【課題】インターミキシングを防止できる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する
【解決手段】本酸転写樹脂膜形成用組成物は、（Ａ）感放射線性酸発生剤、及び、（Ｂ）末端にシアノ基を有する重合体、を含有することを特徴とする。本本酸転写樹脂膜は、本酸転写樹脂膜形成用組成物を用いてなることを特徴とする。本パターン形成方法は、（Ｉ）酸解離性基を有する樹脂を含有し、且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、本酸転写樹脂膜形成用組成物からなる第２樹脂膜を形成する工程と、（ＩＩ）マスクを介して第２樹脂膜に露光し、第２樹脂膜に酸を発生させる工程と、（ＩＩＩ）第２樹脂膜に発生した酸を第１樹脂膜に転写する写工程と、（ＩＶ）第２樹脂膜を除去する工程と、をこの順に備える。 （もっと読む）

【課題】 全光線透過率が高く、しかも、優れた光散乱性を有する光学成形品を得ることができる光拡散性粒子およびその製造方法、光拡散性樹脂組成物ならびにその応用を提供する。
【解決手段】 本発明の光拡散性粒子は、屈折率がｎ１の中心部および当該中心部を覆う表層部からなり、当該表層部が、その中心部との界面から表面に向かって屈折率がｎ１からｎ２（但し、ｎ２≠ｎ１）に連続的にまたは段階的に変化するポリマー粒子よりなり、当該ポリマー粒子のゲル分率が９０％以上で、当該ポリマー粒子における中心部の半径と表層部の厚さとの比が１：１〜２０：１であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高集積化および多層化が望まれている半導体素子などにおいて好適に用いることができ、機械的強度および加工耐性に優れた低比誘電率の絶縁膜の形成に用いることができる絶縁膜形成用組成物、ならびに絶縁膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、下記一般式（１）で表される化合物１を含むシラン化合物を加水分解縮合して得られた加水分解縮合物と、有機溶媒とを含む。
Ｒ^１_ｂ（Ｒ^２Ｏ）_３−ｂＳｉ−ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＲ^３）_３−ｃＲ^４_ｃ・・・・・（１）
（式中、Ｒ^１〜Ｒ^４は同一または異なり、それぞれ１価の有機基を示し、ｂおよびｃは同一または異なり、０〜１の数を示す。） （もっと読む）

【課題】高純度のアルコキシシランを簡便な方法で得ることができるアルコキシシランの製造方法を提供する。
【解決手段】アルコキシシランの製造方法は、アルコールＡおよびハロゲン化ケイ素化合物Ｃを第３級アミンＢの存在下で反応させてアルコキシシランを得る工程と、アルコキシシランを含有する第１液相と、副生する液体のアミンハロゲン酸塩を含有する第２液相とを相分離させた後、該第２液相を除去する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】組成物中において経時変化により発生する異物が増加することがなく保存安定性に優れており、且つ、レジスト膜との密着性及びレジストパターンの再現性に優れると共に、現像液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して十分な耐性を有するシリコン含有膜を形成可能な多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】本シリコン含有膜形成用組成物は、ポリシロキサン（Ａ）並びに有機溶媒（Ｂ）を含有しており、有機溶媒（Ｂ）として、アルコール系有機溶媒（Ｂ１）を１〜５０質量％、及び式（２）で表される有機溶媒（Ｂ２）を１〜３０質量％〔但し、有機溶媒（Ｂ）全体を１００質量％とする〕含むことを特徴とする多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物。


〔式（２）において、ｍは１〜３の整数を示す。〕 （もっと読む）

【課題】安価で、かつガラス基板に対して薄膜で密着強度が高く、抵抗値が低く、高精細なパターンを形成可能な感光性ペースト組成物を提供すること。
【解決手段】アルミニウム粉末（Ａ）、ガラス粉末（Ｂ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）および光重合開始剤（Ｅ）を含有し、該アルミニウム粉末（Ａ）の、熱重量分析により測定される２５〜６００℃における重量変化率（但し、２５℃における重量を基準とする。）が＋７．０％以下であることを特徴とする感光性ペースト組成物。 （もっと読む）

【課題】光配向法によりプレチルト角を付与することができ、付与されたプレチルト角の経時的安定性に優れる液晶配向膜を与える液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記液晶配向剤は、（Ａ）共役二重結合を含む感光性構造、（Ｂ）炭素数１〜３のフルオロアルキル基、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数４〜２０のアルキル基、および炭素数９〜３０の縮合脂環構造を含む１価または２価の炭化水素基よりなる群から選択される少なくとも１種の基、ならびに（Ｃ）光増感性構造を有する重合体を含有する。 （もっと読む）

【課題】金属箔を用いる電極形成において、レジスト層の露光後のレジスト加熱硬化工程においてブリスターの発生がなく、レジストパターン形成工程や金属箔エッチング工程において、金属箔のガラスペースト層からの剥がれの発生がなく、金属箔の電極パターン形成後の焼成工程において、電極パターンの浮きが発生しない、良好な電極パターンを形成できる材料および方法を提供すること。
【解決手段】支持フィルム上に、（Ａ）レジスト層、（Ｂ）金属層および（Ｃ）ガラスペースト層がこの順に積層されてなり、前記ガラスペースト層（Ｃ）の厚さが５〜３０μｍであって、前記ガラスペースト層（Ｃ）が、（ａ）ガラス粉末と、（ｂ）ガラス転移点が−３０〜３０℃である結着樹脂と、（ｃ）溶剤とを含有する（Ｃ’）ガラスペーストから形成され、ガラスペースト層（Ｃ）中の溶剤（ｃ）の含有量が１重量％以下であることを特徴とする金属パターン形成用転写フィルム。 （もっと読む）

【課題】屈折率が高く、透明性に優れ、さらに耐熱性にも優れたコート層を有し、発光効率に優れた光電変換素子を提供することを目的とする。
【解決手段】光半導体素子上にコート層を有する光電変換素子であって、前記コート層が（Ａ）下記一般式（１）で示される構造を有するポリアミック酸、及びそのイミド化重合体から選ばれる１種以上、（Ｂ）一次粒子径が１〜１００ｎｍである酸化チタン又は酸化ジルコニウムを主成分とする粒子、を含有することを特徴とする光電変換素子。
【化１】


［式（１）中、Ｒ^１はそれぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基又はシアノ基であり、ａはそれぞれ独立に０〜４の整数を示し、Ｒは４価の有機基を示し、ｎは１〜４の整数を示し、ｍは１〜１００，０００の整数を示す。］ （もっと読む）

【課題】絶縁膜を形成する際の基板の反りが抑えられ、且つ優れた解像性、電気絶縁性等を有するネガ型感光性絶縁樹脂組成物、及びこれが硬化されてなる硬化物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ヒドロキシスチレン系構造単位（ａ１）と、アルキルビニルエーテル系構造単位（ａ２）とを有するブロック共重合体、（Ｂ）分子中に２個以上のアルキルエーテル化されたアミノ基を有する化合物（ｂ１）、オキシラン環含有化合物（ｂ２）及びオキセタニル環含有化合物（ｂ３）から選ばれる少なくとも１種の化合物、（Ｃ）光感応性酸発生剤、（Ｄ）溶剤、を含有するネガ型感光性絶縁樹脂組成物。 （もっと読む）