【課題】被検査試料のパターン検査の精度を高めること。
【解決手段】被検査試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得部と、光学画像を参照画像により補正処理を含むアライメント処理するアライメント処理部と、アライメント処理部で処理された異なった光学画像同士を比較処理する比較処理部と、を備える、パターン検査装置。 （もっと読む）

【目的】パターンへの追従性を向上させながらフォーカスボケを起こさないで光学画像を取得する手法を提供することを目的とする。
【構成】パターンの設計形状データと前記パターンの膜厚情報とを入力し、前記パターンの設計形状データと前記パターンの膜厚情報とに基づいて、所定の領域の平均膜厚を演算する平均膜厚演算回路２５０と、前記パターンの設計形状データと前記パターンの膜厚情報とに基づいて作成されたマスクパターンを用いて、前記所定の領域に対応するマスクパターンの領域の光学画像を取得する場合に、前記平均膜厚に合焦位置を合わせて光学画像を取得する光学画像取得部１５０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】周波数領域で分割された画像を用いて、アライメントと画像補正を統合化した、画像劣化が少なく、設定パラメータも少ない、効果的な画像補正に基づく画像検査装置を提供する。
【解決手段】検査基準画像と被検査画像を比較検査する画像検査装置において、検査基準画像と被検査画像に対して複数の周波数領域に分割した周波数分割画像を作成する画像分割部と、各周波数分割画像について、検査基準画像と被検査画像の２次元線形予測モデルを用いてモデルパラメータを同定するモデルパラメータ同定部と、同定されたモデルパラメータに基づいて、モデル画像を生成するモデル画像生成部と、各周波数分割画像について、モデル画像と被検査画像を比較検査する比較処理部と、を備える、画像検査装置。 （もっと読む）

【課題】周波数領域で分割された画像と基準点の個数分の分解画像を用いて、画像を補正する。
【解決手段】検査基準画像に対して複数の周波数領域に分割して複数の周波数分割画像を作成する画像分割部と、少なくとも１つの周波数分割画像内の離間した複数箇所に基準点を設け、各基準点を基準に周波数分割画像に重みを付与して、基準点の個数分の分解画像を生成する分解画像生成部と、被検査画像、基準点の個数分の分解画像、及び分解画像を生成しない周波数分割画像の２次元線形予測モデルを用いてモデルパラメータを同定するモデルパラメータ同定部と、同定されたパラメータを用いてモデル画像を生成するモデル画像生成部と、を備える、画像補正装置、画像検査装置、及び画像補正方法。 （もっと読む）

【目的】参照画像と光学画像との高精度な位置合わせを行う方法および装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の試料検査装置１００は、光学画像と参照画像との仮の合わせ位置からの位置ずれ量を演算する最小二乗法による正規行列の複数の要素を演算する正規行列要素演算部３７０と、複数の要素の一部を用いて、パターンの種別を判定する次元判定部３８０と、パターンの種別に応じて正規行列から所定の要素を削除した正規行列を用いて、最小二乗法による位置ずれ量を演算する位置ずれ量演算部３９０と、位置ずれ量分ずらした位置に合わせ位置を補正する位置補正部３５０と、その位置で比較する比較部１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】参照画像と光学画像との高精度な位置合わせを行う方法および装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の試料検査装置１００は、光学画像と参照画像との仮の合わせ位置での各画素における画素値の差分の絶対値が閾値Δより小さいかどうかを判定する差分判定部３０８と、差分判定の結果に基づいて求められる最小二乗法による正規行列を用いて位置ずれ量を演算する最小二乗法位置ずれ演算回路３２２と、位置ずれ量分ずらした位置に光学画像と参照画像との合わせ位置を補正する位置補正回路３５０と、光学画像と参照画像とを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】コヒーレント光を使用した照明装置において、干渉を低減し、均一な照明光を得ること。
【解決手段】コヒーレント光の光束を反射により複数に分割する第１分割部と、分割された光束が通り、可干渉距離以上の光路差を有する複数の第１迂回光路と、少なくとも１つの第１迂回光路の一部に配置され、配置されない該第１迂回光路との間で可干渉距離以上の光路差を生じさせる光路差形成材と、第１迂回光路を通過してきた複数の光束を一体にする第１合成部と、を備え、一体になった光束を照明対象物に照射する、照明装置。 （もっと読む）

【課題】検査対象試料のパターンのローカルＣＤエラーを簡単に検出する。
【解決手段】パターン検査装置は、検査対象試料内の特定パターンの周辺にあり特定パターンと類似する複数の類似周辺パターンを求める類似周辺パターン探査部１４と、特定パターンと類似周辺パターンとの非類似度を求める非類似度算出部２０と、非類似度から許容誤差を除いて、ローカルＣＤエラー判定値を求めるばらつき評価部２２と、ローカルＣＤエラー判定値が特定パターンと類似周辺パターン間の距離が増大した時に、しきい値を超えるとローカルＣＤエラーと判定するローカルＣＤエラー判定部２４とを備える。 （もっと読む）

【課題】レーザ光を用いたパターン投影装置又はパターン検査装置において、干渉縞の発生を低減すること。
【解決手段】レーザ光を発生するレーザ発生装置と、パターンを有するマスクと、レーザ発生装置とマスクの間に配置され、レーザ光をマスク上に照射し、パターンを対象物に投影する光学系と、光学系内に配置される回転位相板と、回転位相板を回転する駆動装置と、回転位相板と光学系間の振動伝播を阻止する緩衝材と、を備えている、パターン投影装置、及び、パターン検査装置。 （もっと読む）

【課題】光学画像受光部の受光面上に照射されたパターン像の焦点合わせを容易にすること。
【解決手段】検査対象試料を載置する載置部と、載置部に載置された検査対象試料に照射光を照射する光照射部と、検査対象試料に照射された照射光を受光する光学画像受光部と、検査対象試料のパターン像の焦点を光学画像受光部に合わせる焦点調整装置と、検査対象試料上にスリット像を形成するスリット像形成装置と、検査対象試料上のスリット像を表示する観察用表示装置と、を備え、観察用表示装置で表示される検査対象試料上のスリット像から、光学画像受光部における検査対象試料のパターン像の焦点を調整する、光学画像取得装置。 （もっと読む）