説明

株式会社トクヤマにより出願された特許

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【課題】クロロプロペンを、塩素(Cl)と反応させる塩素付加反応により、クロロプロパンを効率的かつ連続的に得る製造方法および装置の提供。
【解決手段】下記式(1)CCl=CCl(2−m)(m−1)−CCl(3−n)(mは1又は2、nは0〜3の整数)で示されるクロロプロペンを反応系内に供給しつつ、反応混合液の一部を連続的に抜き出し、該抜き出し液は塩素を溶解させた後に反応系へと再添加して循環させ、添加されたクロロプロペン及び塩素から生成する反応生成混合物の量に相当する量の反応混合液を、別途連続的に抜き出し、該抜き出し液から下記式(2)CCl−CCl(3−m)(m−1)−CCl(3−n)(mは1又は2、及びnは式(1)における値と同一)で示されるクロロプロパンを回収する。 (もっと読む)


【課題】輸送時の振動によるポリシリコンの表面とフィルムの内面が擦れることを確実に防止し、樹脂粉の発生を効果的に防止できるポリシリコンの新規な包装体、すなわち、ポリシリコンの汚染をより高度に防止できるポリシリコンの新規な包装体の提供。
【解決手段】ポリシリコン1を収納した包装袋2を外部から緊締用フィルム3により締着して包装袋をポリシリコン表面に密着固定したことを特徴とするものであり、包装袋と緊締用フィルムとの間の少なくとも一部に包装袋と緊締用フィルムを離間する介在物4を存在せしめる。 (もっと読む)


【課題】 ポリカーボネート樹脂などからなる光学シートを接合するための接着層をして機能するフォトクロミック性組成物であって、該組成物を用いて製造した積層体が、優れた密着性、耐熱性、フォトクロミック性を示すようなフォトクロミック性組成物を提供する。
【解決手段】 たとえば、ポリオール化合物(A1成分)と、分子内に2つ以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物(A2成分)と、ジアミンのような分子内に2つ以上のイソシアネート基と反応する基を有し、その内1つ以上がアミノ基であるアミン化合物(A3成分)を反応させて得られるポリウレタン−ウレア樹脂(A成分)と、フォトクロミック化合物(B成分)を含んで成るフォトクロミック組成物。 (もっと読む)


【課題】 内壁がステンレスなどの金属系素材で構成された容器中で保存しても、安定性に優れ、また各種化合物の原料(中間体)として用いる際に副反応などの予期せぬ問題を生じにくいクロロプロパンを提供する。
【解決手段】 1,1,1,2,3−ペンタクロロプロパンなどの下記一般式(1)で示されるクロロプロパン100質量部に対し、シクロアルケンを0.002質量部〜0.5質量部含有させたクロロプロパン組成物とする。
CCl−CCl(2−m)−CCl(3−n) (1)
(上記式において、mは0〜2であり、nは0〜3の整数である)
従来使用されている安定剤である含酸素化合物や含有窒素化合物に比べて、シクロアルケンは予期せぬ副反応を生じる可能性が低く、また必要に応じてのクロロプロパンとの分離も容易である。 (もっと読む)


【課題】 1,1,1,2,3−ペンタクロロプロパン等の、少なくとも一つの水素原子と、該水素原子を有する炭素原子に隣接する炭素原子に結合した塩素原子とを有するポリクロロプロパンを蒸留精製するに際し、蒸留時の熱分解等による収量や純度の低下を抑制する。
【解決手段】 蒸留前の粗ポリクロロプロパンに対して、オイゲノール、o−アリルフェノールなどのアリル基で置換されたフェノール化合物を添加し、その後に蒸留する。アリル基の不飽和結合が、加熱により脱離して生じる塩化水素を捕捉することによって、該塩化水素が触媒又は反応基質として作用する副反応が抑制されるものと推測される。 (もっと読む)


【課題】塩素化炭化水素を製造するための新規な方法。
【解決手段】塩化炭素と下記一般式(0)で表される不飽和化合物とを、液相の反応系中で鉄−リン酸エステル触媒の存在下に付加させる付加反応工程によって下記一般式(1’)で表される飽和化合物を得る。上記付加反応工程における鉄−リン酸エステル触媒が、反応系に鉄とリン酸エステルとを添加して反応系中で調製されるものであり、反応開始前に鉄の全量及びリン酸エステルの一部を添加し、残余のリン酸エステルを上記付加反応進行中に追加添加することを特徴とする、前記方法に関する。CCl2−m=CCl2−P(0)、CCl−CCl2−m−CCl3−P(1’)(式中、mは1又は2であり、pは0〜2の整数であり、ただしm≧pである。) (もっと読む)


【課題】本発明は、本発明は、プラズマガス耐性、高熱伝導を有し、優れた光学特性を有する窒化アルミニウム焼結体を提供することを目的としている。
【解決手段】本発明に係る窒化アルミニウム焼結体の製造方法は、窒化アルミニウム粉末とアルカリ土類系酸化物の焼結助剤とを特定の配合比で含む混合物からなる成形体を、還元雰囲気下の特定条件での焼成、特定条件でのアニールすることに特徴があり、この製造方法により、陽電子消滅法における欠陥分析において、窒化アルミニウム結晶中で、180ps(ピコ秒)内に消滅する陽電子の割合が90%以上であることを特徴とし、好ましくは200W/mK以上の熱伝導率を有する窒化アルミニウム焼結体が得られる。 (もっと読む)


【課題】大口径且つ長尺の育成結晶体の上部域から下部域の全域に亘って、レーザー光照射による透過率の低下が抑制された、即ちレーザー耐性の高い高品質の光学特性を有する結晶を、歩止まりが高く、しかも大型の結晶を製造できる工業的価値が高い方法を提供する。
【解決手段】炉内に原料フッ化金属と固体含金属スカベンジャとを収容し、炉内を昇温し原料フッ化金属を溶融させ、次いで溶融したフッ化金属を単結晶化するフッ化金属単結晶の製造方法において、前記固体含金属スカベンジャを、原料フッ化金属の融点以上の温度に保持される炉内の高温部位と、溶融したフッ化金属を単結晶化する工程を通じて、固体含金属スカベンジャの融点以上乃至原料フッ化金属の融点未満、例えば「原料フッ化金属の融点−150℃」以下の保持される炉内の低温部位とに分割して収容、好ましくは、低温部位/高温部位の質量比率が0.3〜1.0となるように収容することを特徴とするフッ化金属単結晶の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】シリコン基板表面への微細な凹凸部であって、その凹凸部にバラツキが少なく、反射率の低いシリコン基板を形成するためのテクスチャー形成用組成物、および該テクスチャー形成方法を提供する。
【解決の手段】シリコン基板表面と接触して該表面に凹凸部を形成するテクスチャー形成用組成物であって、水、塩基、及びアミノアルコールを含むテクスチャー形成用組成物、および該テクスチャー組成物とシリコン基板表面とを接触させて、該基板表面に凹凸部を形成する方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】特定の環状シスジオール化合物(シス体の化合物)の二つの水酸基のうち、片方の水酸基をエステル化してヒドロキシエステル誘導体を得る方法を提供する。
【解決手段】水溶媒中、特定の環状シスジオール化合物(例えば、シス−1,2−シクロオクタンジオール)と、カルボン酸ハライド化合物またはカルボン酸無水物とを、ジアルキルジハロゲノ錫化合物、塩基および4−(4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリアジン−2−イル)−4−メチルモルホリニウムクロライド存在下に反応させることで、高収率で目的とするヒドロキシエステル誘導体を取得する。 (もっと読む)


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