【課題】ビアホールおよび配線溝の内壁とシード層との密着性に優れ、製造の歩留まりがよく、また、信頼性が高いプリント配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のプリント配線基板の製造方法は、（ａ）基板上に形成された下層配線パターンを被覆する層間絶縁層を形成する工程と、（ｂ）該層間絶縁層に、該下層配線パターンに達するビアホールを形成する工程と、（ｃ）該層間絶縁層上に、該ビアホール上方に位置し、かつ所要の配線パターンの形状に従う開口部を有する永久レジスト層を形成する工程と、（ｄ）特定金属化合物を含有する基材を特定の条件において加熱して該金属化合物を昇華させ、少なくとも該ビアホールおよび開口部の内壁にシード層を形成する工程と、（ｅ）該ビアホールおよび開口部に導体を充填して、該シード層上に導体層を形成する工程と、（ｆ）該永久レジスト層が露出するまで該導体層表面を平坦に研磨し、該開口部に充填された導体を独立した配線パターンとする工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れており、且つ、レジスト膜との密着性及びレジストパターンの再現性に優れると共に、現像等に用いられる現像液に対して十分な耐性を有し、レジスト除去時の酸素アッシングに対して十分なマスク性（エッチング耐性）を有するシリコン含有膜を形成できる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物等を提供する。
【解決手段】本組成物は、式（１）の化合物（ａ１）３０〜８０質量部、式（２）の化合物（ａ２）５〜６０質量部、並びに、式（３）の化合物（ａ３）及び式（４）の化合物（ａ４）のうちの少なくとも一方５〜５０質量部〔但し、化合物（ａ１）〜（ａ４）の合計を１００質量部とする。〕に由来するポリシロキサンと、溶媒と、を含有する。
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【課題】 小サイズの多数の被検査電極を有する被検査回路基板でも所要の電気的接続が達成され、被検査電極の突出高さにバラツキがあっても、異方導電性エラストマーシートに長い使用寿命が得られ、全ての被検査電極に対して安定した電気的接続が達成される電気抵抗測定用シート、コネクター装置および回路基板の電気抵抗測定装置の提供。
【解決手段】 本発明の電気抵抗測定用シートは、絶縁性シートの表面に被検査電極に対応して配置された、２つの電流供給用電極および２つの電圧測定用電極よりなる接続用電極組と、絶縁性シートの裏面に配置された、電流供給用電極および電圧測定用電極の一方に電気的に接続された中継電極とを有し、厚み方向に透視したときに、中継電極が、電流供給用電極および電圧測定用電極に重ならない位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】安価で、かつ薄膜で、抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上に形成可能な感光性ペースト組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ１）５０重量％粒子径が２．０〜２０．０μｍ、かつ平均厚さが０．１〜１．０μｍの範囲にあるフレーク状アルミニウム粉末、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能（メタ）アクリレート、および（Ｅ）光重合開始剤を含有することを特徴とする、感光性ペースト組成物、ならびに該組成物を用いたパターン形成方法 （もっと読む）

【課題】ガラスを基材として用いなくても、近年のプリント配線基板のパターンの細線化や要求精度の厳格化に対応でき、かつ、ポリエステルフィルムを基材として用いた場合と同等の利便性を有するフォトマスクを提供すること。
【解決手段】高分子化合物を主成分とするフィルムまたはシートからなる基材と、前記基材の少なくとも一方の面に配設された遮光層と、前記基材の少なくとも一方の面に配設されたフレームと、から少なくとも構成されたフォトマスクであって、前記フォトマスクは、使用および保管される雰囲気において、前記基材が、前記フレームに張力のかかった状態で固定されている。 （もっと読む）

【課題】樹脂組成物溶液中に含まれるディフェクト要因となり得る微粒子を効果的に除去できディフェクトの発生を抑制することができる樹脂組成物溶液の製造方法、及び製造装置を提供する。
【解決手段】樹脂組成物溶液を収容するタンク１０に収容された樹脂組成物溶液を、タンク１０から排出し、送液手段及びろ過手段を有する循環経路にて循環ろ過させる樹脂組成物溶液の製造方法である。送液手段として、ダイアフラムポンプ１３を使用し、さらに、ダイアフラムポンプ１３の下流のポンプ吐出ライン２８ｐに第１のダンパー３０を有する循環経路にて循環ろ過を行う製造方法である。ダイアフラムポンプ１３に、第２のダンパー１３ｃを備えることがさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】パターン転写性（特に、ＲＩＥでのレジスト曲がり耐性）に優れた下層膜を形成する可能なレジスト下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】２つ以上のフェノール性水酸基、及び、アルキルチエニル基を有する芳香族環を繰り返し構造単位として含むノボラック樹脂（Ａ）と、有機溶剤（Ｂ）と、を含有するレジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、製造過程においてディフェクト要因となり得る異物の混入を十分に抑制することができ、異物含有量を極力低減させて樹脂組成物溶液の製造方法、及び製造装置を提供する。
【解決手段】樹脂組成物溶液を収容するタンク１０に収容された樹脂組成物溶液を、送液手段及びろ過手段を有しタンク１０から排出された樹脂組成物溶液をタンク１０へと循環させる循環経路中に脱着可能に備えられた樹脂組成物溶液を容器に充填するための充填ノズル１４内を通過させつつ循環経路を循環させることにより、循環ろ過を行う。その後に充填ノズル１４を循環経路から脱状態として充填ノズル１４にて容器に樹脂組成物溶液を充填する。 （もっと読む）

【課題】高集積化および多層化が望まれている半導体素子などにおいて好適に用いることができ、機械的強度および薬液耐性に優れた低比誘電率の絶縁膜の形成に用いることができる絶縁膜形成用組成物、ならびに絶縁膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、下記一般式（１）で表される化合物１、下記一般式（２）で表される化合物２、および加水分解性ポリカルボシランを加水分解縮合して得られた加水分解縮合物と、有機溶媒とを含む。
Ｒ_ａＳｉ（ＯＲ^１）_４−ａ・・・・・（１）
（式中、Ｒは炭素数１〜２のアルキル基、ビニル基、アリル基、アセチル基またはフェニル基を示し、ａは１〜２の整数を示し、Ｒ^１は炭素数１〜３のアルキル基、ビニル基、アリル基、アセチル基またはフェニル基を示す。）
Ｒ^２_ｂ（Ｒ^３Ｏ）_３−ｂＳｉ−（Ｒ^６）_ｄ−Ｓｉ（ＯＲ^４）_３−ｃＲ^５_ｃ・・・・・（２）
（式中、Ｒ^２〜Ｒ^５は同一または異なり、それぞれ１価の有機基を示し、ｂおよびｃは同一または異なり、０〜１の数を示し、Ｒ^６はフェニレン基または−（ＣＨ_２）_ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である。）を示し、ｄは０または１を示す。） （もっと読む）

【課題】ＮＤフィルターの真空蒸着における多層成膜の再現性の乏しさ、工程の煩雑さ
とそれに伴う歩留の低下、および設計変更に容易に対応できないという従来の課題を解消し、波長平坦性の良好なＮＤフィルターを得ることができ、再現性良好で、且つ簡便なＮＤフィルターの製造方法を提供する。
【解決手段】特定の光線透過率を有する熱可塑性樹脂（Ａ）と特定の粒径を有するカーボンブラック（Ｂ）を含有し、且つ３８０〜７８０ｎｍにおける光線透過率の平均値Ｔ（ａｖｅ）、最小値Ｔ（ｍｉｎ）および最大値Ｔ（ｍａｘ）が下記式（１）および式（２）を満たすことを特徴とするＮＤフィルター。
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