【課題】 簡潔且つ安価な方法で製造することができ、燃料による膨潤を抑制してガス透過を低減すると共に、プロトン伝導性能に優れた薄い自立膜構造の電解質膜を提供する。
【解決手段】 表裏間を貫通する貫通細孔２を有する無機酸化物からなる膜状基材１と、膜状基材１の貫通細孔２内に充填されており、表裏間を貫通する複数の微細孔４を有する無機酸化物からなる多孔質充填材３とからなるプロトン伝導性電解質膜１０であって、多孔質充填材３はゾル−ゲル法により形成され、且つその微細孔４内表面にプロトン伝導パスとなる官能基が付与されている。 （もっと読む）

【課題】 有害な８価のルテニウム酸化物（ＲｕＯ_４）を発生せず、電極の特性に対して問題となるナトリウムが残留することがなく、高品位のルテニウム酸化物微粉末を製造する方法を提供する。
【解決手段】 ルテニウム含有量１０〜５０質量％のルテニウム−ニッケル合金を、真空中又は不活性雰囲気中において６００〜１４００℃の温度で１〜１０時間熱処理し、箔状に成形した後、合金中のニッケルを電解して、溶液中に沈降するルテニウム酸化物の微粒子を回収する。電解条件は、温度５０〜６０℃、陽極の電流密度１〜１００ｍＡ／ｃｍ^２、陽極の酸化還元電位６００〜１２００ｍＶの条件が好ましい。 （もっと読む）

【課題】 従来の酸化ニッケルよりも硫黄品位が低く且つ微細な酸化ニッケル粉末、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 無水硫酸ニッケル若しくは硫酸ニッケル１水和物又はこれらの混合物を、酸化雰囲気中にて７８０℃以上９００℃未満の温度範囲内で焼成して酸化ニッケル粉末を得る。焼成に用いる無水硫酸ニッケル又は硫酸ニッケル１水和物は、硫酸ニッケル水和物を酸化雰囲気中にて１５０〜６００℃で仮焼して得ることができる。必要に応じて、焼成よって得られた酸化ニッケル粉末を溶媒と混合してスラリーとし、このスラリーを高圧で対向衝突させるか又は隘路部を通過させることで分散処理を行う。 （もっと読む）

【課題】電解コンデンサの薄型化を可能にするＴａ、Ｎｂ、またはこれらの合金の多孔質体であって、陽極酸化時に高電圧を印加可能で、定格電圧の高い電解コンデンサを作製するのに好適な薄型の多孔質電極を提供する。
【解決手段】ＴａまたはＮｂの箔または膜の上に、異相成分であるＣｕとの混合成膜および異相成分であるＣｕの除去により、ＴａまたはＮｂ粒子からなる多孔質膜を形成するに際して、２段階の焼成を行うことにより、多孔質膜を形成する粒子の粒成長を促進し、前記多孔質膜を形成する粒子の質量当たりの静電容量と陽極酸化電圧の積であるＣＶ値が低い多孔質電極を、電解コンデンサに用いる。 （もっと読む）

【課題】樹脂フィルムの厚さにかかわらず高い生産性で成膜できる真空成膜装置を提供する。
【解決手段】真空成膜装置１０には、キャンロール２０の外周面２０ａと樹脂フィルムＦの裏面Ｆｒとの隙間Ｓに液体Ｌを供給する液体供給機構３０と、外周面２０ａから液体Ｌを除去する液体除去機構４０とが備えられている。液体供給機構３０には、キャンロール２０の外周面２０ａに接触して液体Ｌを付着させる付着ロール３２と、付着ロール３２に液体Ｌを供給する液体供給ポンプ３４とが備えられている。液体除去機構４０には、キャンロール２０の外周面２０ａに接触して液体Ｌを吸い取る吸取ロール４２と、この吸取ロール４２に吸い取られた液体Ｌを吸取ロール４２から吸引する真空ポンプ４４が備えられている。 （もっと読む）

【課題】希土類遷移金属合金粉末をフィラーとする成形性に優れた希土類射出成形ボンド磁石用組成物、その製造方法、得られる射出成形体の提供。
【解決手段】希土類元素と遷移金属とを含有する希土類遷移金属合金粉末（Ａ）、ＰＰＳ樹脂（Ｂ）、及び重金属不活性化剤（Ｃ）を含有する射出成形用組成物であって、射出成形用組成物中のＰＰＳ樹脂（Ｂ）の結晶化温度Ｔｃ２βが１７０〜２２０°Ｃであり、しかも射出成形用組成物をノズル温度２３０〜３１０°Ｃで射出成形した後の成形体中のＰＰＳ樹脂（Ｂ）の結晶化温度Ｔｃ２γも１７０〜２２０°Ｃである組成物；希土類遷移金属合金粉末（Ａ）に、ＰＰＳ樹脂（Ｂ）を混合し、先ず、この混合物を２８０〜３６０°Ｃの温度に加熱して、混練トルクが徐々に低下するように混練を続け、ＰＰＳ樹脂（Ｂ）の結晶化温度Ｔｃ２αが１７０〜２２０°Ｃとなった状態で、この混練物に重金属不活性化剤（Ｃ）を添加して、引き続き、２３０〜３６０°Ｃの温度に加熱し、さらに混練することで、ＰＰＳ樹脂（Ｂ）の結晶化温度Ｔｃ２βを１７０〜２２０°Ｃに維持する組成物の製造方法など。 （もっと読む）

【課題】近赤外線遮蔽材料微粒子分散体に太陽光等が当たったときに青白色に変色するブルーヘイズを直接評価できる方法を提供する。
【解決手段】積分球４に標準反射板を取付けかつ測定試料を取付けない状態で光源１から光を球状空間内に入射させて反射光の分光データを得るブランク透過光強度測定工程と、積分球にライトトラップ部品６を取付けかつ測定試料２を取り付けた状態で光源から光を球状空間内に入射させて散乱光の分光データを得る拡散透過光強度測定工程と、各分光データに基づき拡散透過光強度とブランク透過光強度の波長毎の比をそれぞれ演算して波長毎の拡散透過率を得る拡散透過率演算工程と、波長360nmから500nm間の拡散透過率から測定試料のブルーへイズを評価する評価工程を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】下地金属層と該下地金属層上に積層された銅被膜層とからなる金属層とフィルムとの初期密着力、耐熱密着力等の密着力が高く、必要に応じてフィルム厚さも含めた基板全体の厚さを薄くすることができる金属被覆ポリエチレンナフタレート基板とその効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】ポリエチレンナフタレート系フィルムの少なくとも片側の表面上に、金属層を有する金属被覆ポリエチレンナフタレート基板であって、下記の（１）及び（２）の要件を満足することを特徴とする。
（１）前記ポリエチレンナフタレート系フィルムの下地金属層が接する表面は、その中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．５〜４ｎｍである。
（２）前記下地金属層は、乾式めっき法により形成されたクロム、バナジウム、チタン及びモリブデンからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属を含有するニッケル合金を主成分として含み、かつその膜厚が３〜５０ｎｍである。 （もっと読む）

【課題】鋳込み面と離型剤との密着性を改良することにより、鋳型の長寿命化と、得られるインゴットの外観不良の低減とを可能とする金属鋳造用鋳型およびこれを用いた鋳造方法を提供する。
【解決手段】金属鋳造用鋳型の鋳込み面の全面に、表面粗さＲmaxが０．１〜１．０ｍｍとなる凹凸を設け、鋳込み面に炭素系離型剤を塗布した後、溶湯を注ぎ込む。あるいは、金属鋳造用鋳型の鋳込み面の全面に、表面粗さＲmaxが０．１〜１．０ｍｍとなる凹凸を設け、鋳込み面にシリコン系離型剤を塗布した後、溶湯を注ぎ込む。 （もっと読む）

【課題】摺動摩擦によるキズがつきにくく、かつ平坦な透過率分光特性が再現性良く得られ、しかも量産性に優れた吸収型多層膜ＮＤフィルターを提供する。
【解決手段】基板１と、金属膜と誘電体膜が交互に積層された、透過光量を減衰させる光学多層膜層１０と、該光学多層膜層の上に形成された保護膜層２０とからなる吸収型多層膜ＮＤフィルターにおいて、光学多層膜層の金属膜が、ニッケルを主成分とし、好ましくは、チタン、アルミニウム、バナジウム、タングステン、タンタル、シリコンから選択された１種類以上の元素を添加したニッケル系合金材料からなる金属膜であり、光学多層膜層の誘電体膜が酸化シリコン若しくは酸化アルミニウムからなる誘電体膜であるとともに、ダイヤモンドライクカーボン膜からなる保護膜層を形成する。 （もっと読む）