【課題】 結晶成長させたｐ型窒化物半導体領域をエッチングすることなく、ｎ型半導体層とｐ型半導体層が隣接する構造を有する半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 本半導体装置の製造方法は、ｎ型半導体層２２の表面の一部をエッチングして溝１７を形成する溝形成工程と、溝１７の内外に亘るｎ型半導体層２２の表面上にｐ型窒化物半導層１６を結晶成長させるｐ型窒化物半導体層形成工程と、溝形成工程でエッチングされなかった範囲のｎ型半導体層２２の上部に位置するｐ型窒化物半導体層１６の少なくとも一部にｎ型不純物を注入し、ｐ型窒化物半導体層１６の表面からｎ型半導体層２２に達するｎ型領域１０を形成するｎ型領域工程を備えている。 （もっと読む）

【課題】運転者が操舵時にステアリングから受ける抵抗感をほぼ一定にするように操舵角と操舵トルクとの関係を制御する。
【解決手段】ステアリングの操作に応じて操舵角と操舵トルクとの関係を制御する操舵制御ブロックは、ステアリングの切り始めまたはステアリングの回転方向が切り替わった時点からの操舵トルク変化量Ｘと操舵角変化量Ｙとに関して、ｄ²Ｙ／ｄＸ²がＸに比例する関係が略成立するように、操舵角ｙと操舵トルクｘとの関係を制御する。 （もっと読む）

【課題】低駆動電圧かつ連続駆動後の電圧上昇が小さく、高信頼性の有機発光素子を提供する。
【解決手段】基板の上方に形成され、正孔注入電極１２と電子注入電極１４との間に少なくとも発光層２６を備える有機発光素子であり、正孔注入電極１２と発光層２６との間に、少なくとも、正孔注入電極側から正孔注入性の介在層２０と、正孔注入層２２とを備える。介在層２０は、電子吸引性基を有する材料を含み、正孔注入層２２は、２種類以上の正孔注入輸送性材料を含み、正孔注入層形成後、この正孔注入層で体積分率が上位から８０％までを占める構成材料の内、最も高いガラス転移温度を有する正孔注入輸送材料の該ガラス転移温度以上に加熱処理が施されている。 （もっと読む）

【課題】耐焼付き性などに優れるＡｌ合金ダイカスト鋳物を提供する。
【解決手段】本発明のＡｌ合金ダイカスト鋳物は、金型の内壁に接触して形成される鋳物表層の少なくとも一部が、溶湯から晶出した初晶の二次デンドライトアーム間隔（ＤＡＳ２）が２μｍ以下である微細凝固組織チル層となっていることを特徴とする。本発明のＡｌ合金ダイカスト鋳物は、従来のダイカスト鋳物と異なり、表層の凝固組織が超微細なチル層からなるため、金型との間で焼付きや表面割れ等がほとんど生じず、表面性状に優れたＡｌ合金ダイカスト鋳物を歩留まりよく得ることができる。 （もっと読む）

【課題】ドライバの操作特性を考慮して、適切な運転支援を行なって、事故を回避することができるようにする。
【解決手段】自車両のドライバの操作特性を特性記憶部２０に記憶し、周辺車両特性取得部１８によって周辺車両のドライバの操作特性や歩行者の行動特性を取得する。周辺環境収集部１２によって周辺環境情報を取得し、自車両情報収集部１４によって、自車両情報を取得する。周辺車両情報収集部１６によって、周辺車両情報を取得する。そして、作動条件最適化部２２によって、特性記憶部２０に記憶された操作特性、及び周辺車両特性取得部１８によって取得した操作特性又は行動特性に基づいて、運転支援を作動するための作動条件を決定する。運転支援制御部２８によって、取得した周辺環境情報、自車両情報、及び周辺車両情報が、作動条件を満たすか否かを判断し、作動条件を満たすとき、運転制御部２４又は警報出力部２６によって運転支援を行なう。 （もっと読む）

【課題】被験者の実際の視界の模擬を実施する。
【解決手段】撮像装置３０、及び視点検出装置３２の各々は、車両に搭載されて、同期をとって所定の時間間隔で複数回動作するように制御され、複数回の動作により生成された、被験者周辺の周辺画像の各々の画像データと、周辺画像の各々の撮像時における被験者の周辺画像上の視点の位置を示す位置データとを関連付けて取得する。
視覚特性フィルタ３６を用いた画像処理を行うことで、人間の視覚特性に合った見え方を模擬すると共に、記憶特性フィルタ３８を用いた画像処理を行うことで、人間の感覚記憶特性に合った見え方を模擬する。
画像合成部４２は、処理済画像の各々を合成して再現画像を生成し、実際に運転をした被験者が行った情報処理を模擬することができる。 （もっと読む）

【課題】車車間通信に適用可能な通信方式
【解決手段】６Ｎビット単位のデータＤは、Ｎビット目までがＢＰＳＫ変調され、２Ｎビット目までがＱＰＳＫ変調され、４Ｎビット目までが１６ＱＡＭ変調され、６Ｎビット全体が６４ＱＡＭ変調される。いずれもＮシンボルの変調信号は拡散変調されて１つの多重信号としてまとめられて、送信される。受信機Ｒｘでは対応する拡散符号で復調し、各々復調される。伝搬環境が良い時は６４ＱＡＭ復調器８４０の出力の６Ｎビットが後段の処理に供せられる。伝搬環境が悪くなるにつれて順に１６ＱＡＭ復調器８３０の出力の４Ｎビットが、ＱＰＳＫ復調器８２０の出力の２Ｎビットが、ＢＰＳＫ復調器８１０の出力のＮビットが後段の処理に供せられる。 （もっと読む）

【課題】耐光性に優れ、近紫外線から可視光線までの領域の光の吸収が可能であり、且つ高い量子収率を有する有機シリカ系材料および有機シリカ系多孔体を提供する。
【解決手段】下記式（２）で表される有機シラン前駆体の重合体と、界面活性剤とを含有することを特徴とする有機シリカ系材料、および前記有機ケイ素化合物の重合体からなる有機シリカ系多孔体。
（もっと読む）

【課題】半導体装置を構成する複数の半導体モジュールの一部を交換、修理できる半導体装置を提供すること。
【解決手段】半導体素子２２の両側に放熱フィン２８が対称配置される半導体モジュール２０と、内部に冷媒流路５２が形成される冷却器５０と、を備え、半導体モジュール２０が冷却器５０に装着された状態で、放熱フィン２８が冷媒流路５２内に配置される半導体装置１０において、半導体モジュール２０は、複数であって、それぞれが、冷却器５０に着脱可能である。 （もっと読む）

【課題】展開前は平面的で狭小部にも設置することができ、簡単な動作で平面から立体に展開して、衝突エネルギーを有効に吸収することができる展開構造体を提供する。衝突位置に配置された展開構造体を展開させて衝突エネルギーを吸収し、衝撃を吸収することができる衝撃吸収装置を提供する。
【解決手段】展開構造体１０は、上部プレート１２、下部プレート１４、回転プレート１６、モータ２０及び上部プレート１２をモータ２０に固定するモータブラケット１８を備えている。モータ２０の駆動により回転プレート１６が回転する。下部プレート１４は回転プレート１６と一緒に回転する。下部プレート１４の回転により、上部プレート１２と下部プレート１４とが平面から立体に展開して、複数の梁が交差する立体交差構造１１を形成する。衝突等により立体交差構造１１に表面側から衝撃が加わると、複数の梁の各々が弾塑性変形して衝突エネルギーを吸収する。 （もっと読む）