説明

アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社により出願された特許

61 - 70 / 105


【課題】検査対象試料のパターンの高コントラスト光学画像を得ること。
【解決手段】検査対象試料を載置する載置部と、載置部に載置された検査対象試料に光を照射する光照射部と、検査対象試料に照射する照射光の光量を増減する光量調整部と、検査対象試料に照射された照射光を受光する光学画像受光部と、を備え、検査対象試料の特定パターンに対して照射光の光量を増減する、光学画像取得装置。 (もっと読む)


【課題】検査対象試料から取得した二次元光学画像の無効エリアを低減し、重複する撮像動作を減らし、欠陥検出時間を短縮すること。
【解決手段】検査対象試料を載置する載置部と、載置部に載置された検査対象試料に光を照射する光照射部と、照射光を走査幅でもって検査対象試料に対して相対的にX軸方向に走査する駆動装置と、照射光を走査幅でもって検査対象試料に対して相対的にX軸方向に走査する際、検査対象試料のパターンの二次元光学画像を受光する光学画像受光部と、画像をX軸方向に短冊状に複数に分割する分割処理部と、二次元光学画像のY軸方向の位置ずれを補正する補正処理部と、短冊状に分割された二次元光学画像と基準画像とを比較する比較処理部と、を備え、二次元光学画像をX軸方向に短冊状に分割する前にY軸方向の位置ずれを補正する、パターン検査装置。 (もっと読む)


【課題】検査対象試料の画像の転写・現像シミュレーション処理の過程で生じる一時的な強調部分を見出すこと。
【解決手段】検査対象試料の画像から取得した取得画像のパターンを記憶する取得画像記憶部と、取得画像のパターンを転写・現像シミュレーション処理を行う転写・現像シミュレーション部と、取得画像のパターンの転写・現像シミュレーション処理の途中のシミュレーション途中画像のパターンを記憶するシミュレーション画像記憶部と、該取得画像のシミュレーション途中画像のパターンを被検査パターンとし、比較対象のパターンを基準検査パターンとし、被検査パターンと基準検査パターンを比較処理する比較処理部と、を備えている、パターン検査装置。 (もっと読む)


【課題】検査対象試料の画像の劣化を検査する、パターン検査装置、パターン検査方法、それにより得られた検査対象試料、又は、検査対象試料の管理方法を得ること。
【解決手段】検査対象試料の光学画像を取得する光学画像取得部と、検査対象試料の光学画像を基準画像として記憶する基準画像用メモリ装置と、基準画像の取得後に検査対象試料の光学画像を光学画像取得部で取得して、該光学画像を被検査画像として記憶する被検査画像用メモリ装置と、基準画像と被検査画像とを比較する比較処理部と、を備え、基準画像用メモリ装置から読み出した検査対象試料の基準画像と被検査画像用メモリ装置から読み出した該検査対象試料の被検査画像とを比較する、パターン検査装置。 (もっと読む)


【目的】検査処理時間を短縮させる基板検査装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の基板検査装置100は、基板101を検査する基板検査装置100において、水平方向に移動するXYステージ121と、前記XYステージ121上に配置され、上下方向と回転方向に移動するZ・θステージ122と、基板101の検査面の高さ位置が、Z・θステージ122の重心高さ位置に配置されるように基板101を保持する保持具102と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】より高精度な検査面の位置を保つ基板検査装置を提供する。
【解決手段】基板101を検査する基板検査装置において、水平方向に移動するXYステージ121と、XYステージ121上に配置され、上下方向に移動するZステージ103と、Zステージ103を3箇所で上下方向に移動させる圧電素子を有する3つのアクチュエータ機構107a、107b、107c、およびZステージ103を支持する弾性ヒンジ108を備えた。また、Zステージ103上には基板101の中心を仮想中心軸として回転方向に移動するθステージ106が配置され、直線方向に移動するロッド308と、ロッド308に接続され弾性変形しながらθステージ106を回転させる弾性部材113とを備える。 (もっと読む)


【目的】 光学系を簡素化した上で、受光素子の感度ドリフトあるいは直線性を補正することを目的とする。
【構成】 入射する信号光に対し、回転しながら所定の周期で前記信号光を遮断する光チョッパ盤2と、前記光チョッパ盤2により前記信号光が遮断されている期間に、前記信号光とは異なる基準光を照射する基準光源6と、前記信号光と前記基準光とを受光し、前記信号光の光量と前記基準光の光量とを測定する受光素子5と、前記基準光の光量に基づいて、前記信号光の光量を補正する補正演算回路13と、所定の基準値と前記所定の光の光量値との比較から補正値を算出する補正値算出回路12と、を備え、補正演算回路13は、前記補正値に基づいて前記信号光の光量を補正することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 検査対象物のパターンの特徴を利用して、光学画像と参照画像間のずれ、歪み、又はずれと歪みを適切に補正すること。
【解決手段】 検査対象物の光学画像100を取得する光学画像取得部10と、設計データ201から参照画像200を作成する参照画像作成部20と、補正モデルパラメータ203と参照画像200を演算処理して、参照画像を補正して補正済参照画像206を作成する画像補正部205と、検査対象物の画像のパターンの特徴に基づく特徴データ202を用いて、光学画像100と参照画像200間のずれ、歪み又はずれと歪みを補正する補正モデルパラメータ204を求める補正モデルパラメータ同定部203と、を備えている、画像補正装置。
(もっと読む)


【目的】 レーザ光源に使用される非線形結晶の損傷を、精度よくモニタし、レーザ光を安定に供給するレーザ光源の運用方法を提供することを目的とする。
【構成】 2波長のレーザ光を非線形結晶に入力して和周波の波長を出力する波長変換装置を備えるレーザ光源の運用方法であって、入力される2波長のレーザ光のうち、一方の波長のレーザ光のみを非線形結晶に入力するステップと、和周波の波長の出力光の光軸上に設置された受光センサにより、一方の波長のレーザ光の散乱光の強度を測定するステップと、受光センサでの強度測定により得られた測定値に基づき、非線形結晶の損傷状態を判断するステップとを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【目的】 アライメント時間を短縮することができる、マスク検査装置におけるアライメント方法を提供することを目的とする。
【構成】 アライメントマークの画像データと、測長されたステージ位置の座標データを関連付けて蓄積し、アライメントマークの取得画像から、前記アライメントマークの取得画像上の傾きを算出し、アライメントマークの取得画像と関連付けられた前記ステージ位置の座標データから、ステージ走行方向のステージ座標軸との傾きを算出し、算出されたアライメントマークの取得画像上の傾きと、前記算出されたステージ走行方向のステージ座標軸との傾きから、実際の前記マスクと前記ステージ座標軸との傾きを算出して、1箇所のアライメントマークの取得画像についてのみ算出された、マスクとステージ座標軸との傾きから、マスクの回転補正をすることを特徴とするマスク検査装置におけるアライメント方法。 (もっと読む)


61 - 70 / 105