【課題】分散安定性に優れ、透明性に優れ、また塗布膜を形成してもピンホールの発生が低減される顔料、分散安定性に優れた顔料分散組成物、保存安定性、塗布性、感度、未露光部現像性、基板密着性、パターン形状等に優れた硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】分子内に少なくとも１つのヘテロ原子を有する有機溶剤で洗浄されたことを特徴とする顔料、（Ａ）該顔料、（Ｂ）分散剤、及び（Ｃ）溶剤を少なくとも含有することを特徴とする顔料分散組成物、該顔料分散組成物が配合された硬化性組成物、該硬化性組成物を用いたカラーフィルタ及びその製造方法。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
分子内に少なくとも１つのヘテロ原子を有する有機溶剤で洗浄されたことを特徴とする顔料。
【請求項２】
（Ａ）請求項１に記載の顔料、（Ｂ）分散剤、及び（Ｃ）溶剤を少なくとも含有することを特徴とする顔料分散組成物。
【請求項３】
請求項２に記載の分散組成物及び（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とする硬化性組成物。
【請求項４】
（Ｅ）光重合性化合物を更に含有することを特徴とする請求項３に記載の硬化性組成物。
【請求項５】
支持体上に、請求項４又は請求項５に記載の硬化性組成物により形成された着色パターンを有することを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項６】
（Ａ）請求項１に記載の顔料、（Ｂ）分散剤、及び（Ｃ）溶剤を少なくとも含有する顔料分散組成物を用いて硬化性組成物を調製する工程と、
支持体上に、前記硬化性組成物を塗布して前記硬化性組成物からなる着色層を形成する着色層形成工程と、
前記着色層をマスクを介してパターン様に露光する露光工程と、
露光後の着色層を現像して着色パターンを形成する現像工程と、
を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。

【公開番号】特開２００８−２７４０２２（Ｐ２００８−２７４０２２Ａ）
【公開日】平成２０年１１月１３日（２００８．１１．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１１５９７８（Ｐ２００７−１１５９７８）
【出願日】平成１９年４月２５日（２００７．４．２５）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】