説明

東芝セラミックス株式会社により出願された特許

71 - 80 / 294


【課題】FOSB(基板収納容器)の種類が異なっても使用でき、しかも搬送時の振動や衝撃から半導体ウエハを好適に保護することができる搬送用緩衝材を提供する。
【解決手段】カートンボックス内に配置される方形筒状の緩衝材本体11と、緩衝材本体の各側面の外側に所定の間隔をもって突出し、筒状の緩衝材本体の軸線方向に延設された断面形状が台形状の第1の突出部12a〜12hと、緩衝材本体の角部の外側に、緩衝材本体の側面延長方向に突出し、筒状の緩衝材本体の軸線方向に延設された断面形状が台形状の第2の突出部13a〜13hと、緩衝材本体の各側面の内側に所定の間隔をもって突出し、筒状の緩衝材本体の軸線方向に延設された断面形状が台形状の第3の突出部14a〜14hとを備え、第3の突出部が基板収納容器の側面に当接すると共に、第1、第2の突出部がカートンボックス内側面に当接する。 (もっと読む)


【課題】反応ガスがウエハ裏面へ回り込むのを抑制し、ウエハ裏面おける薄膜形成が抑制される半導体ウエハ支持部材及び及び半導体ウエハ支持部材の評価方法を提供する。
【解決手段】この半導体ウエハ支持部材は、半導体ウエハを搭載する凹形状のウエハ保持部を有する半導体ウエハ支持部材であって、前記ウエハ外周部が当接する部分の相対高さを周方向にわたって測定し、その測定結果を縦軸に高さ、横軸に位置角度をとった図に示し、前記図中で垂直方向に相対高さが高い2点と、垂直方向の相対高さが最も低い点とによって描かれる三角形の面積が、0.15cm2以下であることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】耐反応性及び耐熱衝撃性に優れ、高速焼成や300mm□程度の大型化も実現可能な焼成容器を提供する。
【解決手段】本焼成容器は最大粒径が3mm以下で主成分がマグネシアおよびマグネシア・スピネルからなり、MgOの総量が60〜90wt%で、かつ粒径50μm以下の粉に含まれるAl量が2.0wt%以下である。 (もっと読む)


【課題】ルツボへの装填率を向上させることができ、また多結晶シリコンが偏りなく溶解が進行し、溶解に要する時間を短縮することができるシリコン単結晶原料の溶解方法を提供する。
【解決手段】断面矩形状または断面円形の柱状の多結晶シリコン3の軸線が、水平かつルツボ径方向に向くようにルツボ1内に配置し、かつ前記柱状の多結晶シリコン3を複数配置して、柱状の多結晶シリコン3の配置形状を十字状または放射状になし、前記多結晶シリコンを溶解する。 (もっと読む)


【課題】骨接合術スクリュー挿入時に均等に破砕されやすい骨接合術スクリュー固定補助材を提供する。
【解決手段】固定補助材10は、多孔質セラミックスからなり、その外形は円柱状である。固定補助材10には、中心部を貫くように骨接合術スクリューを挿入するためのスクリュー挿入穴11が形成されている。また、その外周表面には、長手方向に所定間隔で、周方向に沿った環状溝13が形成されているとともに、周方向に所定間隔で、長手方向に沿った直線状溝15が形成されている。 (もっと読む)


【課題】ドープ剤の投入時期、ドープ剤の性状、ドープ剤の投入位置を特定することによって、好適な単結晶を得ることができる半導体単結晶の製造方法を提供する。
【解決手段】粒径を選別した顆粒状のドープ剤14を、原料溶融液上方に位置するドープ剤投入容器10から原料溶融液6に向け、投入する工程において、前記原料溶融液6の湯面からのドープ剤投入位置をX(m)とした場合、前記ドープ剤の粒径Y(mm)がY≧0.8X+0.04の式を満足する粒径であって、かつ前記ドープ剤14が単結晶引上線A上から投入される。 (もっと読む)


【課題】高プラズマ密度に対して耐プラズマ性を備えたフォーカスリングを提供する。
【解決手段】本フォーカスリングの製造方法は、イットリア粉末、アルミニウム粉末の混合粉末に有機バインダーを加えて混練、成形した後、水素雰囲気または不活性雰囲気、1520℃以下の温度で焼成し、未反応Yが反応生成物Alより多く含有するとともに、未反応Yにイットリウムを含有するようにする。 (もっと読む)


【課題】不純物が原因と思われる緑色蛍光の発生を抑制することができるシリカガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】本シリカガラスの製造方法は、モールドの中空部内にシリカガラスを収容し、モールドとシリカガラスを加熱し、シリカガラスが加圧または自重により変形する前に、モールドとシリカガラスを気相純化処理し、その後さらに加熱し、シリカガラスを加圧または自重により変形させて成形する。 (もっと読む)


【課題】シリコン等の半導体単結晶引上げに用いられるルツボにおいて、該ルツボ表面に形成する結晶化促進のためのコーティング層による効果を向上させることができ、これにより、ルツボ側壁の強度低下による倒れ込みを防止することができる結晶化促進コーティング用シリカガラスルツボを提供する。
【解決手段】結晶化促進用コーティング処理を施すためのシリカガラスルツボとして、外表面におけるOH基濃度が50ppm以下、かつ、該OH基濃度分布は平均濃度の±10%以内であるシリカガラスルツボを用いる。 (もっと読む)


【課題】耐酸化性に優れ、経時による入力変化が小さく、長寿命化および低ノイズ化を図ることができ、鉛フリー化に対応し得る銅カーボン質の電刷子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】粒径10μm以上100μm以下の電解銅粉に、該銅粉に対して3重量%以上50重量%以下の銀をメッキする鍍銀処理工程と、黒鉛粉14重量%以上69重量%以下をバインダ処理した黒鉛造粒粉と、電解銅粉30重量%以上80重量%以下と、MoS2、WS2またはBNのうちの少なくともいずれか1種を1重量%以上6重量%以下とを、前記鍍銀処理工程で得られた鍍銀銅粉を前記混合原料全量に対して1重量%以上10重量%以下を添加して混合する原料調製工程と、前記工程で調製された原料を2t/cm2以上5t/cm2以下で加圧成型する工程と、前記工程による成型品を400℃以上800℃以下で焼成する工程とを経る製造方法により、電刷子を得る。 (もっと読む)


71 - 80 / 294