説明

アルプス電気株式会社により出願された特許

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【課題】半導体チップ搭載回路が導通不良を起こしてしまうことを防止することができる半導体チップ搭載回路の製造方法およびその実装回路を提供すること。
【解決手段】本発明の半導体チップ搭載回路1の製造方法は、主に3つの工程からなる。第1工程においては、実装回路10の接続端子12の表面上に円錐らせん状の接触子2を半田めっき形成する。第2工程においては、接触子2に半導体チップ20のバンプ21を押しつけて導通検査する。最終の第3工程においては、押圧された接触子2を溶融して接続端子12とバンプ21とを接合する。つまり、半導体チップ20および実装回路10が導通検査に合格した状態のままで接合するので、半導体チップ搭載回路1が導通不良を起こすことが極めて少なくなる。 (もっと読む)


【課題】 磁気抵抗効果素子を使用した磁気検出装置において、多層構造の膜の抵抗値をダメージを与えることなく、簡単に調整できるようにする。
【解決手段】 基板の表面に、磁気抵抗効果素子層11と参照抵抗層21とが直列に接続されて形成され、参照抵抗層22と磁気抵抗効果素子層12とが直列に接続されて形成されている。そして、電力供給層31と接地層32との間に電圧が印加される。第1の出力導電層33と参照抵抗層21とが平行に延び、その一部が接続層35で導通されている。また、参照抵抗層22と第2の出力導電層34とが平行に延び、その一部が接続層36で導通されている。接続層35と36の位置を可変することにより、参照抵抗層21,22の抵抗値を調整できる。 (もっと読む)


【課題】バンプの形状が平面であっても導通させることができる接触子を提供すること。
【解決手段】本発明の接触子1は、ばね部2、突出部3および導電部5からなる。ばね部2は単結晶シリコンを用いて渦巻き状に形成されており、このばね部2のバンプ対向面2aからバンプとの対向方向に突出部3が突出している。また、この突出部3の突出高さは、接触子1が配設される配線基板11の表面よりもバンプとの対向方向に突出する長さを有し、かつ、ばね部2の降伏伸びもしくは弾性限に対応する伸びよりも短い長さとなっている。 (もっと読む)


【課題】小型で薄型であり、操作部以外の部分を触れたときに、誤って検知動作を行うことのない入力装置を提供する。
【解決手段】合成樹脂で形成された動作部材2は、操作ノブ22を有する操作部21の周囲が、比較的厚さ寸法の小さい動作部20で、その周囲に固定部23と壁部25で囲まれている。前記動作部20に変形部27a,27b,27c,27dが形成され、それぞれの変形部の上面に歪み検出素子Ra,Rb,Rc,Rdが取り付けられている。この入力装置1は、動作部材2の下面が、基板などに固定される。操作ノブ22を傾けるように操作すると、外周の固定部23および壁部25には力が及ぶことがなく、変形部27a,27b,27c,27dが変形して、その歪みが検出される。 (もっと読む)


【課題】基材に所望の凹凸形状を有して所望の光学的特性を発揮することができ、しかも透明導電膜の電気的特性に影響を与えない機能性フィルム及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】機能性フィルム1は、一方の主面11aに凹凸形状11bを有するフィルム基材11と、フィルム基材11上の主面11a上に設けられた剥離層12と、剥離層12上に設けられた透明導電膜13と、透明導電膜13上に設けられ、未硬化状態の硬化型樹脂で構成された接着樹脂層14とから主に構成されている。この機能性フィルム1は、接着樹脂層14上にセパレータ15が設けられている。剥離層12は、未硬化状態の硬化型樹脂が硬化したときに、透明導電膜13と樹脂層14との間の密着力よりも透明導電膜13と剥離層12との間の密着力が弱くなるような材料で構成されている。 (もっと読む)


【課題】1つの接地用コンデンサを用いて2つの発振回路の発振トランジスタの接地を行なうとともに各発振周波数帯でインピーダンスを低くすることのできる2バンド発振器を提供すること。
【解決手段】第1の周波数帯で発振する第1の発振トランジスタと、前記第1の周波数帯よりも高い第2の周波数帯で発振する第2の発振トランジスタと、一端が前記第2の発振トランジスタの高周波的接地端子に接続され、他端が接地電極に接続される接地用コンデンサと、一端が前記第1の発振トランジスタの高周波的接地端子に接続され、他端が前記接地用コンデンサの一端に接続されるインダクタとを備えていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】バンプの形状が平面であってもおおきなな荷重をかけてバンプと導通させることができるプローブカードを提供すること。
【解決手段】本発明のプローブカード1は配線基板11に収容凹部13Aを有しており、その収容凹部13Aの内側には接触子10が固着されている。接触子10はばね部2、突出部3および導電部5からなる。ばね部2は単結晶シリコンを用いて渦巻き状に形成されており、このばね部2のバンプ対向面2aからバンプとの対向方向ODに突出部3が突出している。また、収容凹部13Aは半球状になっており、接触子10がバンプ15に押圧されるとばね部2が収容凹部13Aの内面13Aaに当接し、ばね部2の荷重−たわみ特性が非線形となる。 (もっと読む)


【課題】 基準感度の向上及びばらつきを抑制できるとともに、検出時における出力変化量の向上を図ることができ、動作安定性を向上できる入力装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 基材1上に形成された導電膜2に区画溝3により複数のセンサ部を構成する電極部2a〜2hを形成するとともに、前記電極部以外に残された残部導電膜2iに分断溝4,5を形成する。これにより、浮遊容量成分を小さくでき、基準感度の向上及びばらつきを抑制できるとともに、検出時における出力変化量の向上を図ることができ、動作安定性を向上できる。 (もっと読む)


【課題】接着剤シートを用いて第1素材と第2素材とを接合させて形成されているマイクロチッププレートにおいて、接着剤シートが前記素材に形成されているチャンネル内に食い込むことのない適正なチャンネルを有するマイクロチッププレートを提供すること。
【解決手段】第1素材2と第2素材3とを間に介在させた接着剤シート6を用いて接合させて形成されているマイクロチッププレート1であって、前記第1素材2と第2素材3とによって前記接着剤シート6を圧迫して接合させる際に前記接着剤シート6が前記両素材2、3の一方の対向面に形成されているチャンネル4内に食い込むことを防止する食い込み防止手段7を前記第1素材2と第2素材3とに形成したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】スルーホール導体を分割溝近傍に設けてもセラミック集合基板を所望形状に分割できて個片化した基板の小型化が促進しやすいセラミック基板の製造方法と、そのようなセラミック基板を用いた電子回路モジュールを提供すること。
【解決手段】セラミック基板の製造時に、スルーホール形成箇所の下穴8に導電ペースト9を充填させた複数枚のグリーンシート7と、該形成箇所に下穴8の存しない複数枚のグリーンシート7とを積層・圧着して多層グリーンシート10を得た後、該形成箇所に貫通穴5を形成する。これを焼成後に分割して得られるセラミック基板には、所定の深さまで電極部4が存し、そこから先は貫通穴5のみという構造のスルーホールが設けられることになる。このスルーホールは電極材料が少な駈くセラミック集合基板の分割溝近傍に位置させても分割不良を起こしにくいため、セラミック基板の外周面近傍にスルーホールを位置させることができる。 (もっと読む)


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