【課題】検査対象試料のパターンの検査処理時間を軽減すると同時に高い検査感度を確保すること。
【解決手段】 検査対象試料２に形成された複数のダイ２２のパターンを検査するパターン検査装置において、検査対象試料２のストリーム画像を記憶するストリーム画像用メモリ装置３６と、ストリーム画像内の各ダイ２２のパターンを相互にＤＤ比較するＤＤ比較部５１と、を備える、パターン検査装置。 （もっと読む）

【課題】 検査対象物のパターンの特徴に応じたパターン比較を選択することにより、適切な検査を行うこと。
【解決手段】検査対象物の光学画像１００を取得する光学画像取得部１０と、検査対象物のパターンの特徴を示す特徴データ２０２に基づいて、検査対象物上の異なる位置の同一パターン１００を比較する複数種類の特徴比較部３１と、光学画像１００の同一パターンの比較において、検査対象のパターンの特徴データから特徴比較部３１の種類を選択する選択部４とを備えている、パターン検査装置。
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【目的】 参照画像と光学画像との高精度な位置合わせを行う方法および装置を提供することを目的とする。
【構成】 本発明の試料検査装置１００は、フォトマスク１０１の光学画像と参照画像との仮の合わせ位置から、残差２乗和が最小となる位置への位置ずれ量を演算するサブ画素単位ＳＳＤ演算回路３２０と、仮の合わせ位置からの最小二乗法による位置ずれ量を演算する最小二乗法位置ずれ演算回路３２２と、最小二乗法位置ずれ演算回路３２２により演算された位置ずれ量分ずらした位置における残差２乗和を演算する残差２乗和演算回路３２４と、サブ画素単位ＳＳＤ演算回路３２０により得られた最小の残差２乗和と残差２乗和演算回路３２４により得られた残差２乗和とのうち、いずれが小さいかを判定する判定回路３４０と、小さい方の残差２乗和が得られる位置に合わせ位置を補正する位置補正回路３５０とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 検査対象物のパターンの検査における参照画像の作成をパターンの特徴に応じて適切に行うこと。
【解決手段】 検査対象物の光学画像１００を取得する光学画像取得部１０と、検査対象物の画像のパターンの特徴に基づく特徴データ２０２を用いて、光学画像１００と検査対象物の設計データ２０１とから変換パラメータ２０４を求める変換パラメータ決定部２０３と、変換パラメータ２０４と設計データ２０１を演算処理して参照画像２００を作成する参照画像作成部２０と、を備えている、参照画像作成装置。
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【目的】 図形データが格納された設計パターンデータからビットパターンを効率よく発生させるパターン検査方法および装置を提供することを目的とする。
【構成】 描画データを順次記憶する近傍図形キャッシュバッファメモリ２０６と、描画データをビットパターンデータに変換するパターンジェネレータ２０８と、パターンメモリ２１０と、近傍図形キャッシュバッファメモリ２０６に記憶されている描画データの中から反復する複数の図形データを検出する反復パターン検出器２１２と、反復する複数の図形データの内、１つのビットパターンデータを記憶するテンプレートバンク２１４とを備え、描画データの中からテンプレートバンク２１４に記憶されたビットパターンデータに対応する図形データを検出して図形パターンをパターンジェネレータ２０８で変換する代わりに、テンプレートバンク２１４から読み出して前記パターンメモリ２１０に書き込むことを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】 適正な精度で試料検査を行う方法および装置を提供することを目的とする。
【構成】 本発明の試料検査装置の支援装置３００は、被検査試料の所定の領域を示す領域データを入力して領域画像データに変換するデータ変換処理回路３０４と、パターンが形成された前記被検査試料の光学画像データと所定の参照画像データとを比較してパターン欠陥検査を行なう外部の試料検査装置１００の検査速度に合わせて、前記領域画像データを分配して前記試料検査装置１００に出力するデータ分配処理回路３０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】 適正な精度で試料検査を行う方法および装置を提供することを目的とする。
【構成】 パターン形成された被検査試料の光学画像データを取得する光学画像取得部１５０と、前記被検査試料のパターン形成の基となる設計パターンに基づいて設計画像データを生成する展開回路１１１と、前記光学画像データと前記設計画像データとの比較を行なう比較回路１０８と、を備え、比較回路１０８において、所定の領域を示す、前記設計パターンの情報と同一フォーマットに作成された領域パターンの情報に基づいて生成される領域画像データを入力し、前記光学画像データと前記設計画像データとの比較を行なう場合に、前記領域画像データに基づいて判定条件を変更することを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】 付加情報を用いたパターン検査を行う方法および装置を提供することを目的とする。
【構成】 フォトマスク１０１の光学画像と参照画像とを比較検査する試料検査方法において、前記検査領域中に予め設定された１つ以上の領域を示す領域データ（付加情報）を入力する領域データ入力工程（２２２）と、画素領域ごとに含まれている領域種別を判定する判定工程（Ｓ２２４）と、領域種別ごとにそれぞれ予め設定された占有率を、含まれる画素ごとに加算する加算工程（Ｓ２２６）と、合計値に基づくデータをｎビットデータに変換する展開工程（Ｓ２３０）と、変換された前記ｎビットデータに基づいて、前記参照画像と前記光学画像とを比較する比較工程（Ｓ２４０）と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】 擬似欠陥を低減させる試料検査を行う方法および装置を提供することを目的とする。
【構成】 パターン形成された被検査試料の測定データを取得する光学画像取得部１５０と、前記被検査試料のパターン形成の基となる第１の設計パターンに基づいて第１の設計画像データを生成する展開回路１１１と、測定データと前記第１の設計画像データとの比較を行なう比較回路１０８と、を備え、比較回路１０８において、さらに、第２の設計パターンに基づいて生成される第２の設計画像データを入力し、前記第１の設計画像データの代わりに前記第２の設計画像データと測定データとの比較を行なうことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 各種の描画装置用パターンデータに対して対応性が高いターン検査を行えるようにすること。
【解決手段】 パターン検査装置において、被検査パターンの特定形式データから、少なくとも図形の形状を表す図形コード、図形の寸法、及び図形の配置位置を含む共通形式データに展開する特定展開処理手段１０と、特定展開処理手段で展開した共通形式データから参照パターンデータに展開する共通展開処理手段１１と、を備え、特定展開処理手段１０は、特定形式毎に専用の処理ルーチンを有し、複数形式の特定形式データから共通形式データに展開する、パターン検査装置、その方法、及び被検査物。
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