【課題】４００℃よりも低温のプロセスで薄膜を改質する。
【解決手段】ＣＶＤ工程を経た基板の薄膜をアニール処理炉２にて前記基板の薄膜の紫外光吸収による表面加熱を利用して改質する。前記薄膜の欠陥サイトでの紫外光の吸収による局所加熱を利用する。前記紫外光を照射する光源６はパルスレーザーまたは連続波レーザーである。前記薄膜の改質の際には紫外波長域以外の可視光域の光を発する光源の照射光が前記薄膜に供されるようにしてもよい。前記紫外光を照射する光源６は２１０ｎｍより長波長の光を照射する。ボンベ３からは酸化性ガスが、ボンベ４からは還元性ガスが、ボンベ５からは不活性ガスが個別に供される雰囲気のもと前記薄膜を薄膜の紫外光吸収による表面加熱を利用して改質する。前記酸化性ガスとしてオゾンガスが供される。前記還元性ガスとして希釈水素ガスが供される。 （もっと読む）

【課題】操作卓を小型軽量化し、さらにコンピュータ本体との通信接続を簡略化し、しかも多様なインタフェースを実装できるようにする。
【解決手段】操作卓１０１から操作卓Ａ用コンピュータ２７を遠隔操作する監視制御システムにおいて、操作卓側及びコンピュータ室側にはモニタ、キーボード、マウス信号をＶＮＣプロトコルに変換・伝送するＫＶＭ機能付きスイッチングハブ１１、２５を実装し、操作卓とコンピュータ室間で表示／操作情報（監視制御情報）を伝送する。各スイッチングハブのステレオ・ジャックにはＶｏＩＰ機能を実装し、警報音伝送を行えるようにする。ステレオ・ジャック及び外部機器接続用のＵＳＢ Ｉ／Ｆは、ＩＰアドレスにより両スイッチングハブ間の各Ｉ／Ｆが１対１伝送となるようＫＶＭ機能付きスイッチングハブで設定できるようにする。 （もっと読む）

【課題】デジタル保護リレーにおける内部伝送のモニタリングを遠隔から行う。
【解決手段】モニターシステム１は複数のＣＰＵボード２ａ，２ｂ，２ｃ間で内部伝送を行うデジタル保護リレーのモニターシステムである。ＣＰＵボード２ａ，２ｂ，２ｃは遠隔操作用のサーバであるＴｅｌｎｅｔサーバ２１と共にモニター機能２１を備える。ＣＰＵボード２ａ，２ｂ，２ｃにはローカルエリアネットワーク３を介して遠隔操作標準プロトコルとしてＴｅｌｎｅｔプロトコルを用いたモニター用端末４が接続されている。モニター用端末４は遠隔操作クライアントであるＴｅｌｎｅｔクライアントを起動してＣＰＵボード２ａ，２ｂ，２ｃ間での内部伝送をモニターする。また、ＣＰＵボード２ａ，２ｂ，２ｃは前記Ｔｅｌｎｅｔクライアントからの入力信号（例えばコマンド信号）に基づきデータの出力を行う。 （もっと読む）

【課題】永久磁石の分割数を増やすことなく、永久磁石に発生するスロット高調波の渦電流を低減する。
【解決手段】ロータ１面に分割した永久磁石２を設けて界磁源とするＰＭモータにおいて、電機子コイル４の電流や固定磁極と永久磁石との相対位置変化で発生するスロット高調波の磁束密度変動によって永久磁石に発生する渦電流を低減するため、スロット高調波とは同じ振幅で逆位相のスロット高調波キャンセル電流を求め、このキャンセル電流を電機子電流に重畳させることで、磁石内の磁束密度変動をキャンセルする。 （もっと読む）

【課題】複数の画面部品の連携を容易にし、送信するデータの型がノードによって異なる場合にもその取り扱いが簡単になる。
【解決手段】表示すべき画面表示情報を発生するデータサーバ１と、部品定義により開発したＧＵＩ部品間の連携を行うディスパッチャ２Ａとを備える。
ディスパッチャは、連携が必要な部品から状態を取得し、その結果を別の部品に送信することによって部品間の連携を行い、ＧＵＩ部品として、ノードを表示するノード画面部品と、ネットワークリンクを線で表すリンク画面部品をノードの分だけ用意し、ノード画面部品と同じキーを割り当てておき、あるノードからの情報に対し、あらかじめそのノードと親ノードのノード画面部品の表示座標を取得し、そのノードに対応するリンク部品に座標を送信することにより、そのノードと親ノードの現在の位置を結ぶ線を表示させる。 （もっと読む）

【課題】低級炭化水素から芳香族化炭化水素の生成の安定性を向上させさらに芳香族炭化水素のうちベンゼンを高選択的に製造できる低級炭化水素改質触媒の提供。
【解決手段】前記課題を解決するための低級炭化水素改質触媒の製造方法によると、担体であるメタロシリケートの表面をシラン化合物で処理した後に金属成分を担持し、これを焼成した後に水蒸気処理する。前記水蒸気処理の温度は７２３Ｋ〜８２３Ｋとし、前記水蒸気処理の時間は２０分以上６０分未満にするとよい。前記水蒸気濃度が３３％である場合、前記水蒸気処理の時間は８２３Ｋの水蒸気処理の温度のもとで２０分以上４０分以下に設定するとよい。前記水蒸気処理に供された担体は空気中で焼成した後に炭化処理するとよい。前記メタロシリケートとしては例えばＺＳＭ−５が挙げられ、前記金属成分はモリブデンが挙げられる。 （もっと読む）

【課題】万が一熱交換器において液体抵抗器の液体（電解液）が冷却液（冷却水）に混ざっても、この液体が混ざった冷却液が配給されてしまうのを防止することができる液体抵抗器冷却装置を提供する。
【解決手段】電解液循環ポンプ４０と、第１のプレート式熱交換器４１と、第１の冷却水循環ポンプ４２と、水道水（第１の冷却水）を貯留する冷却液タンク４３と、第２の冷却水循環ポンプ４４と、第２のプレート式熱交換器４５と、第３の冷却水循環ポンプ４６とを備えることにより、液体抵抗器３１の電解液を、浄水池８０の浄水（第２の冷却水）で直接冷却するのではなく、第１のプレート式熱交換器４１と第２のプレート式熱交換器４５の間に設けた冷却水タンク４３の水道水（第１の冷却水）を介して間接的に冷却する構成とする。 （もっと読む）

【課題】回転体の軸受内からのグリースの排出を確実に行うことができるグリース排出用パイプを提供する。
【解決手段】グリース排出用パイプ１１の内面１７Ａ，１７Ｂに複数の凹部１８を形成する。また、凹部１８は、上部のグリース入口１２側から下部のグリース出口１３側に向かって延びたスリット状のものとすることが望ましい。更には、内面１７Ｂを傾斜させることにより、グリース通路２０が、上部のグリース入口１２側から下部のグリース出口１３側に向かうにしたがって外側に広がるようにすることが望ましい。 （もっと読む）

【課題】キャリア比較の際に、三相に対して１つのキャリアを用いるだけで済む交流−交流直接変換装置の空間ベクトル変調方法を提供する。
【解決手段】多相の交流電源から交流−交流直接変換器（３）の双方向スイッチ（ＳＷ１〜ＳＷ９）を空間ベクトルによる変調でＰＷＭ制御する交流−交流直接変換装置の空間ベクトル変調方法であって、仮想間接形の空間ベクトルを用いたスイッチングパターンを、直接変換形の空間ベクトルを用いた５つのベクトルの組み合わせから成るスイッチングパターンに変換し、前記変換されたスイッチングパターンのうち所定の条件を満たすスイッチングパターンを選択し、前記選択されたスイッチングパターンの５つのベクトルのデューティを、仮想間接形の空間ベクトルと直接変換形の空間ベクトルのデューティ関係式から演算し、該演算されたデューティに基づいて前記交流−交流直接変換器をＰＷＭ制御する。 （もっと読む）

【課題】カレントインタラプタ法による被測定物の抵抗分測定に、被測定物にダメージを与えることなく、抵抗分測定精度を高めることができ、さらに任意のカレントインタラプト波形を容易に得ることができる。
【解決手段】電流制御デバイス３は直流電源１と被測定物（負荷）との間に介挿され、被測定物に供給する電流を制御する。電流制御デバイスに直列接続される電流検出用抵抗回路４はカレントインタラプト波形を検出する。パターン電圧発生器５はカレントインタラプト波形のパターン電圧を発生する。電流制御部６，７はパターン電圧と電流検出用抵抗回路の検出電圧との偏差に応じて電流制御デバイスの出力電流を自動制御する。 （もっと読む）