【課題】半導体リソグラフィーに用いられるレジスト膜や、レジスト膜の上層又は下層に形成される反射防止膜、ギャップフィル膜、トップコート膜等において、その膜厚やリソグラフィー特性のばらつきが極めて少ない半導体リソグラフィー用共重合体溶液の製造方法の提供。
【解決手段】本発明による半導体リソグラフィー用共重合体溶液の製造方法は、水酸基を有する繰り返し単位（Ａ）、アルカリ現像液への溶解を抑制すると共に酸の作用で解離する基で水酸基を保護した構造を有する繰り返し単位（Ｂ）、ラクトン構造を有する繰り返し単位（Ｃ）、および環状エーテル構造を有する繰り返し単位（Ｄ）からなる群から選ばれる少なくとも１種以上の繰り返し単位を含む共重合体と、塗膜形成用溶媒とを含む共重合体溶液の製造方法において、同一製造ロットを充填した複数容器における容器毎の共重合体濃度の幅を特定の範囲以下とすること、あるいは、特定の製造工程を含むものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、芳香族成分の生成を抑制し、低級オレフィンを効率よく製造することができると共に、触媒活性の持続性に優れたゼオライト系触媒、その製造方法及びこれを用いた低級オレフィンの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】アルカリ土類金属、希土類元素及びリンを担持した結晶性アルミノシリケートであり、これらの成分を担持するにあたり、下記（ａ）又は（ｂ）の順に各々別工程で担持してなることを特徴とする低級オレフィン製造用触媒。
（ａ）アルカリ土類金属、リン、希土類元素
（ｂ）アルカリ土類金属、リン、希土類元素、リン （もっと読む）

【課題】低い温度でも流動性を有し、低温での硬化が可能であって良好な塗布性及び充填性を有し、さらに、得られる硬化物の耐熱性を損なうことなく、熱応力緩和特性を改善することが可能なエポキシ樹脂硬化剤の提供。
【解決手段】特定なビニルフェノールと、式（２）で表されるビニルエーテルを含み、１分子中にフェノール性水酸基を２以上有する共重合体。


[式中、Ｒ_２は置換または無置換炭化水素基を表す] （もっと読む）

【課題】カチオン重合可能なビニル系モノマーとラジカル重合可能なビニル系モノマーとのブロック共重合体を、簡便かつ高収率で得る製造方法を提供する
【解決手段】ＲＡＦＴ剤の存在下にカチオン重合可能なビニル系モノマーをリビングカチオン重合させ、得られたリビングポリマーにラジカル重合可能なビニル系モノマーをリビングラジカル重合させることを特徴とする、該カチオン重合可能なビニル系モノマーと該ラジカル重合可能なビニル系モノマーとのブロック共重合体の製造法。 （もっと読む）

【課題】 芳香族成分の生成を抑制し、低級オレフィンを効率よく製造することができると共に、高温水蒸気雰囲気下における耐久性の高いゼオライト系触媒、その製造方法及びこれを用いた低級オレフィンの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の低級オレフィン製造用触媒は、アルカリ土類金属及びリンを担持した結晶性アルミノシリケートであり、アルカリ土類金属及びリンを各々別工程で担持してなることを特徴とし、又、本発明の低級オレフィン製造用触媒の製造方法は、結晶性アルミノシリケートに、アルカリ土類金属及びリンを担持して低級オレフィン製造用触媒を製造する際、アルカリ土類金属とリンを各々別工程で担持することを特徴とし、更に、本発明の低級オレフィンの製造方法は、前記低級オレフィン製造用触媒を用いたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 芳香族成分の生成を抑制し、低級オレフィンを効率よく製造することができると共に、触媒活性の持続性に優れたゼオライト系触媒、その製造方法及びこれを用いた低級オレフィンの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の低級オレフィン製造用触媒は、アルカリ土類金属、希土類元素及びリンを担持した結晶性アルミノシリケートであり、リンとリン以外の前記成分とを別工程で担持してなることを特徴とし、又、本発明の低級オレフィン製造用触媒の製造方法は、結晶性アルミノシリケートに、アルカリ土類金属、希土類元素及びリンを担持して低級オレフィン製造用触媒を製造する際、リンとそれ以外の前記成分とを別工程で担持することを特徴とし、更に、本発明の低級オレフィンの製造方法は、前記低級オレフィン製造用触媒を用いたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 耐溶剤性、硬度、寸法安定性、低吸水性、耐熱性に優れ、さらに硬化収縮が起こらず、光学材料に好適な光学物性を有する硬化物を与える硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰り返し単位と、側鎖に脂環骨格を有する繰り返し単位を含むビニルエーテル系共重合体を含有する硬化性樹脂組成物およびこれを硬化させてなる硬化物。 （もっと読む）

【課題】重合時の固体付着を起こしにくく、不溶解性微粒子が発生しにくい溶媒を用いたフォトレジスト用高分子化合物の製造方法の提供
【解決手段】酸の作用によりアルカリに対する溶解性が変化する繰り返し単位を含むフォトレジスト用高分子化合物の製造方法であって、分子構造中にシアノ基を持つ溶媒を含む溶媒中で重合することを特徴とするフォトレジスト用高分子化合物の製造方法 （もっと読む）

【課題】 型と被成型物の間に圧力を均一に加えることができると共に、高速に昇降温することができるインプリント装置及びインプリント方法を提供すること
【解決手段】 型１００のパターンをフィルム状の被成型物２００に転写するためのインプリント装置１であって、型１００を保持するためのステージ１１と、被成型物２００と共に加圧室１２を構成する加圧室用筐体１３と、加圧室用筐体１３と被成型物２００との間を密閉する密閉手段１４と、加圧室用筐体１３と被成型物２００との間を開閉する開閉手段１５と、加圧室１２内の気圧を調節する加圧手段１６と、被成型物２００を加熱するための加熱手段１７と、型１００と被成型物２００の間の気体を除去する脱気手段１８と、を具備するインプリント装置１。 （もっと読む）

【課題】 従来技術の難点を解消し、光学材料分野における波長の短波長への変遷と透明性への要求、或いは、電気・電子材料分野における高速化と高密度化への要求に対応し、更には、従来からのアクリル化合物の吸湿性の問題を改善した化合物を提供する。
【解決手段】 本発明の新規な脂環式ビニルエーテルは、式
【化７】


｛Ｘは、-(CH₂)_n-OR₅（Ｒ_５はビニル基又は水素を、ｎは１をそれぞれ示す。）を示し、Ｙは、-OR₆（Ｒ_６はビニル基又は水素を示す。）又は水素を示す（但し、Ｒ_５及びＲ_６の少なくとも一方はビニル基を示す。）。｝
で表されることを特徴とする。 （もっと読む）