次にこの過酸化水素は、過酸化水素気化温度以上の温度の空気を供給することによってこの表面から除去する。この実施例では、７０−９０°Ｃのオーダの温度を使用する。気化温度より十分上の温度にすることにより、過酸化水素をこの表面から効果的且つ迅速に除去する。
【００４７】
この装置のガス状流体システムの利点の一つは、この充填機の停止中に現れる。停止中、ウエブＷを停止し、このウエブＷを損傷しないように照射装置１の電子ビーム放射源２、３を止めるべきである。しかし、第１および第２室１０７、１１１の両方にウエブＷの移動方向と反対方向に無菌空気の流れをまだ連続的に提供することにより、この装置１の内部に所望の滅菌レベルを維持することができる。それによって、ウエブＷの滅菌の所望のレベルを確保し、あらゆる起り得るその再汚染のリスクを最小化する。
【００４８】
ウエブＷの電子ビーム放射のための方法によれば、ウエブＷが供給されてトンネルを通過させる。このトンネルは、ウエブ入口部５、ウエブ出口部６および電子出口窓２１、３１を備える電子ビーム放射源２、３を受けるようになっている中央部を備える。電子は、放射源２、３から電子出口窓２１、３１を介してこのトンネルの中へ放射し、このウエブＷの照射中に電子によって作られるＸ線は、このトンネルを出る前に、このトンネル壁に２度強制的に衝突させられる。少なくとも２度の衝突を達成するために、このトンネルは、入口および出口部５、６の各々で少なくとも２個所で曲げて作ってある。
【００４９】
ウエブＷは、入口および出口部５、６の各々に設けた少なくとも一つのウエブ案内によってこのトンネルを通して案内する。出口部６のウエブ案内は、ウエブＷに関して、このウエブＷの第２面Ｗ２と接触するようになっていて、ウエブＷの第１面Ｗ１との接触を妨げるようになっているような方法で位置する。
【００５０】
更に、この方法は、入口部５が三つの連続するセグメント、すなわち入口セグメント５ａ、中央セグメント５ｂおよび出口セグメント５ｃの列を含むようにこの入口部５を作る工程を含む。この中央セグメント５ｂは、入口セグメント５ａに対し第１角度αを成すように作ってある。更に、出口セグメント５ｃは、この中央セグメント５ｂに対し第２角度βを成す。出口部６も同様に設計してある。
【００５１】
トンネルの幅、上記角度α、βおよびセグメント５ａ−ｃの長さの間の関係は、入口セグメント５ａでトンネル壁に当る仮想直線が、出口セグメント５ｃを出る前に、少なくとも出口セグメント５ｃのトンネル壁にも当り、且つ入口セグメント５ａを通過する仮想直線が、中央セグメント５ｂのトンネル壁に当って、それが出口セグメント５ｃを出る前に、少なくともこの出口セグメント５ｃのトンネル壁にも当るようになっている。
【００５２】
電子による照射中、この装置の内部にオゾン（Ｏ３）ができることが分っている。従って、この発明は、この装置を換気する方法も含む。この方法は、ウエブ入口開口１１５およびウエブ出口開口１２１を含む第１室１０７を用意する工程を含む。この第１室１０７は、外ハウジング４である。トンネルである、第２室１１１も設けてあり、第１室１０７の内部を伸びる。この第２室１１１は、ウエブ入口開口１１４およびウエブ出口開口１１２を含むように作ってある。更に、電子出口窓２１、３１を備え、それを通して電子を第２室１１１の中へ放射するようになっている。ウエブＷは、第２室１１１を貫通し、第１および第２室１０７、１１１の両方を通る空気の流れができる。この空気流は、ウエブＷの移動方向と反対方向に流れる。この空気を第１室１０７のウエブ出口開口１２１に供給し、また、少なくとも一つの出口１１３を設ける。
【００５３】
代替方法では、第２室１１１のウエブ出口開口１２１と第１室１０７のウエブ出口開口１１２の間に流体結合がもたらされる。同時に第１室１０７と第１室１０７のウエブ出口開口１２１の間の流体結合が妨げられる。ウエブＷの移動方向と反対方向に第１および第２室１０７、１１１の両方を通る空気の流れを、上記空気を第１室１０７におよび第１室１０７のウエブ出口開口１２１に供給し且つ少なくとも一つの出口１１３を設けることによって創ることができる。空気を第１室１０７と流体連通している弁１０６から第１室１０７に供給する。
【００５４】
この方法によれば、ウエブＷは、第１室１０７のウエブ入口開口１１５からこの装置に入り、第２室１１１にそのウエブ入口開口１１４から入る。両開口１１５、１１４は、それらを通るときウエブＷを真っ直ぐに、実質的に水平に保つように位置する。入口部５の内部で、ウエブＷは、第１ローラ９で第２角度β曲げられ、第２ローラ１０で第１角度α曲げられる。移動中、ウエブＷは、ウエブＷと反対方向の流れる空気流に遭遇する。ウエブＷがこのトンネルの中央部を通るとき、今度は垂直方向に移動し、電子出口窓２１、３１を通過し、それを通してこのウエブＷが放射源２、３によって照射される。電子出口窓２１、３１は、トンネルの対向する側に位置し、それによってウエブＷの両面を照射する。照射後、ウエブＷは、出口部６に入り、そこでウエブＷは、入口部５でのように、２度曲げられる。最後に、ウエブＷは第２室１１１のウエブ出口開口１１２から、および次に第１室１０７のウエブ出口開口１２１からこの装置を出て塔１０５に入る。
【００５５】
本発明を現在好適な実施例に関して説明したが、この発明の目的および添付の請求項に定義する範囲から逸脱することなく種々の修正および変形を為してもよいことを理解すべきである。
【００５６】
説明した実施例は、二つの放射源２、３を、一つはウエブＷの第１面Ｗ１の電子照射用に、他はウエブＷの第２面Ｗ２の電子照射用に含む。しかし、この装置は二つの放射源２、３を含む必要はなく、製品と接触する面を照射するために第１放射源２だけを含むことができることを理解すべきである。更に、二つの放射源２、３が互いに対向して位置することを説明した。その代りに、それらは、ウエブ移動方向に互いから少し離れて位置することができる。
【００５７】
その上、放射源の数が２を超えてもよいことも理解すべきである。例えば、広いウエブを扱うために、幾つかの放射源を並べることが可能である。また、二つ以上の放射源をウエブ移動方向に沿って並べて配置し、決った放射線レベルをもたらす後続滅菌領域を作るか、または高い放射線レベルが必要な場所、例えば、閉鎖装置を選択的に放射するための手段とすることも可能である。
【００５８】
説明したウエブ案内は、曲げローラである。しかし、ウエブ案内は曲げローラである必要はなく、トンネルを通してウエブを案内するために適したどんな他の手段でもよいことを理解すべきである。
【００５９】
更に、出口１１３の位置を修正できることを理解すべきである。上に説明した実施例では、この出口１１３が第２室１１１の内部に位置する。その代りに、この出口１１３は、例えば、第２室１１１のウエブ入口開口１１４の付近または第１室１０７のウエブ入口開口１１５の付近に位置してもよい。出口１１３を第１室１０７の外部で入口開口１１５付近に位置付けることも可能である。
【００６０】
その上、上に説明した実施例では、出口１１３が第２室１１１の内部に位置し、第１室１０７がこの第２室１１１と流体結合している。代替実施例では、第２室１１１のウエブ入口開口１１４が第１室１０７のウエブ入口開口１１５と流体結合していて、一方第１室１０７、そのウエブ入口開口１１５と第２室１１１のウエブ入口開口１１４の間の流体結合は妨げられる。二つの室１０７、１１１は、別々の出口に通じている。少なくとも一つの出口が第１室１０７に存在し、少なくとも一つの出口が第２室１１１に存在するかまたは第２室１１１と流体連通している。
【００６１】
更に、過酸化水素を使う説明した空気システムは、防腐応用分野で使うのが好ましい。低温殺菌した製品を取扱うために使用する包装機械での対応する空気システムでは、機械滅菌を通常濾過した空気を使って行うが、空気流は同じである。上に説明したシステムの代りに、このシステムは、フィルタとファンを含むことができる。作業中これらの室からオゾンを排出するために、このシステムは、触媒コンバータを備えることができる。
【００６２】
その上、図示する実施例では、第２室１１１のウエブ入口開口１１４が第１室１０７のウエブ入口開口１１５から少し離れて、且つ好ましくはそれと整列して位置する。その代りに、この第２室１１１は、第１室１０７のウエブ入口開口１１５までいっぱいに伸びることができ、それによって第１室１０７とウエブ入口開口１１５の間の流体結合を妨げる。この場合第２室１１１の壁は、このウエブ入口開口から少し離れるが、出口１１３の前に開口、好ましくはスリットを備える。それによって二つの室の間の流体結合がもたらされ、この構成は、インジェクタ効果を生じ、第１室からこれらのスリットを通って第２室へ流れる空気流を作り、そこで出口１１３から排出される。少量の空気もハウジングの外部からウエブ入口開口１１５を通って吸引される。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】この装置の実施例の概略断面図を示す。
【図２】トンネルのセグメント、角度および放射源を備える内ハウジングを図解する概略図を示す。
【図３】トンネルの幅、セグメントの角度および長さの関係についての概略第１図解を示す。
【図４】トンネルの幅、セグメントの角度および長さの関係についての概略第２図解を示す。
【図５】この装置に収納した放射源の概略断面図を示す。
【図６】この発明による空気システムの概略図を示す。
【図７】図１に類似する概略図を示すが、反対側から示し且つ代替実施例を示す。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウエブ（Ｗ）の少なくとも第１面（Ｗ１）を電子ビーム照射するための装置であって、このウエブ（Ｗ）を通すようにしたトンネルを含み、上記トンネルは、ウエブ入口部（５）、ウエブ出口部（６）およびそれを通して電子をこのトンネルの中へ放射するようにした電子出口窓（２１）を備え、少なくとも第１電子ビーム放射源（２）を受けるようにした中央部を備え、並びにそれでこのトンネルが、この入口部（５）および出口部（６）の各々の少なくとも２個所で、このウエブ（Ｗ）の電子ビーム照射中にできたＸ線をこのトンネルを出る前に少なくとも２度このトンネル壁に当らせるような方法で、曲げてある装置。
【請求項２】
請求項１による装置で、この入口部（５）および出口部（６）がそれぞれ三つの連続するセグメント、すなわち入口セグメント（５ａ、６ａ）、中央セグメント（５ｂ、６ｂ）および出口セグメント（５ｃ、６ｃ）を含み、並びにこの中央セグメント（５ｂ、６ｂ）は、この入口セグメント（５ａ、６ａ）に対し第１角度（α）を成し、この出口セグメント（５ｃ、６ｃ）は、この中央セグメント（５ｂ、６ｂ）に対し第２角度（β）を成す装置。
【請求項３】
請求項２による装置で、このトンネルの幅、上記角度（α、β）およびこれらのセグメント（５ａ−ｃ、６ａ−ｃ）の長さの間の関係は、この入口セグメント（５ａ、６ａ）でこのトンネル壁に当る仮想直線が、この出口セグメント（５ｃ、６ｃ）を出る前に、少なくともこの出口セグメント（５ｃ、６ｃ）のトンネル壁にも当り、この入口セグメント（５ａ、６ａ）を通過する仮想直線が、この中央セグメント（５ｂ、６ｂ）のトンネル壁に当って、それがこの出口セグメント（５ｃ、６ｃ）を出る前に、少なくともこの出口セグメント（５ｃ、６ｃ）のトンネル壁にも当るようになっている装置。
【請求項４】
請求項１による装置で、この中央部は、それを通して電子をこのトンネルの中へ放射するようにした電子出口窓（３１）を備える追加の第２電子ビーム放射源（３）を受けるようになっていて、この電子ビーム放射源（３）は、このウエブ（Ｗ）の第２面（Ｗ２）を電子で照射するように配置するようになっている装置。
【請求項５】
請求項１および請求項４による装置で、この電子出口窓（２１、３１）が実質的に平面であり且つこのウエブ（Ｗ）と実質的に平行に設けるようになっている装置。
【請求項６】
請求項４および請求項５による装置で、この追加の第２電子ビーム放射源（３）がこの第１電子ビーム放射源（２）と実質的に対向して配置するようになっていて、且つこの電子出口窓（３１）がこの第１電子出口窓（２１）と実質的に対向して配置するようになっている装置。
【請求項７】
請求項１および請求項４−６による装置で、この放射源（２、３）がハウジング（１）に収納してある装置。
【請求項８】
請求項１および請求項４−７による装置で、この放射源（２、３）が低電圧電子ビーム放射源である装置。
【請求項９】
請求項１による装置で、この入口および出口部（５、６）がこのトンネルを通してこのウエブを案内するために各々少なくとも一つのウエブ案内を備える装置。
【請求項１０】
請求項９による装置で、この出口部（６）のこの少なくとも一つのウエブ案内が、このウエブ（Ｗ）に関してこのウエブ（Ｗ）の第２面（Ｗ２）と接触するように、且つこのウエブ（Ｗ）の第１面（Ｗ１）と接触しないようになっている方法で配置してある装置。
【請求項１１】
請求項９および請求項１０による装置で、このウエブ案内が支持部材に支承してある第１および第２ローラ（９、１０、１１、１２）を含み、これらのローラ（９、１０、１１、１２）は、この第１ローラ（９、１１）がこのウエブ（Ｗ）を第２角度（β）曲げ、第２ローラ（１０、１２）がウエブ（Ｗ）を第１角度（α）曲げるような方法で作ってあり且つ相互に位置する装置。
【請求項１２】
請求項２−１１の何れかによる装置で、この入口部（５）および出口部（６）の入口セグメント（５ａ、６ａ）がこのトンネルの中央部に隣接し、この入口部（５）および出口部（６）の出口セグメント（５ｃ、６ｃ）が互いから離れる方向に向いている装置。
【請求項１３】
請求項２−１２の何れかによる装置で、このトンネル部およびこの放射源ハウジング（１）がハウジング（４）に収容してある装置。
【請求項１４】
ウエブ（Ｗ）の少なくとも第１面（Ｗ１）を電子ビーム照射するための方法であって：
このウエブ（Ｗ）をトンネルに通し、上記トンネルは、ウエブ入口部（５）、ウエブ出口部（６）および電子出口窓（２１）を備え、少なくとも第１電子ビーム放射源（２）を受ける中央部を備える工程、
この放射源（２）からこの電子出口窓（２１）を通してこのトンネルの中へ電子を放射する工程、並びに
このトンネルをこの入口および出口部（５、６）の各々の少なくとも２個所で曲っているように作ることによって、ウエブ（Ｗ）の照射中に電子によってできたＸ線をこのトンネルを出る前に少なくとも２度このトンネル壁に当らせる工程を含む方法。
【請求項１５】
請求項１４による方法で、この入口部および出口部（５、６）をそれぞれの部分が三つの連続するセグメント、すなわち入口セグメント（５ａ、６ａ）、中央セグメント（５ｂ、６ｂ）および出口セグメント（５ｃ、６ｃ）の列を含むように作る工程を含み、この中央セグメント（５ｂ、６ｂ）は、この入口セグメント（５ａ、６ａ）に対し第１角度（α）を成すように作り、この出口セグメント（５ｃ、６ｃ）は、この中央セグメント（５ｂ、６ｂ）に対し第２角度（β）を成すように作る方法。
【請求項１６】
請求項１５による方法で、このトンネルの幅、上記角度（α、β）およびこれらのセグメント（５ａ−ｃ、６ａ−ｃ）の長さの間の関係を、この入口セグメント（５ａ、６ａ）でこのトンネル壁に当る仮想直線が、この出口セグメント（５ｃ、６ｃ）を出る前に、少なくともこの出口セグメント（５ｃ、６ｃ）のトンネル壁にも当るように、且つこの入口セグメント（５ａ、６ａ）を通過する仮想直線が、この中央セグメント（５ｂ、６ｂ）のトンネル壁に当って、それがこの出口セグメント（５ｃ、６ｃ）を出る前に、少なくともこの出口セグメント（５ｃ、６ｃ）のトンネル壁にも当るようにする工程を含む方法。
【請求項１】
ウエブ（Ｗ）の少なくとも第１面（Ｗ１）を電子ビーム照射するための装置であって、このウエブ（Ｗ）を通すようにしたトンネルを含み、上記トンネルは、ウエブ入口部（５）、ウエブ出口部（６）およびそれを通して電子をこのトンネルの中へ放射するようにした電子出口窓（２１）を備え、少なくとも第１電子ビーム放射源（２）を受けるようにした中央部を備え、並びにそれでこのトンネルが、この入口部（５）および出口部（６）の各々の少なくとも２個所で、このウエブ（Ｗ）の電子ビーム照射中にできたＸ線をこのトンネルを出る前に少なくとも２度このトンネル壁に当らせるような方法で、曲げてある装置。
【請求項２】
請求項１による装置で、この入口部（５）および出口部（６）がそれぞれ三つの連続するセグメント、すなわち入口セグメント（５ａ、６ａ）、中央セグメント（５ｂ、６ｂ）および出口セグメント（５ｃ、６ｃ）を含み、並びにこの中央セグメント（５ｂ、６ｂ）は、この入口セグメント（５ａ、６ａ）に対し第１角度（α）を成し、この出口セグメント（５ｃ、６ｃ）は、この中央セグメント（５ｂ、６ｂ）に対し第２角度（β）を成す装置。
【請求項３】
請求項２による装置で、このトンネルの幅、上記角度（α、β）およびこれらのセグメント（５ａ−ｃ、６ａ−ｃ）の長さの間の関係は、この入口セグメント（５ａ、６ａ）でこのトンネル壁に当る仮想直線が、この出口セグメント（５ｃ、６ｃ）を出る前に、少なくともこの出口セグメント（５ｃ、６ｃ）のトンネル壁にも当り、この入口セグメント（５ａ、６ａ）を通過する仮想直線が、この中央セグメント（５ｂ、６ｂ）のトンネル壁に当って、それがこの出口セグメント（５ｃ、６ｃ）を出る前に、少なくともこの出口セグメント（５ｃ、６ｃ）のトンネル壁にも当るようになっている装置。
【請求項４】
請求項１による装置で、この中央部は、それを通して電子をこのトンネルの中へ放射するようにした電子出口窓（３１）を備える追加の第２電子ビーム放射源（３）を受けるようになっていて、この電子ビーム放射源（３）は、このウエブ（Ｗ）の第２面（Ｗ２）を電子で照射するように配置するようになっている装置。
【請求項５】
請求項１および請求項４による装置で、この電子出口窓（２１、３１）が実質的に平面であり且つこのウエブ（Ｗ）と実質的に平行に設けるようになっている装置。
【請求項６】
請求項４および請求項５による装置で、この追加の第２電子ビーム放射源（３）がこの第１電子ビーム放射源（２）と実質的に対向して配置するようになっていて、且つこの電子出口窓（３１）がこの第１電子出口窓（２１）と実質的に対向して配置するようになっている装置。
【請求項７】
請求項１および請求項４−６による装置で、この放射源（２、３）がハウジング（１）に収納してある装置。
【請求項８】
請求項１および請求項４−７による装置で、この放射源（２、３）が低電圧電子ビーム放射源である装置。
【請求項９】
請求項１による装置で、この入口および出口部（５、６）がこのトンネルを通してこのウエブを案内するために各々少なくとも一つのウエブ案内を備える装置。
【請求項１０】
請求項９による装置で、この出口部（６）のこの少なくとも一つのウエブ案内が、このウエブ（Ｗ）に関してこのウエブ（Ｗ）の第２面（Ｗ２）と接触するように、且つこのウエブ（Ｗ）の第１面（Ｗ１）と接触しないようになっている方法で配置してある装置。
【請求項１１】
請求項９および請求項１０による装置で、このウエブ案内が支持部材に支承してある第１および第２ローラ（９、１０、１１、１２）を含み、これらのローラ（９、１０、１１、１２）は、この第１ローラ（９、１１）がこのウエブ（Ｗ）を第２角度（β）曲げ、第２ローラ（１０、１２）がウエブ（Ｗ）を第１角度（α）曲げるような方法で作ってあり且つ相互に位置する装置。
【請求項１２】
請求項２−１１の何れかによる装置で、この入口部（５）および出口部（６）の入口セグメント（５ａ、６ａ）がこのトンネルの中央部に隣接し、この入口部（５）および出口部（６）の出口セグメント（５ｃ、６ｃ）が互いから離れる方向に向いている装置。
【請求項１３】
請求項２−１２の何れかによる装置で、このトンネル部およびこの放射源ハウジング（１）がハウジング（４）に収容してある装置。
【請求項１４】
ウエブ（Ｗ）の少なくとも第１面（Ｗ１）を電子ビーム照射するための方法であって：
このウエブ（Ｗ）をトンネルに通し、上記トンネルは、ウエブ入口部（５）、ウエブ出口部（６）および電子出口窓（２１）を備え、少なくとも第１電子ビーム放射源（２）を受ける中央部を備える工程、
この放射源（２）からこの電子出口窓（２１）を通してこのトンネルの中へ電子を放射する工程、並びに
このトンネルをこの入口および出口部（５、６）の各々の少なくとも２個所で曲っているように作ることによって、ウエブ（Ｗ）の照射中に電子によってできたＸ線をこのトンネルを出る前に少なくとも２度このトンネル壁に当らせる工程を含む方法。
【請求項１５】
請求項１４による方法で、この入口部および出口部（５、６）をそれぞれの部分が三つの連続するセグメント、すなわち入口セグメント（５ａ、６ａ）、中央セグメント（５ｂ、６ｂ）および出口セグメント（５ｃ、６ｃ）の列を含むように作る工程を含み、この中央セグメント（５ｂ、６ｂ）は、この入口セグメント（５ａ、６ａ）に対し第１角度（α）を成すように作り、この出口セグメント（５ｃ、６ｃ）は、この中央セグメント（５ｂ、６ｂ）に対し第２角度（β）を成すように作る方法。
【請求項１６】
請求項１５による方法で、このトンネルの幅、上記角度（α、β）およびこれらのセグメント（５ａ−ｃ、６ａ−ｃ）の長さの間の関係を、この入口セグメント（５ａ、６ａ）でこのトンネル壁に当る仮想直線が、この出口セグメント（５ｃ、６ｃ）を出る前に、少なくともこの出口セグメント（５ｃ、６ｃ）のトンネル壁にも当るように、且つこの入口セグメント（５ａ、６ａ）を通過する仮想直線が、この中央セグメント（５ｂ、６ｂ）のトンネル壁に当って、それがこの出口セグメント（５ｃ、６ｃ）を出る前に、少なくともこの出口セグメント（５ｃ、６ｃ）のトンネル壁にも当るようにする工程を含む方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公表番号】特表２００６−５２７１３９（Ｐ２００６−５２７１３９Ａ）
【公表日】平成１８年１１月３０日（２００６．１１．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５０８５７８（Ｐ２００６−５０８５７８）
【出願日】平成１６年６月８日（２００４．６．８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＳＥ２００４／０００８９１
【国際公開番号】ＷＯ２００４／１１０８６８
【国際公開日】平成１６年１２月２３日（２００４．１２．２３）
【出願人】（５９１００７４２４）テトラ ラバル ホールデイングス エ フイナンス ソシエテ アノニム (190)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１８年１１月３０日（２００６．１１．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年６月８日（２００４．６．８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＳＥ２００４／０００８９１
【国際公開番号】ＷＯ２００４／１１０８６８
【国際公開日】平成１６年１２月２３日（２００４．１２．２３）
【出願人】（５９１００７４２４）テトラ ラバル ホールデイングス エ フイナンス ソシエテ アノニム (190)
【Ｆターム（参考）】
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