【課題】低吸湿性および低軟化点を有する非晶質体を提供する。
【解決手段】式（１）および式（２）の構造の少なくとも一種の構造を有する非晶質体。


［式（１）中、複数あるＲ¹はそれぞれ独立に炭素数３以上の一価の有機基を示し、式（２）中、複数あるＲ²はそれぞれ独立に炭素数３以上の一価の有機基を示し、式（１）および（２）中、破線は結合手を示す。］ （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れた伝熱性部材を提供する。
【解決手段】低軟化点を有する非晶質体（Ａ）を含むバインダから少なくとも形成された基材と、前記基材中に含有された熱伝導性粒子（Ｂ）とを有する伝熱性部材。前記バインダは、有機高分子材料を実質的に含まないことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】
本発明は液晶ディスプレイ等の電子部品の表面が輸送中や製造ライン等で傷ついたりごみが付着して汚れるのを防止するために、該機器の表面に貼着して使用される表面保護フィルムに関するもので、該フィルムをロ−ルに巻き取ったり、ロールから繰り出す際、フィルムに発生するしわの発生、傷つきの抑制に効果があり、かつ、ディスプレイなどの表面に貼着した状態でも、ディスプレイの欠陥検査に支障をきたさないことを特徴とする。
【解決手段】
詳しくは、高分子支持体の一方の表面に、粘着層を有し、他方表面に、ポリマー架橋粒子を含有する層を有する積層フィルムからなる表面保護フィルムを提供する。 （もっと読む）

【課題】伝送速度が速く、高周波域での低伝送損失の少ない高周波回路基板を形成するための樹脂基板を提供すること。
【解決手段】２６℃、相対湿度４５％ＲＨでの、１ＧＨｚおよび１０ＧＨｚにおける比誘電率が３．２以下、１ＧＨｚにおける誘電正接が０．００５０以下ならびに１０ＧＨｚにおける誘電正接が０．０１０以下である、高周波回路基板用樹脂基板。 （もっと読む）

【課題】光透過性、耐熱性および力学的強度に優れた透明導電性フィルムおよびそれを含むタッチパネルを提供すること。
【解決手段】基材の少なくとも一方の面に透明導電膜を有する透明導電性フィルムであって、該基材が、示差走査熱量測定（ＤＳＣ、昇温速度２０℃／分）によるガラス転移温度（Ｔｇ）が２３０〜３５０℃である芳香族ポリエーテル系重合体を含む、透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】感度等の基本特性を満足し、ＭＥＥＦ及びＬＷＲを指標とするリソグラフィー性能に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法、上記フォトレジスト組成物に用いられる重合体、及び化合物の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。また、下記Ｘが、炭素数２〜４のアルカンジイル基であり、下記Ｚが、Ｘに結合する炭素原子と共に炭素数５〜８の２価の単環の脂環式基を形成する基であるとよい。
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【課題】 （半）屋外使用時でも優れた耐候性を示し、しかも基材に対して簡便な方法で層形成が可能な反射防止能を有する反射防止積層体を提供することを目的とした。
【解決手段】 ポリオルガノシロキサン（Ａ）、金属酸化物粒子（Ｂ）および多官能（メタ）アクリレート化合物（C）を含む組成物の硬化物からなる高屈折層ならびに低屈折層を有する反射防止膜。 （もっと読む）

【課題】芳香族ポリエーテル系重合体成形品と金属皮膜との密着性に優れ、該成形品と金属皮膜との界面の平滑性に優れる金属皮膜付き芳香族ポリエーテル系重合体成形品を得るための、芳香族ポリエーテル系重合体成形品の表面改質方法を提供すること。
【解決手段】芳香族ポリエーテル系重合体成形品を酸処理する工程を含むことを特徴とする芳香族ポリエーテル系重合体成形品の表面改質方法。 （もっと読む）

【課題】無機膜上に形成するレジストパターンの形成性及びエッチング選択比に優れ、レジスト膜を薄膜化する場合においても忠実なパターン転写が可能な多層レジストプロセス用無機膜形成組成物、並びにパターン形成方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］加水分解性基を有する金属錯体（Ｉ）、加水分解性基を有する金属錯体（Ｉ）の加水分解物及び加水分解性基を有する金属錯体（Ｉ）の加水分解縮合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物、並びに［Ｂ］有機溶媒を含有する多層レジストプロセス用無機膜形成組成物であって、［Ａ］化合物が、第３族元素、第４族元素及び第５族元素からなる群より選択される少なくとも１種の金属元素を含有し、かつこの金属元素の含有割合が、［Ａ］化合物に含まれる金属元素及び半金属元素の合計量に対し５０モル％以上であることを特徴とする多層レジストプロセス用無機膜形成組成物である。 （もっと読む）

【課題】着色剤として染料やレーキ顔料を用いた場合に、染料やレーキ顔料の優れた色度特性を存分に発現させるための画素パターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】（１）基板上に、染料及びレーキ顔料よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する着色感放射線性組成物の塗膜を形成する工程、並びに（２）前記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程を含み、前記放射線の分光分布が３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲に複数のピークを有し、且つ前記放射線の３５０ｎｍ未満における最大強度が３５０ｎｍ〜４５０ｎｍにおける最大ピーク強度の５０％以下であることを特徴とする画素パターンの形成方法。 （もっと読む）