説明

株式会社半導体エネルギー研究所により出願された特許

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【課題】有機材料の塗布液を塗布する際に、塗布液の液切れを良くして効率的に塗布する手段を提供する。
【解決手段】ヘッド部と、前記ヘッド部と連結したノズルと、前記ノズルの先端に設けられた接触子と、前記接触子の外側に設けられた塗布液吸い取り管と、を有することを特徴とする成膜装置を用いる。 (もっと読む)


【課題】照射された水素イオンの単結晶半導体基板からの脱離を抑制する。
【解決手段】半導体基板中に炭素イオンを照射し、当該炭素イオンが照射された半導体基板中に、水素イオンを照射することにより、当該半導体基板中に脆化領域を形成し、当該半導体基板の表面及びベース基板の表面を対向させ、接触させることにより、当該半導体基板及び当該ベース基板を貼り合わせ、貼り合わせた当該半導体基板及び当該ベース基板を加熱し、当該脆化領域において分離させることにより、当該ベース基板上に半導体層を形成するSOI基板の作製に関する。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いるトランジスタにおいて、電気特性の良好なトランジスタ及びその作製方法を提供する。
【解決手段】基板上に第1の酸化絶縁膜を形成し、該第1の酸化絶縁膜上に第1の酸化物半導体膜を形成した後、加熱処理を行い、第1の酸化物半導体膜に含まれる水素を脱離させつつ、第1の酸化絶縁膜に含まれる酸素の一部を第1の酸化物半導体膜に拡散させ、水素濃度及び酸素欠陥を低減させた第2の酸化物半導体膜を形成する。次に、第2の酸化物半導体膜を選択的にエッチングして、第3の酸化物半導体膜を形成した後、第2の酸化絶縁膜を形成して、当該第2の酸化絶縁膜を選択的にエッチングして、第3の酸化物半導体膜の端部を覆う保護膜を形成する。この後、第3の酸化物半導体膜及び保護膜上に一対の電極、ゲート絶縁膜、及びゲート電極を形成する。 (もっと読む)


【課題】新たな構造の半導体装置、及びその駆動方法を提供することを目的の一とする。
【解決手段】酸化物半導体を用いた書き込み用トランジスタ、該トランジスタと異なる半導体材料を用いた読み出し用のpチャネル型トランジスタ及び容量素子を含む不揮発性のメモリセルを有する半導体装置を提供する。メモリセルへの書き込みは、書き込み用トランジスタをオン状態として、書き込み用トランジスタのソース電極と、容量素子の電極の一方と、読み出し用トランジスタのゲート電極とが電気的に接続されたノードに電位を供給した後、書き込み用トランジスタをオフ状態として、ノードに所定量の電荷を保持させることで行う。また、保持期間において、メモリセルを選択状態とし、且つ、読み出し用トランジスタのソース電極およびドレイン電極を同電位とすることで、ノードに蓄積された電荷を保持する。 (もっと読む)


【課題】電源電圧の供給が停止した後もデータ保持可能な記憶素子を提供する。消費電力の低減可能な信号処理回路を提供する。
【解決手段】クロック信号に同期してデータを保持する記憶素子において、酸化物半導体層にチャネルが形成されるトランジスタ及び容量素子を用いることより、電源電圧の供給が停止した間もデータ保持ができる。ここで、電源電圧の供給を停止する前に、クロック信号のレベルを一定に保った状態で当該トランジスタをオフ状態とすることにより、データを正確に容量素子に保持させることができる。また、このような記憶素子を、CPU、メモリ、及び周辺制御装置のそれぞれに用いることによって、CPUを用いたシステム全体で、電源電圧の供給停止を可能とし、当該システム全体の消費電力を削減することができる。 (もっと読む)


【課題】表示パネルに設けられるパッド部として適した構造を提供することを目的の一と
する。酸化物半導体の他、絶縁膜及び導電膜を積層して作製される各種用途の表示装置に
おいて、薄膜の剥がれに起因する不良を防止することを目的の一とする。
【解決手段】走査線と信号線が交差し、マトリクス状に配列する画素電極層と、該画素電
極層に対応して設けられた画素部を有し、該画素部に酸素の含有量が異なる少なくとも二
種類の酸化物半導体層とを組み合わせて構成される逆スタガ型薄膜トランジスタが設けら
れた表示装置である。この表示装置において画素部の外側領域には、走査線、信号線を構
成する同じ材質の導電層によって、画素電極層と対向する共通電極層と電気的に接続する
パッド部が設けられている。 (もっと読む)


【課題】さらなるDRAMの大記憶容量化を図る。
【解決手段】半導体記憶装置が、単結晶半導体材料を含む基板の一部を有する駆動回路と、当該駆動回路上に設けられる多層配線層と、当該多層配線層上に設けられるメモリセルアレイ層とを有する。すなわち、当該半導体記憶装置においては、駆動回路と、メモリセルアレイとが重畳して設けられる。したがって、単結晶半導体材料を含む基板に駆動回路及びメモリセルアレイを同一平面に設ける場合と比較して、当該半導体記憶装置の集積度を高めることが可能となる。 (もっと読む)


【課題】 液晶表示装置おいて、オーバードライブ駆動を行うときには、前後の階調データを比較するための回路及びその結果に基づき階調データを変換する回路など液晶表示装置の構成を複雑化させている。また液晶表示装置は1フレーム期間内常時印加電圧が保持されるホールド型の駆動が行われているため、動画の残像感に対する対策としても高電圧印加による立上り時間の低下だけでは十分ではなかった。
【解決手段】 本発明は、1フレーム期間において、液晶素子に高電圧を印加する期間を有し、前記高電圧を印加する期間の後定電圧を印加し、高電圧の電圧値の絶対値は定電圧の電圧値以上であることを特徴とする。また、高電圧を印加する期間の矩形波は、立上り時間τONに対し周期の短い複数のパルスを有する。 (もっと読む)


【課題】本発明では、高画質で信頼性の高い表示装置を低いコストで歩留まり良く製造す
ることができる技術を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、画素領域における画素電極層上、及び画素電極層周辺を覆う隔壁
として機能する絶縁層上に、スペーサを有する。このスペーサによって、発光材料を画素
電極層上に形成する際、選択的に形成するためのマスクは支持され、マスクのよじれやた
わみなどによって画素電極層に接することを防止する。よって、画素電極層にはマスクに
よる傷などの損傷が生じず、画素電極層は形状不良とならないので、高繊細な表示を行う
、高信頼性な表示装置を作製することができる。 (もっと読む)


【課題】イメージセンサを一体化したアクティブマトリクス型表示装置を、安価に、且つ
プロセスを複雑化せずに作製する。
【解決手段】受光マトリクス111には、TFTと受光部が積層されたイメージセンサが
形成される。表示マトリクス121には、TFTと画素電極312がマトリクス上に配置
され、ブラックマトリクスとして機能する電極層308が形成されている。受光部の下部
電極208は遮光膜308と同一の出発膜で形成される。上部電極212の電位を固定す
るための端子606、603、601はそれぞれ、信号線306、電極層308、画素電
極606と同一の出発膜で形成される。端子606、603、601はその電位が固定さ
れるため、受光部の側面のシールド電極としても機能する。 (もっと読む)


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