【課題】 十分な光伝送能力及び十分に高いパターン形成精度を有する光導波路を形成することが可能な光導波路用樹脂組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】 テトラカルボン酸無水物とジアミンとの重合反応により得られる下記一般式（１）で示されるポリイミド前駆体と、光重合開始剤とを含有しており、前記重合反応においてリン酸トリエステルを溶媒として用いることを特徴とする光導波路用樹脂組成物の製造方法。
【化１】
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【課題】カートリッジを必要とすることなく、記録および再生光強度が低くても良好にホログラフィック記録再生が行なえ、かつ外来光に対する遮光性が高くシェルフライフに優れたホログラフィック記録媒体を提供する。
【解決手段】記録信号光及び記録参照光を照射して得た干渉縞を記録情報として記録するためのホログラフィック記録層と、前記ホログラフィック記録層と隣接するようにして設けられた、第１の最大透過軸を有する第１の偏光吸収層、磁気偏光可変層及び前記第１の最大透過軸と直交する第２の最大透過軸を有する第２の偏光吸収層が積層されてなるシャッター部と、を具えるようにして、ホログラフィック記録媒体を構成する。 （もっと読む）

【課題】高い耐熱性を有し、透過率が高く透明で、尚且つ強靭性を有した成形体を得ることができる硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示されるラジカル反応性基を有したかご開裂型構造を有する硬化性シリコーン樹脂、及びラジカル重合開始剤を含む硬化型樹脂組成物であり、式中、Ｒ^１はアルキル基、アリール基、又は不飽和結合を有する反応性官能基を示し、その少なくとも１つは反応性官能基であり、Ｒ^２は不飽和結合を有する反応性官能基を示し、Ｒ^３は炭素数アルキル基若しくはアルコキシ基又は炭素数アリール基若しくはアリールオキシ基を示し、Ｒ^４はＲ^２に由来する２価の基を示し、Ｒ^５は芳香環を含む２価の基を示し、ｍは１〜１０００の数であり、ｎは６〜１４の数であって、ｎが奇数のときａは２、ｎが偶数のときａは１である。


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【課題】有機カルボン酸と有機アミンとの脱水反応でカルボン酸アミド類を製造する際に、水を反応媒体として、温和な反応条件で製造する方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるカルボン酸と有機アミンとを、水を反応媒体としてマイクロ波を照射して反応させることにより比較的低温で、高収率でカルボン酸アミド類を製造する。
Ｒ−（ＣＯＯＨ）_n （１）
（一般式（１）中、Ｒは、炭素数９以上の置換若しくは無置換のｎ価の飽和又は不飽和脂肪族基を表し、ｎは１又は２を表す。） （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性、および耐衝撃性に優れて、低熱膨張性の積層体フィルムを提供する。
【解決手段】一般式：［ＲＳｉＯ_3/2］_nで表される籠型シルセスキオキサン樹脂を含有した硬化性樹脂組成物からなる第一の層に、一般式：Ｙ−[Ｚ−(Ｏ_1/2−Ｒ²₂ＳｉＯ_1/2)_a−(Ｒ³ＳｉＯ_3/2)_k−(Ｏ_1/2)_b]_l−Ｚ−Ｙで表される構成単位を有する籠型シルセスキオキサン含有硬化性シリコーン共重合体を含有した硬化性樹脂組成物からなる第二の層を積層させることで、耐熱性、透明性、及び低熱膨張性に優れた第一の層に、耐熱性、透明性、及び耐衝撃性に優れた第二の層を積層して、耐熱性、透明性、耐衝撃性、及び低熱膨張性を併せ持つようにした積層体フィルムである。 （もっと読む）

【課題】素子の発光効率を改善し、駆動安定性を充分に確保し、かつ簡略な構成をもつ有機電界発光素子（有機ＥＬ素子）を提供する。
【解決手段】本発明の有機ＥＬ素子は、基板上に積層された陽極と陰極の間に、発光層を含む有機層を有し、この発光層が、燐光発光性ドーパントとインドロカルバゾール環を３以上有するインドロカルバゾール化合物をホスト材料として含有してなる有機電界発光素子である。このインドロカルバゾール化合物としては、下記式（１）で表される化合物がある。
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【課題】アンモニアが冷媒あるいは作動流体として用いられている電気、電子部品を保護する上で有用な耐アンモニア性エポキシ樹脂組成物の提供。
【解決手段】芳香環及び／または脂肪環の環状構造を含有し、オキシラン環以外のエーテル骨格を含まないエポキシ樹脂と、同じくエーテル骨格を含まない塩基性活性水素を持つアミン硬化剤を必須成分とした耐アンモニア性エポキシ樹脂組成物であって、前記アミン硬化剤の含有量はエポキシ樹脂成分のエポキシ基１当量に対して、硬化剤の持つ塩基性活性水素基が０．９〜１．２当量の範囲である耐アンモニア性エポキシ樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】トリビニルシクロヘキサンからトリエポキシエチルシクロヘキサンを高収率かつ簡便に得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】トリビニルシクロヘキサンを、過酸化水素を用いてエポキシ化するに当たり、炭酸カリウム等の塩基触媒及びアセトニトリル等のニトリル化合物の存在下にエポキシ化反応を行うことを特徴とするトリエポキシエチルシクロヘキサン又はトリエポキシエチルシクロヘキサンを含有するエポキシ樹脂の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性、耐衝撃性、及び寸法安定性に優れたガスバリア性積層体フィルムを提供する。
【解決手段】籠型シルセスキオキサン構造を有した硬化性樹脂を含んだ硬化性樹脂組成物からなり、引張応力−ひずみ曲線における引張弾性率が２０００MPa以上、線膨張係数が８０ppm/K以下、及びガラス転移温度が３００℃以上である第一の層と、籠型シルセスキオキサン構造を有した硬化性樹脂を含んだ硬化性樹脂組成物からなり、引張応力−ひずみ曲線における引張弾性率が１００MPa以上であって第一の層の引張弾性率未満であり、かつ、降伏点を有して塑性変形を示す第二の層とが積層され、この積層物の一方の面、又は両方の面には、ガスバリア層が設けられていることを特徴とするガスバリア性積層体フィルムである。 （もっと読む）

【課題】素子の発光効率を改善し、駆動安定性を充分に確保し、かつ簡略な構成をもつ有機電界発光素子（有機ＥＬ素子）を提供する。
【解決手段】基板上に積層された陽極と陰極の間に、発光層を有する有機電界発光素子であって、該発光層が、燐光発光性ドーパントと７個以上の環が縮合した多環縮環化合物をホスト材料として含有する有機電界発光素子である。上記多環縮環化合物は、２個以上のインドール環がカルバゾール環に縮合した構造の縮合環が芳香族基により３個以上連結した化合物であり、その具体例としては、下記式で表される化合物がある。
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