説明

フジノン株式会社により出願された特許

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【課題】テレビカメラ等から入力される映像信号により取り込まれる撮影画像を画像処理用の解像度及び画面サイズの画像に変換して内部のメモリに取り込む際に、画像処理に不要な範囲の画像データを削除することにより、その際の処理速度の高速化を図り、また、メモリ容量の低減を図る画像処理装置を提供する。
【解決手段】テレビカメラから画像処理装置16に入力されたHD画質の映像信号(HD信号)は、デコーダ40によりSD画質の画像として読み込まれる。その際に、SD画質の画像内の上下に例えば黒一色のブランク領域が形成される。PLD41はそのブランク領域を含む、画像処理に不要な範囲の画像データを削除し、残りの部分の画像データをRAM46に展開する。 (もっと読む)


【課題】撮像レンズにおいて、小型でバックフォーカス距離が長い特性を維持しつつ環境耐性を高める。
【解決手段】物体側から順に、正のパワーを持つ前群U1、絞りSt、正のパワーを持つ後群U2を備え、前群U1を、物体側から順に、負のパワーを持ち物体側に凸面を向けたメニスカス形状をなす第1レンズL1、正のパワーを持ち像側のレンズ面R4が凸面をなす第2レンズL2を備えたものとし、後群U2を、物体側から順に、負のパワーを持ち物体側のレンズ面R6が凹面をなす第3レンズL3、正のパワーを持ち像側のレンズ面R9が凸面をなす第4レンズL4、両凸形状をなす第5レンズL5、負のパワーを持ち像側に凸面を向けたメニスカス形状をなす第6レンズL6を備えたものとし、第1レンズから第6レンズをいずれもガラス球面単レンズとする。 (もっと読む)


【課題】1枚の基板から、効率良く、安定した品質の複屈折素子を複数得る。
【解決手段】複屈折基板18は、ガラス基板上に複屈折性を示す斜方蒸着膜を設けたものであり、その大きさは複数の複屈折素子を切り出すことができる大きさとなっている。複屈折基板18の進相軸の方向は複屈折基板18内の位置によって異なり、複屈折基板18の中央及び左右各部において進相軸22C,22R,22Lのように放射状に分布する。このため、複屈折基板18から複屈折素子を切り出すときに、複屈折基板18内での各々の複屈折素子の向きが、複屈折基板18内で斜方蒸着膜の蒸着源に近い側から遠い側にかけて広がる放射状の向きとなるように、複屈折基板18を切断する。 (もっと読む)


【課題】偏光性ホログラム素子において、コストアップを招くことなく、青紫光に対する良好な回折角が得られるようにする。
【解決手段】偏光性ホログラム素子12は、第1及び第2の2つの透明基板30、32と、これらの各透明基板30、32に挟まれたホログラム層34とで構成されている。ホログラム層34には、屈折率の異なる複数の誘電体膜を交互に積層してなる光学多層膜36によってホログラムパターンが形成されている。光学多層膜36は、傾斜して入射する光に対し、複屈折性を示す。これにより、ホログラム層34は、入射した光の偏光方向によって回折の度合いを変化させる。光学多層膜36は、微細加工精度に優れ、青紫光に対しても良好な回折角を得ることができる。また、光学多層膜36は、プロトン交換膜に比べて安価なので、コストアップを招くこともない。 (もっと読む)


【課題】コストアップを招くことなく、光ディスクに記録されたデータ用の信号とトラッキングエラー検出用の信号とを得られる偏光性光学素子を提供する。
【解決手段】偏光性光学素子12は、第1及び第2の2つの透明基板30、32と、PBS層34とホログラム層36とからなる。PBS層34は、P偏光光を透過させ、S偏光光を反射させる。ホログラム層36は、第1透明基板30内に入射して第2傾斜面30dで内面全反射する光がP偏光光である場合、その光を回折させて反射させ、S偏光光である場合、その光を回折させることなく反射させる。これにより、偏光性ホログラム素子を別途設ける必要がなくなるので、コストアップが防止される。 (もっと読む)


【課題】コンパクトで高い結像性能を有する撮像レンズ、およびその撮像レンズを搭載して高解像の撮像信号を得ることができるカメラモジュールならびに撮像機器を提供する。
【解決手段】物体側から順に、正のパワーを有する第1レンズG1と、負のパワーを有する第2レンズG2と、像側の面が凸面で正のパワーを有する第3レンズG3と、物体側の面が光軸近傍において凹面または平面であり、負のパワーを有する第4レンズG4とを備え、かつ以下の条件式を満足する。R1は第1レンズG1の物体側の面の曲率半径、R2は第2レンズG2の像側の面の曲率半径とする。
0.5<(|R2|−R1)/(R1+|R2|) ……(1) (もっと読む)


【課題】鋸歯型パターンを安価かつ容易に製造するためのフォトマスク及びこのフォトマスクを用いた鋸歯型パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】フォトマスク27には、格子方向33が一定の向きに順に傾斜するように、小領域41a〜41hが隣接して設けられている。小領域41a〜41hは、格子方向33に平行な方向に電場が振動する直線偏光を透過し、格子方向33に垂直な方向に電場が振動する直線偏光を反射するフォトニック結晶31からなる。 (もっと読む)


【課題】基板の表裏に片面ずつリソグラフィパターンをパターニングするときに、基板の表裏両面で相互に正確に位置合わせされたリソグラフィパターンを設けるパターニング方法を提供する。
【解決手段】まず、ガラス基板21の端に、ガラス基板21の表面21a,21bに対して垂直な切り欠き22を設ける。次に、アライメントマーク33,34が切り欠き22に合致するように第1マスク31をガラス基板21に位置合わせして配置し、ガラス基板21のオモテ面21aに第1マスクパターン32に応じたリソグラフィパターンをパターニングする。そして、ガラス基板21を裏返し、ウラ面21bを上方に露呈させ、アライメントマーク43,44が切り欠き22に合致するように第2マスク32をガラス基板21に位置合わせして配置し、ガラス基板21のウラ面21bに第2マスクパターン42に応じたリソグラフィパターンをパターニングする。 (もっと読む)


【課題】適切に光断層画像を取得する基準となる光断層画像基準位置を設定できる光断層画像取得装置および光断層画像取得方法を提供すること。
【解決手段】光断層画像取得装置であって、光源ユニットと、測定光と参照光とに分割する光分割手段と、シースの内部に配置され測定光を測定対象に照射する照射手段と、測定対象またはシースで反射した反射光と参照光とを合波する合波手段と、合波された反射光と参照光との干渉光を検出する干渉光検出手段と、干渉光を周波数解析することにより各周波数における干渉信号を取得する干渉信号取得手段と、干渉信号より測定対象の各走査位置における光断層画像を取得する断層画像取得手段と、干渉信号のなかからシース干渉信号を検出し、検出したシース干渉信号をもとに光断層画像基準位置を調整する基準位置調整部と、を有する。 (もっと読む)


【課題】コストアップを招くことなく、光ディスクに記録されたデータ用の信号とトラッキングエラー検出用の信号とを得られるPBSを提供する。
【解決手段】PBS12は、第1及び第2の2つの透明基板30、32と、これらの各透明基板30、32に挟まれたスプリッタ層34とホログラム層36とで構成されている。スプリッタ層34は、P偏光光を透過させ、S偏光光を反射させる。ホログラム層36は、P偏光光が入射した場合、その光を回折させることなく透過させ、S偏光光が入射した場合、その光を回折させる。PBS12は、第2透明基板32の上面32aからS偏光光が入射すると、その反射光をスプリッタ層34で反射させるとともに、ホログラム層36で回折させる。これにより、偏光性ホログラム素子を別途設ける必要がなくなるので、コストアップが防止される。 (もっと読む)


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