【解決手段】次の一般式（１）


〔式中、Ｒ¹ 及びＲ² のいずれか一方は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基（ｔｅｒｔ−ブチル基を除く）を示し、他方は炭素数１〜４のアルキル基（ｔｅｒｔ−ブチル基を除く）を示し、Ｒ³ 〜Ｒ⁹ は、１価の非重合性基を示し、Ａは重合可能な炭素−炭素二重結合を有する基を示す。〕
で表わされる重合性化合物、これ単独又はこれと共重合可能な化合物とのポリマー及び該ポリマーを含むレジスト組成物。
【効果】波長の露光光源用のレジスト材料のベースポリマーとして有用である。 （もっと読む）

【課題】重合体の製造ロット間差を極めて小さくできる半導体リソグラフィー用重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】重合性単量体と重合開始剤を溶媒中で加熱して重合する工程（Ｐ）を含む半導体リソグラフィー用重合体の製造方法であって、工程（Ｐ）において、重合槽から大気に通じる間に設けた液封が可能な構造を有する容器（Ｗ０）内の液面レベルを調節することによって、工程（Ｐ）における重合圧力を調節することを特徴とする、半導体リソグラフィー用重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】半導体リソグラフィーにおいて使用されるレジスト膜や、レジスト膜の上層又は下層に形成される反射防止膜、ギャップフィル膜、トップコート膜等の薄膜形成に用いられる、半導体リソグラフィー用共重合体であって、薄膜形成用組成物溶液への溶解性に優れ、マイクロゲル等の微粒子が発生しにくく、パターン欠陥が発生しにくい半導体リソグラフィー用共重合体と、該共重合体を工業的なスケールで安定して製造する方法の提供。【解決手段】水酸基を有する繰り返し単位（Ａ）、アルカリ現像液への溶解を抑制すると共に酸の作用で解離する基で水酸基を保護した構造を有する繰り返し単位（Ｂ）、ラクトン構造を有する繰り返し単位（Ｃ）及び環状エーテル構造を有する繰り返し単位（Ｄ）から選ばれる少なくとも１種以上の繰り返し単位を含む共重合体であって、該共重合体を含む、粘度が１５ｍＰａ・ｓｅｃのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を、圧力差０．１ＭＰａで細孔径０．０３μｍのフィルターに６０分間通液したときのフィルター面積当たりの平均流速が２００ｇ／ｍｉｎ／ｍ²以上であることを特徴とする半導体リソグラフィー用共重合体及びその製造法。 （もっと読む）

【課題】水又は水に対する液浸媒体に対して高い撥水性及び耐水性を有し、剥離剤によって容易に剥離し、かつフォトレジスト層とのミキシングを起こさない保護膜を形成するための液浸リソグラフィー用レジスト保護膜形成用材料を提供する。
【解決手段】水又は水を主成分とする液浸媒体からフォトレジスト層を保護する非水溶性でかつ有機溶剤可溶性の保護膜を形成するための保護膜形成用材料であって、少なくとも下記一般式（１）


（式中、Ｘは少なくとも炭素数３〜１５の脂環骨格を有する基を示す）
で表される構成単位を有する樹脂を含むことを特徴とする液浸リソグラフィー用レジスト保護膜形成用材料。 （もっと読む）

【課題】側鎖に脂環式骨格を有するビニルエーテルを用いると共に、重合の態様を工夫することにより、ガラス転移温度が室温以上という物性以外の好ましい物性を有する共重合体の提供。
【解決手段】ＡＢＡトリブロック型共重合体は、


で表されることを特徴とする。このＡＢＡ型トリブロック共重合体。 （もっと読む）

【課題】ウオーターマーク等のパターン欠陥や、感放射線性酸発生剤等の添加物の溶出による感度やパターン形状の異常等を抑えることができる、液浸リソグラフィーに好適な表面特性を与える共重合体と、該共重合体を含む組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも、酸の作用で保護基が解離してアルカリ可溶性基を生ずる繰り返し単位（Ａ）と、ラクトン構造を有する繰り返し単位（Ｂ）とを含む共重合体であって、該共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、「ＰＧＭＥＡ」と言うことがある。）溶液をウエハーに塗布し、加熱して形成した薄膜に、純水１５μｌを滴下し、水滴が移動を開始するときのウエハーの傾きが３５°以下、又は水滴が移動を開始するときの水滴最上部の接触角が６４°以上であることを特徴とする液浸リソグラフィー用共重合体。 （もっと読む）

【課題】 従来技術の難点を解消し、現像コントラストが高く、微細パターンの解像性能に優れた、化学増幅ポジ型の半導体リソグラフィー用共重合体、該共重合体を含む半導体リソグラフィー用組成物並びに該共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の半導体リソグラフィー用重合体は、少なくとも、酸解離性溶解抑制基でアルカリ可溶性基を保護した構造を有する繰り返し単位（Ａ）、ラクトン構造を有する繰り返し単位（Ｂ）、及び、アルコール性水酸基を有する繰り返し単位（Ｃ）を含む共重合体であって、該共重合体を溶媒に溶解した後、ブロモチモールブルーを指示薬として、水酸化アルカリ金属含有溶液で中和滴定する方法で求めた酸価が０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ミセル内部に刺激応答性を有し、外部刺激に応答してその内部環境が変化する安定性の高いシェル架橋型ミセルの提供。
【解決手段】刺激応答性アルケニルエーテルモノマー、使用する溶媒に溶解する溶解性アルケニルエーテルモノマー、及び架橋性基を有するアルケニルエーテルモノマーをブロック共重合させ、かつシェル部を光架橋させてなるブロック共重合体を含有するシェル架橋型ミセル。 （もっと読む）

【課題】カチオン重合により重合可能で、キレート樹脂として有用な新規なアセトアセトキシ基含有ビニルエーテル化合物、その重合体又は共重合体の提供。
【解決手段】次の式（１）


で表される２−アセトアセトキシエチルビニルエーテル。 （もっと読む）

【課題】 従来技術の難点を解消し、半導体製造の微細なパターン形成に用いられ、従来品を上回る高感度なポジ型感光性樹脂、その製造方法及び当該ポジ型感光性樹脂を含むレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 本発明のポジ型感光性樹脂は、エチレン性二重結合を有する２種以上の重合性化合物を重合させることにより得られる共重合体であって、酸によって切断される結合を含む３価以上の多価チオールの存在下に重合して得られ、該多価チオールに由来すると共に、酸によって切断される結合を含む構造を有してなることを特徴とし、その製造方法は、エチレン性二重結合を有する２種以上の重合性化合物を、一般式（２）
【化１８】


で表される多価チオールの存在下で重合させることを特徴する。 （もっと読む）