【課題】基板表面に固定化された有機化合物の構造や、該有機化合物による修飾状態を赤外分光法で詳細に解析できる表面修飾基板、及びその解析方法の提供。
【解決手段】基板１１上に、赤外域において光反射性を有する金属製の薄膜で密着層１２を形成し、密着層１２の表面に、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）のいずれかで表される水酸基含有化合物を固定化し、結合層１３を形成して解析用基板とし、さらに前記水酸基含有化合物の水酸基に、下記一般式（ＩＶ）〜（ＶＩ）のいずれかで表される有機化合物を結合させて修飾層１５を形成して表面修飾基板２を作製し、その赤外光反射スペクトルを測定する。
［化１］
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【課題】 高い信頼性を持って迅速に相対ティーチングができるようにした搬送ロボットの相対ティーチング方法を提供する。
【解決手段】 基板Ｓをロボットハンド１３にて支持した状態で同一平面内を旋回及び伸縮動作させ、前記旋回方向に沿って配置された複数の処理室Ｌ、Ｐ１乃至Ｐ３間で基板を搬送する搬送ロボット１に対し、その搬送動作を教示するとき、いずれか一の処理室に対して伸縮動作する際に基準となる座標データを教示し、この座標データに基づいて他の処理室に対して伸縮動作する際に基準となる座標データを教示する。一の処理室における座標データを教示する際にその伸縮軌道データを取得し、他の処理室における座標データを教示する際に、前記一の処理室及び他の処理室への搬送ロボットの伸縮ストロークが相互に異なると、前記伸縮軌道データから前記ロボットハンドの位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に固定化された有機化合物の構造や、該有機化合物による修飾状態を赤外分光法で詳細に解析できる表面修飾基板、及びその解析方法の提供。
【解決手段】基板１１上に、赤外域において光反射性を有する金属製の薄膜１３を形成し、薄膜１３の表面に酸化膜１４を形成して解析用基板１とし、さらに酸化膜１４に、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）のいずれかで表される有機化合物を結合させて修飾層１５を形成して表面修飾基板２を作製し、その赤外光反射スペクトルを測定する。
［化１］
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【課題】プラスチック単層フィルムでなるベースフィルムに熱変形を生じさせることなく金属膜を成膜することができる生産性に優れた巻取式真空蒸着方法を提供する。
【解決手段】金属膜の蒸着前においては、原料フィルム１２を帯電させることによりキャンローラ１４へ密着させる。金属膜の蒸着後においては、原料フィルム１２をガイドする補助ローラ１８とキャンローラ１４との間にバイアス電圧を印加することにより原料フィルム１２をキャンローラ１４へ密着させる。これにより、熱変形を生じさせることなく原料フィルムへ金属膜を成膜することができる。 （もっと読む）

【課題】同一の処理室で、自然酸化膜が除去された後にシリコン基板の界面の酸素を確実に除去する。
【解決手段】ＮＨ_３及びＮ_２及びＮＦ_３を導入し、シリコン基板５の酸化表面にＮＨｘＦｙを作用させることで（ＮＨ_４）_２ＳｉＦ_６を生成し、シリコン基板５を所定温度に制御することにより（ＮＨ_４）_２ＳｉＦ_６を昇華させてシリコン基板５の表面の酸化膜を除去し、続けてＮＨ_３及びＮ_２及びＮＦ_３を導入し、温度が維持された状態でシリコン基板の表面にＦラジカルを作用させてシリコン層をエッチングする。 （もっと読む）

【課題】光電変換効率を大幅に向上することができる有機光電変換素子を提供する。
【解決手段】本発明は、画素電極層２１、有機光電変換層２３、第１の電子ブロック層２４、第２の電子ブロック層２５及び透明電極層２６が順次積層された有機光電変換素子２０である。有機光電変換層２３は、キナクリドンからなり、第１の電子ブロック層はＳｎＯからなり、第２の電子ブロック層２５は、ＳｉＯ−ＴｉＯ₂合金膜からなる。画素電極層２１はＡｌからなるとともに、画素電極層２１と有機光電変換層２３との間に、仕事関数が３．１ｅＶ以上４．３ｅＶ以下の希土類元素若しくはチタン族を含むＡｌ合金（又はＡｌ−Ｌｉ合金）からなるキャリア輸送層２２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】複数のウエハーを搬送し、真空処理するための手段を提供する。
【解決手段】本発明の真空処理装置によれば、第一、第二の受渡用真空槽１１２ａ,１１２ｂと処理用真空槽１１３とはそれぞれ接続されており、各受渡用真空槽１１２ａ,１１２ｂ内に配置された第一、第二のトレイ２１ａ,２１ｂに基板３１ａ,３１ｂをそれぞれ配置し、各受渡用真空槽１１２ａ,１１２ｂから交互に処理用真空槽１１３へと、基板を第一、第二のトレイ２１ａ,２１ｂに乗ったまま搬入し、真空処理を行う。各トレイ２１ａ,２１ｂはこれらの真空槽１１２ａ,１１２ｂ、１１３の外部に出ることはなく、また処理用真空槽１１２へは多数の受渡用真空槽から基板を出し入れできる。 （もっと読む）

【課題】高密度な有機薄膜をマスク成膜で成膜する
【解決手段】本発明に用いるマスク７０は、貫通孔７２の内壁面が傾斜し、貫通孔７２は基板７側程狭く、放出装置５０側程広くなっている。従って、マスク本体７１の厚さが５０μｍ以上２００μｍ以下と厚い場合であっても、貫通孔７２の底面７４縁部分に斜めに入射する蒸気も基板７に到達可能であり、膜厚均一な有機薄膜８が形成される。マスク本体７１が厚いため、マスク７０は変形し難く、洗浄等によって再利用が可能であり、成膜精度も落ちない。 （もっと読む）

【課題】異常放電の発生を抑制可能とするプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】反応室αを有するように、絶縁フランジ８１を挟んでチャンバ２と電極フランジ４から構成される処理室内に、被処理体１０を載置する支持手段１５と、これを上下移動する昇降機構と、被処理体に向けてプロセスガスを供給するシャワープレート５を収容する。チャンバの側壁に、反応室に被処理体の搬出入口１２を設けると共に、支持手段に一端が接続され、チャンバに他端が接続されるプレート部材４０を設ける。該プレート部材は、支持手段の外周縁部に設けた第一部位と、チャンバの側壁部に設けた第二部位、及び支持手段の移動に伴い、第一部位と第二部位とに電気的に接続する導電性の弾性部材からなる第三部位から構成されている。シャワープレートに配置されたガス噴出口６を通して導出されたプロセスガスがプラズマ化するように印加する電圧印加手段３３を備える。 （もっと読む）

【課題】反射率が高い反射膜を有するトップエミッション型有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】トップエミッション型有機ＥＬ装置１において、反射層の表面に、Ｗを主成分とする正孔注入層を設け、エッチング液やエッチングガスが反射層に接触しないようにする。Ａｌを主成分とする反射層を用いても、反射層の表面がエッチング液やエッチングガスで荒らされることはないので、高反射率の反射層を得ることができる。 （もっと読む）