【課題】不純物拡散成分を含む塗布型拡散剤組成物について、半導体基板に塗布したときに十分な膜厚を得ることができ、かつ段差を有する基板に塗布した後、焼成、拡散を行った場合にクラックが生じにくくさせる。
【解決手段】本発明のある態様の拡散剤組成物は、下記一般式（１）で表されるアルコキシシランを出発原料とする縮合生成物（Ａ）と、不純物拡散成分（Ｃ）と、有機溶剤（Ｄ）とを含有する。
【化１】


（１）式中、Ｒ^１、Ｒ^２は有機基であり、複数個のＲ^１、Ｒ^２は、同一でも異なっていてもよい。ｍは０、１、もしくは２である。ただし、ｍ＝０の場合、縮合化合物（Ａ）は複数の（１）から形成されていて、ｍ＝１もしくは２のアルコキシシランを必ず含む。 （もっと読む）

【課題】対象物を強固に接着して支持しつつ、支持体を対象物から容易に分離することができる積層体およびその積層体の分離方法を提供すること。
【解決手段】積層体は、光透過性の支持体と、上記支持体によって支持される被支持基板と、上記被支持基板における上記支持体によって支持される側の面に設けられている接着層と、上記支持体と上記被支持基板との間に設けられている、フルオロカーボンからなる分離層とを備えており、上記分離層は、上記支持体を介して照射される光を吸収することによって変質するようになっている。 （もっと読む）

【課題】対象物を強固に接着して支持しつつ、支持体を対象物から分離可能な積層体およびその積層体の分離方法を提供すること。
【解決手段】本発明の積層体は、光透過性の支持体と被支持基板と接着層と支持体および被支持基板との間に設けられ、光吸収性を有している構造をその繰返し単位に含んでいる重合体を含有している分離層とを備えており、重合体は支持体を介して照射される光を吸収することによって変質する。 （もっと読む）

【課題】対象物を強固に接着して支持しつつ、支持体を対象物から容易に分離することができる積層体およびその積層体の分離方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る積層体は、光透過性の支持体と、上記支持体によって支持される被支持基板と、上記被支持基板における上記支持体によって支持される側の面に設けられている接着層と、上記支持体と上記被支持基板との間に設けられている、無機物からなる分離層とを備えており、上記分離層は、上記支持体を介して照射される光を吸収することによって変質するようになっており、上記分離層における上記接着層に対向する側の面は、平坦になっている。 （もっと読む）

【課題】解像性に優れ、パターン形状やＬＥＲ等のリソグラフィー特性にも優れたレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、式（ｃ１）で表される化合物（Ｃ１）を含む含窒素有機化合物成分（Ｃ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）（化合物（Ｃ１）を除く）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）１００質量部に対し、酸発生剤成分（Ｂ）の含有割合は１０〜６０質量部であり、化合物（Ｃ１）と酸発生剤成分（Ｂ）との合計に対し化合物（Ｃ１）の含有割合は１〜１５モル％である［Ｒ^Ｃ１は水酸基、アルコキシ基、シアノ基、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（Ｒ^Ｃ２）＝ＣＨ_２又は−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^Ｃ３、Ｙ^１は２価の脂肪族炭化水素基、Ｒ^１は水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化アルキル基、ｐは１〜１０、Ａ^＋は有機カチオンを表す］。
[化１]
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【課題】高解像性のレジスト組成物を構成できる高分子化合物を製造するのに好適な化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物。［式（１）中、Ｒは水素原子または低級アルキル基であり；Ｘは硫黄原子であり；Ｙは、水素原子の一部がヘテロ原子を含む基で置換されていてもよい炭素数１〜２０の鎖状、分岐状または環状のアルキル基、もしくは該アルキル基の炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されている基である。式（２）中、Ｒは水素原子または低級アルキル基であり；Ｘは酸素原子であり；ｍは１であり；Ｙ’は、水素原子の一部がヘテロ原子を含む基で置換されていてもよい炭素数１〜（２０−ｍ）の鎖状、分岐状または環状のアルキル基、もしくは該アルキル基の炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されている基である］。
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【課題】半導体基板へのＮ型不純物拡散成分の印刷に用いることができる拡散剤組成物の保存安定性の向上を図りつつ、拡散性能の向上を図りつつ、不純物拡散成分の半導体基板への拡散性を向上させる。
【解決手段】拡散剤組成物は、縮合生成物（Ａ）と不純物拡散成分（Ｂ）とを含有する。
縮合生成物（Ａ）は、アルコキシシランを加水分解して得られる反応生成物である。不純物拡散成分（Ｂ）は、リン酸モノエステル、リン酸ジエステルまたはこれらの混合物である。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性が良好なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）として、一般式（ｂ１−１）で表される基をカチオン部に有する酸発生剤（Ｂ１）を含有するレジスト組成物。
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【課題】製品安定性に優れた接着剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る接着剤組成物は、炭化水素樹脂と、上記炭化水素樹脂を溶解するための溶剤とを含み、上記溶剤が、縮合多環式炭化水素を含む構成である。 （もっと読む）

【課題】基板を支持体に接着させた後、剥離する際に、基板の表面に成分が残存することを抑制し、かつ高温プロセスにおける沈み込みを防止する。
【解決手段】本発明に係る接着剤積層体は、接着性を備えた第１の樹脂を含有する第１の接着剤層と、接着性を備えた第２の樹脂及びフィラーを含有し、上記第１の接着剤層に積層された第２の接着剤層と、により構成される。 （もっと読む）