【課題】被加工物のそりやうねりを吸収して被加工物の平坦度を高めることを目的とし、更に、被加工物を保持する保持力を高めることを目的とする。
【解決手段】湿式凝固法によって形成された発泡層２の裏面を研削加工し、発泡層２の裏面を、両面テープ３側にして両面テープ３上に積層し、発泡層２の表面２ａを、被加工物を保持する保持面とし、発泡層２は、粘着材料を含有して粘着性を有し、この粘着性によって保持力を高めるとともに、研磨時に加圧された発泡層２が圧縮変形したときに、気泡が開口した発泡層２の壁面が、両面テープ３に一時的に粘着し、急激な回復を阻止して低反発性が得られるものと考えられ、この低反発性によって、被加工物のそりやうねりを吸収して被加工物の平坦度を向上させるようにしている。 （もっと読む）

【課題】 リセスおよびディッシングの発生を抑え、より研磨レートが高い研磨組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の研磨組成物は、金属膜、特に銅（Ｃｕ）膜に好適な研磨組成物であって、砥粒、アンモニア、アンモニウム塩、過酸化水素、カルボキシル基を２以上有する有機酸および防食剤を含み、残部が水である。これらを含むことで、特に第２段階研磨で使用した際に、リセスおよびディッシングの発生を抑えることができる。有機酸としては、マレイン酸、シュウ酸およびフマル酸が好ましく、防食剤としては、ベンゾトリアゾールが好ましい。 （もっと読む）

【課題】希釈後でも砥粒の分散安定性が確保され、フィルタを通過させても目詰まりの生じない最終研磨用の研磨組成物を提供する。
【解決手段】砥粒、水溶性高分子化合物、１種または２種以上の陽イオン界面活性剤および塩基性モノマー化合物を含むことを特徴とする研磨剤組成物であり、特に水溶性高分子化合物として、ヒドロキシエチルセルロースなどの水溶性多糖類を、陽イオン界面活性剤として、第４級アンモニウム化合物を、また塩基性モノマー化合物として、窒素元素を有する塩基性化合物を含む。 （もっと読む）

【課題】 安定した研磨特性を実現することができる研磨組成物用添加剤を提供する。
【解決手段】 本発明の研磨組成物用添加剤は、１種または２種以上のアミン化合物と、アルコールとを含むことを特徴とし、このアミン化合物には、第４級アンモニウム塩を含む。特にアミン化合物が高濃度で含まれる場合に、アルコールを含むことでアミン化合物の析出を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】 ディッシングを抑制し、より高速研磨が可能な研磨組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の研磨組成物は、金属膜、特に銅（Ｃｕ）膜に好適な研磨組成物であって、アンモニア、アンモニウム塩、過酸化水素およびアミノ酸を含み、残部が水である。アンモニウム塩としては、塩化アンモニウム、炭酸アンモニウムが好ましく、アミノ酸としては、酸性アミノ酸およびヒドロキシアミノ酸が好ましい。 （もっと読む）

【課題】被研磨部材の端縁部と研磨部材の溝のエッジ部とが摺接する際に、その端縁部とそのエッジ部との角度が適宜な斜めに交差する状態を常時実現できるようにして、ロールオフを抑制できる研磨部材を提供する。
【解決手段】被研磨物に対し遠近方向に沿う軸心周りで回転する研磨面を有する研磨部材において、研磨面には、回転中心側から面方向外方に向かう研磨スラリー流動用の複数の溝３が基準の曲線Ｌに沿って形成されているとともに、基準の曲線は、該曲線上の任意点における接線Ａと、この任意点及び研磨面の回転中心を通る直線Ｂとの交差角度θ₀が一定となる曲線に設定されている。 （もっと読む）

【課題】定盤に対する取り付け作業が容易であって、製造の無駄を低減できる被加工物保持枠材およびそれを用いた被加工物保持具を提供する。
【解決手段】一対の真っ直ぐな分割枠材６，７；８，９の組を、少なくとも二組備え、一方の組の分割枠材６，７は、定盤から突出する複数の位置決めピン１６それぞれに嵌合する位置決め穴１２を有し、各分割枠材６〜９の両端部には、一方の組の分割枠材６，７を、他方の組の分割枠材８，９と連結して被加工物を保持する保持凹部１５を構成するための凸状または凹状の連結部１３，１４がそれぞれ形成されている。 （もっと読む）

【課題】 より高速研磨が可能な研磨組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の研磨組成物は、金属膜、特に銅（Ｃｕ）膜に好適な研磨組成物であって、アンモニア、アンモニウム塩および過酸化水素を含み、残部が水である。アンモニウム塩としては、塩化アンモニウム、炭酸アンモニウムが好ましい。さらに、本発明の研磨組成物には、砥粒を含んでいてもよく、特に研磨後の表面平滑性が望まれるような用途では、砥粒を含むほうが好ましい。 （もっと読む）

【課題】研磨中に研磨の均一性をモニタできるようにすることを目的とする。
【解決手段】上定盤３に保持された被研磨物Ｗと、下定盤２上に装着された研磨パッド１とを接触加圧した状態で、供給ノズル４からスラリーを供給しながら、被研磨物Ｗと研磨パッド１とを相対的に摺動させて行なう研磨の状況をモニタするシステムであって、研磨パッド１の径方向互いに異なる位置に配置された複数の温度センサ１１の検出出力に基づいて、研磨パッド１の温度の均一性を算出し、この温度の均一性と研磨の均一性との間の相関関係から研磨の均一性をモニタするようにしている。 （もっと読む）

【課題】 より高速研磨が可能な研磨組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の研磨組成物は、金属膜、特に銅（Ｃｕ）膜に好適な研磨組成物であって、アンモニアとアンモニウム塩とを含み、残部が水である。アンモニウム塩としては、塩化アンモニウム、炭酸アンモニウムが好ましい。さらに、本発明の研磨組成物には、砥粒を含んでいてもよく、特に研磨後の表面平滑性が望まれるような用途では、砥粒を含むほうが好ましい。 （もっと読む）