【課題】 従来の蒸着用マスクに比較して蒸着パターンの精細化をより推進することができる蒸着用マスクを提供すること。
【解決手段】 本発明の蒸着用マスクは、金属箔からなる第１の層と、この金属箔とエッチング特性が異なる成分の金属箔からなる膜厚０．０１μｍ〜１μｍの第２の層との積層構造を有し、第２の層に蒸着用のマスクパターンとなる所定寸法の開口部が形成され、第２の層に形成された開口部に対応する第１の層の部分が、第２の層に形成された開口部よりも表面に向かって幅広に穿孔されて貫通孔が設けられている、第１の層の表面が蒸着源に面するようにして用いる、蒸着材料を所定のパターンで被蒸着基板の表面に蒸着させるための蒸着用マスクである。 （もっと読む）

【課題】防塵板を取り外すことなしに、大扉を開閉するための発明を提供する。
【解決手段】本発明の凍結真空乾燥装置には、真空槽１２１に配置された開閉可能な大扉１３１の表面上に、空気清浄装置５１の本体１６１と防塵フード１５１が取り付けられており、大扉１３１の小開口１３７前の空気を清浄にする。真空槽１２１内を点検する際に大扉１３１を開ける場合、防塵フード１５１は大扉とともに開閉の動きをするので、防塵板を取り外す作業をすることなく大扉１３１を開閉できる。 （もっと読む）

【課題】 何らかの原因でアーク放電が発生したときでも放電切れを防止できるようにした低コストのセルフスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】処理すべき基板Ｗが配置される真空チャンバ１と、前記基板に対向配置されるターゲット２と、前記ターゲットに負の直流電位を印加するスパッタ電源Ｅ１と、前記ターゲットの前方空間を囲うように配置され、正の電位が印加されるアノードシールド４と、前記真空チャンバ内に所定のスパッタガスを導入するガス導入手段６、６ａとを備える。更に、直流電源からターゲットへの出力回路に並列にＬＣ共振回路８を有する。 （もっと読む）

【課題】ＣＮＴを気相成長させる原料ガスを一定の流れで基板に供給できるメンテナンス性のよいリモートプラズマＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】本発明のリモートプラズマＣＶＤ装置Ｍは、処理すべき基板Ｓが載置される基板ステージ３を有する上方に開口したチャンバ本体１ａと、チャンバ本体の上面開口に着脱自在に装着される蓋体１ｂと、チャンバ本体内にプラズマを発生させるプラズマ発生手段７と、基板ステージ上の基板がプラズマに曝されないように基板上方に設けられた複数の透孔を有する板状の遮蔽部材８ｃとを備える。蓋体の下面周縁部に周方向の間隔を存して垂設した複数本の支持部材８ａと、これら支持部材の下端部に連結される支持フレーム８ｂとを有し、遮蔽部材の周縁部を支持フレームに遮蔽部材の熱膨張または熱収縮が許容されるように載置される。 （もっと読む）

【課題】 メンテナンス時においても装置全体の稼働を停止する必要のないインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、少なくとも一の成膜処理室を含む複数の処理室を直列に接続してなり、成膜処理室は、基板が設置される基板設置部１４１と、設置された前記基板に対して所定の成膜処理を行う成膜手段が設置された成膜手段設置部１４２とからなり、これらの基板設置部と成膜手段設置部とは分離可能に構成されている成膜装置であって、基板設置部と成膜処理室とを隔絶し基板設置部内の真空を保持するシャッター３を備えている。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイの製造技術において、スループットの向上が可能になる技術を提供する。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイ装置の製造装置１はアライメント封着室６を有している。アライメント封着室６は位置合わせ機構の他に加熱機構を有しており、位置合わせが終了した後にフロントパネル及びリアパネルを加熱して封着することができ、位置合わせ工程と封着工程とを一つの処理室で行うことができる。従って、位置合わせが終了した一組のパネルをクリップで仮留めし、封着室へ搬送する必要があった従来に比して、工程数を削減することができる。 （もっと読む）

【課題】各電極の極性反転時に発生する過電圧を抑制することで、アーク放電の誘発を防止することができるスパッタリング装置用の交流電源を提供する。
【解決手段】直流電力供給源１からの正負の直流出力ライン２ａ、２ｂ間に、複数のスイッチングトランジスタＳＷ１乃至ＳＷ４から構成されるブリッジ回路３を設ける。直流電力供給源１からブリッジ回路３への正負の直流出力ライン２ａ、２ｂの少なくとも一方に、直流出力を定電流特性とするインダクタＤＣＬを設け、ブリッジ回路３の入力３ａ、３ｂに対して並列にスナバ回路７を設ける。 （もっと読む）

【課題】上基板を撓ませることなく水平に保持した状態で下基板に案内する基板貼合せ装置を提供する。
【解決手段】上基板を保持した保持板３１の左右前後４箇所から延出した各アーム３２を下方から支承する支承ロッド３６を設ける。そして、各支承ロッド３６を支承モータ３７にて下動させて、上基板を下基板の上面に向かって案内する。また、保持板３１の上面に、保持板３１と上基板の自重で上基板が下方に撓むのを防止する吊下部材４４を設け、その吊下部材４４を吊下モータ４８にて下動させる。各支承ロッド３６を下動させて上基板を下基板の上面に向かって下動させるとき、各支承ロッド３６の下動に同期して吊下部材４４を吊下モータ４８にて下動させる。 （もっと読む）

【課題】 量産に適した、コンタミの少ない、組成制御された、ち密で、欠陥、粒界の極めて少ない、深さ方向に構造制御された、良好な絶縁特性を持つ絶縁膜の提供。
【解決手段】 Ｏ、Ｎ及びＦから選ばれた少なくとも１種を含む気体状分子を該基板表面に供給し、吸着させた後排気する第１の工程の後に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔａ、又はＴｉを含む気体状分子を基板表面に供給し、吸着させた後排気する第２の工程を行い、その後にＡｒを導入した後排気する第３の工程を行い、前記第１〜第３の工程を１つのサイクルとして、このサイクルを複数回行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルの輝度を放電ガス中の希ガスの濃度を変えることなく低下させない技術を提供する。
【解決手段】前面板２０と背面板１０とが封止部材５を介して封着されたプラズマディスプレイの製造方法であって、前面板２０と背面板１０との位置合わせを窒素雰囲気、又は真空雰囲気のどちらか一方の雰囲気で行った後に、封着された前面板２０と背面板１０との間の空間を全圧が４０ｋＰａ以上８０ｋＰａ以下の放電ガス雰囲気であり、かつ分圧が０．０７Ｐａ以上０．３Ｐａ以下の窒素ガス雰囲気にする放電ガス雰囲気形成工程とを有するプラズマディスプレイの製造方法である。この製造方法に基づく実験により窒素ガスの分圧が０．０７Ｐａ以上０．３Ｐａ以下の範囲では、窒素を導入しない場合と比較してプラズマディスプレイの輝度が高くなることを確認した。 （もっと読む）