【課題】外乱を防止する画像採取装置、及び試料検査装置を提供することにある。特に、宇宙線などの放射線を遮断する画像採取装置、及び試料検査装置を提供すること。
【解決手段】パターンを有する試料に照射する光源と、光源から試料に照射した光を受光して、パターン画像を採取するセンサと、センサ前方に配置され、光路を曲げる光路変更体と、光路を包囲し、センサに入射する放射線を遮蔽する遮蔽体と、を備える、画像採取装置、及び試料検査装置。 （もっと読む）

【課題】分割型波長板の分割数を増やすことなく、光束内の多くのエリアで独立に偏光状態を制御すること。
【解決手段】直線偏光の光線を発生する直線偏光発生装置と、光軸の前後に配置され、直交する２本の境界線によって４つの領域に分割された４分割型１／２波長板の一対と、を備え、直線偏光の光線を一対の４分割型１／２波長板を通過させることにより、８つのエリアに分割し、各エリアの偏光状態を円周状又は放射状に変更する、偏光制御装置、又は、１本の境界線によって２つの領域に分割された２分割型１／２波長板の一対と、を備え、直線偏光の光線を一対の２分割型１／２波長板を通過させることにより、４つのエリアに分割し、各エリアの偏光状態を円周状又は放射状に変更する、偏光制御装置。 （もっと読む）

【課題】一時的に発生する測定画像の偽像を排除できるパターン検査を行うこと。
【解決手段】試料のパターンを測定して測定画像を生成する測定画像生成部と、測定画像の隣接する画素の差分値を求める測定画像画素差算出部と、測定画像と基準画像とを比較する比較部と、を備え、測定画像の隣接する画素の差分値が所定値を超える場合、該画素を含む領域のパターンの測定を再度行う、試料検査装置、又は、試料のパターンを測定して測定画像を生成する測定画像生成部と、測定画像と基準画像の差画像を求め、差画像の隣接する画素の差分値を求める差画像画素差算出部と、測定画像と基準画像とを比較する比較部と、を備え、差画像の隣接する画素の差分値が所定値を超えた場合、該画素を含む領域のパターンの測定を再度行う、試料検査装置。 （もっと読む）

【目的】検査対象試料の被検査パターン画像を適切に検査するために、検査基準パターンの画像を適切に補正した補正画像を生成する装置及びその方法を提供する。
【構成】パターン検査用の補正パターン画像生成装置であって、アシストパターン画像と、被検査パターン画像とを合成してアシストパターン付き被検査パターン画像を生成する第１のパターン合成部と、アシストパターンシフト処理部と、シフトさせたアシストパターン画像と検査基準パターン画像とを合成してアシストパターン付き検査基準パターン画像を生成する第２のパターン合成部と、アシストパターン付き被検査パターン画像と、アシストパターン付き検査基準パターン画像を用いて位置シフトモデルを生成するモデル生成部と、検査基準パターン画像の補正を行う補正パターン画像演算部とを備えたことを特徴とする補正パターン画像生成装置。 （もっと読む）

【課題】より振動に強い信頼性の高いパタン検査装置を提供する。
【解決手段】パタン検査装置２００は、１０６４ｎｍの波長を有する基本波（１）を発生する基本波光源（１）３１０と、１５６２ｎｍの波長を有する基本波（２）を発生する基本波光源（２）３２０と、基本波（１）と基本波（２）とに基づいて、波長が１９８ｎｍの深紫外光を発生させる波長変化部３３０と、基本波（１）用の光ファイバー３４２と、基本波（２）用の光ファイバー３４４と、波長変化部３３０を搭載し、波長変化部３３０により発生した深紫外光を照明光として被検査試料のパタンを検査するパタン検査部１００と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】位置合わせミスによる擬似欠陥の発生を抑制し、効率の良い検査を行うこと。
【解決手段】試料のパターンを測定して測定画像を生成する測定画像生成部と、測定画像と基準画像とを比較して差異が閾値を超えたら欠陥と判定する比較部とを備える、試料検査装置において、測定画像と基準画像の一定エリアのエリア画像を切り出し、エリア画像同士の位置ずれ量を測定し、エリア画像同士の位置ずれ量の信頼度を示す信頼度情報を求める位置ずれ測定部と、信頼度情報と位置ずれ量を利用してエリア画像同士の位置合わせを行う位置合わせ部と、を備える試料検査装置。 （もっと読む）

【目的】 レーザ光源に使用される非線形結晶の損傷を、精度よくモニタし、レーザ光を安定に供給するレーザ光源の運用方法を提供することを目的とする。
【構成】 波長変換素子である非線形結晶と、非線形結晶を一定温度に保つヒーターを有する波長変換装置を備えるレーザ光源運用方法であって、ヒーターへの供給電力を測定するステップ、予め決定された結晶が損傷を受けたと判断する供給電力の閾値と、測定により得られた測定値を比較することにより、非線形結晶の損傷状態を判断するステップとを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】一部の領域に差異が発生する場合にも高精度の画像欠陥判定を可能とする画像欠陥検査装置および画像欠陥検査方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ある被検査物から光電変換された画像信号と参照画像を比較検査するパターンの欠陥検査方法において、前記参照画像を補正して第１の補正画像を得る第１の画像補正ステップＳ４１と、前記画像信号と前記第１の補正画像を用いて欠陥を検出し欠陥座標を求める第１の欠陥検出ステップＳ４２と、前記画像信号と前記第１の補正画像と前記欠陥座標から重み画像を得る重み画像算出ステップＳ４３と、前記画像信号と前記第１の補正画像と前記重み画像を用いて第１の補正画像を再補正して第２の補正画像を得る第２の画像補正ステップＳ４４と、前記画像信号と前記第２の補正画像を用いて欠陥を検出する第２の欠陥検出ステップＳ４５を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被測定試料のパターン検査を高速に実行できるパターン検査装置を提供すること。
【解決手段】被測定試料のパターンに対応した測定データを生成する測定データ生成部と、被測定試料の設計データに基づいてイメージデータを生成し、イメージデータ上の図形の有無を検出するイメージデータ生成部と、イメージデータ上の図形の有無の情報を格納する図形有無情報格納部と、測定データとイメージデータを比較する比較処理部と、を備える、パターン検査装置。 （もっと読む）

【目的】擬似欠陥を低減させるパターン検査を行う装置および方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のパターン検査装置１００は、パターン形成された被検査試料における光学画像データを取得する光学画像取得部１５０と、前記光学画像データと前記光学画像データに対応する参照画像データとを入力し、前記光学画像データの複数の画素値と前記参照画像データの複数の画素値との関係を基に、前記光学画像データの画素値レベルと前記参照画像データの画素値レベルとの少なくとも一方を調整するレベル調整回路１４０と、画素値レベルが調整された前記光学画像データと前記参照画像データとを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）