説明

株式会社アルバックにより出願された特許

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【課題】
基板の搬送方向の直進性に優れた基板搬送装置を提供する。
【解決手段】
基板搬送装置1は、補助回動ギア32と回動プーリ31とを連結するリンク部材33を備え、リンク部材33はリンク部材33の連結長(貫通孔33Aの中心P−貫通孔33Bの中心Qの間の長さ)を調整するためのリンク長さ調整部34とを備えている。このため、各部材の機械加工精度に依存して組立誤差が生じても、リンク部材33の長さ(連結長)を調整部34により調整して、補助回動ギア32の中心Oと回動プーリ31の中心Rとの間の長さと、連結長とを同じに調整できる。従って、リンク部材33により、回動プーリ31と補助回動ギア32との回動量つまり回動プーリ31と回動ギア30の回動量を一致させて、基板の搬送方向の直進性を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】ヒーターの絶縁支持構造の信頼性を向上させることができる熱処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の一実施の形態に係る熱処理装置1は、発熱体(ヒーター板H4)を支持する支持機構S4において、発熱体を支持する支持部材402が金属材料で構成されている。このため、発熱体が炭素系材料のような材料で構成されている場合でも、発熱体と第2の部材との間の熱反応による当該第2の部材の変質あるいは融解を防止できる。また、支持部材402は電気絶縁性の絶縁部材403を介して金属製の支持軸401に支持されているため、発熱体の絶縁耐圧を安定に確保することができる。 (もっと読む)


【課題】有効成膜領域および装置サイズを変更することなく、ターゲットの使用効率および寿命の改善を図る。
【解決手段】表面上にターゲットを配置するバッキングプレートの裏面側に、磁石構成体10を揺動可能に配設してカソード電極とし、磁石構成体10は、一定幅W1の棒状の中心磁石2と、中心磁石2を囲むように配置された一定幅W2の略楕円形状の周囲磁石3と、両磁石によってターゲット表面に生じる磁界を局部的に弱くするシャント4とを有し、シャント4は、中心磁石2をその長さ方向に周囲磁石3まで延ばしたと仮想した場合に占有する領域FE0内に埋め込み配置されている。 (もっと読む)


【課題】発熱体の給電端子との接続部における熱ロスを低減することができるヒーターユニット及び熱処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の一実施の形態に係るヒーターユニットHUaは、発熱体Haと、給電端子20と、中間体40とを具備する。給電端子20は、金属材料でなり、発熱体Haへ電力を供給する。中間体40は、炭素系材料でなり、発熱体Haと給電端子20との間に接続されている。中間体40は、発熱体Haと給電端子20との間を断熱する機能を有する。このため、給電端子20が冷却操作されているような場合においても、発熱体Haの熱ロスを抑制することが可能となる。したがって、上記ヒーターユニットHUaによれば、発熱体Haの給電端子20との接続部における温度低下を防止して、均熱性の向上を図ることが可能となる。 (もっと読む)


【課題】膜厚が均一で付着強度の高いアナターゼ型酸化チタン薄膜を提供する。
【解決手段】成膜対象物11表面にスパッタリングによりルチル型酸化チタン薄膜12’を形成し、この表面にレーザー光線88を照射すると、ルチル型酸化チタン薄膜12’はルチル型からアナターゼ型に変換されるので、光触媒活性の高い、アナターゼ型酸化チタン薄膜13を得ることができる。また、反射手段85と配置手段52を移動させ、ルチル型酸化チタン薄膜12’表面のレーザー光線88の照射位置を移動させると、ルチル型酸化チタン薄膜12’全体をアナターゼ型に変換することができる。 (もっと読む)


【課題】吐出不良が生じない吐出装置を提供する。
【解決手段】タンク5内に複数の吐出機構を設けた回転体2を配置し、タンク5の底面に吐出先端部20を配置し、天井に押圧装置25を配置し、回転体2を回転させたときに、押圧装置25により、吐出先端部20上に位置する吐出機構から吐出液を吐出先端部20に供給し、吐出孔20bから吐出させる。吐出先端部20上から吐出機構9が移動すると、その吐出機構の貫通孔111〜113の内部に、底面14間の吐出液が吸引される。回転体2が一回転する間、吐出機構の数だけ吐出することができる。 (もっと読む)


【課題】簡素な構成で旋回半径を小さくすることができ、しかも搬送速度が大きい搬送装置を提供する。
【解決手段】本発明の搬送装置1は、一方の端部A、Bに第1及び第2の駆動軸11、12が同心状に配設された第1及び第2のアーム21、22を有する。第1及び第2のアーム21、22の他方の端部C、Dには、第3及び第4のアーム23、24の一方の端部E、Fが、支軸23a、24aを中心としてそれぞれ回転自在に取り付けられている。第3及び第4のアーム23、24は、その他方の端部G、Hが、連結軸30aを中心として同心的に回転できるように構成されている。第2のアーム22の駆動軸12の回転動力を第3のアーム23に伝達するための第1の動力伝達機構4と、第1のアーム21の一方の端部Cにおける回転動力を連結軸30aに伝達するための第2の動力伝達機構5が設けられている。 (もっと読む)


【課題】イオン注入を阻害するマスクで覆われている箇所と他の箇所との境界でのイオン注入量の分布において高い急峻さが得られる膜製造方法と、その膜製造方法を利用して磁性材料の膜が形成された磁気記憶媒体と、そのような磁気記憶媒体が搭載された情報記憶装置とを提供する。
【解決手段】磁気ディスク10を製造する磁気ディスク製造方法において、ガラス基板61上に磁性層62を形成する製膜工程(A)と、磁性層62上に、磁性ドットとなる箇所へのイオンの注入を阻害する、厚みが縁でステップ状に減少するレジストドット63aを形成するナノインプリント工程(B)と、レジスト63が形成された磁性層61の上からイオンを注入するイオン注入工程(C)とを実行する。 (もっと読む)


【課題】 複数の透明基材に対して、連続して蒸着が行われる防護層への不純物の混入を抑え、膜質の優れた防護層を提供する。
【解決手段】 成膜室内において、無機材料により構成される密着層を備えた透明基材に対してフッ素系樹脂により構成される防護層を蒸着するための方法であって、前記透明基材と前記蒸着源との間に前記防護層の蒸着量を制御するための蒸着量制御手段を設け、前記蒸着量制御手段を閉じた状態で前記蒸着量制御手段を前記フッ素系樹脂の沸点以上の温度まで加熱した後、前記防護層を蒸着する工程を複数の前記透明基材に対して繰り返し行い、複数の前記透明基材に連続して前記防護層を蒸着することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板を所定の載置位置に高精度に位置決めする事が可能なキャリア、およびこれを備えた基板搬送装置を提供する。
【解決手段】位置決め手段31は、略L字状の支持部材32と、この支持部材32を回動させる付勢部材33とを備えている。支持部材32は、例えば、全体が樹脂によって形成された略L字型の部材である。この支持部材32は、回転軸34によってキャリアフレーム15に回動自在に軸着されている。また、支持部材32は、ガラス基板11の底辺11b、および側辺11cにそれぞれ当接する。こうした、支持部材32がガラス基板11に当接する部分は、円周面を成す形状、例えば、半円形のロール部32a、32bを形成しているのが好ましい。 (もっと読む)


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