【目的】コヒレント光源ごとのビーム質経時劣化のばらつきに影響されることなく、複数のコヒレント光源の実質的なビーム結合を可能にし、十分な光量の照明光を得ることを目的とする。
【構成】本発明の照明装置２００は、複数のコヒレント光の各コヒレント光を発生する複数のコヒレント光源２０２，２０４と、反射面が移動自在に配置され、各コヒレント光を反射する複数の凹面鏡２３２，２３４と、複数の凹面鏡２３２，２３４により反射された複数のコヒレント光を同一面で反射する凸面鏡２４０と、凸面鏡２４０により反射された複数のコヒレント光を同軸方向に導くコリメートレンズ２４２と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】少ない部品点数で構成されるため調整が容易で、被照射面における照度および照度均一性の高い、遠紫外線光源を用いる照明光学装置および試料検査装置を提供することを目的とする。
【構成】遠紫外線が出射される遠紫外線光源と、遠紫外線が入射され、第１の複数の光束に分割して出射する、円柱軸が直交した構成でシリンドリカルレンズアレイを両面に有する第１の両面シリンドリカルレンズと、第１の両面シリンドリカルレンズから出射される第１の複数の光束が入射され、第１の複数の光束の方向を揃えて第２の複数の光束として出射する、円柱軸が直交した構成でシリンドリカルレンズアレイを両面に有する第２の両面シリンドリカルレンズと、第２の複数の光束が入射され、第２の複数の光束を重ね合わせるコンデンサレンズとを具備することを特徴とする照明光学装置および試料検査装置。 （もっと読む）

【目的】レチクル厚のばらつきによる透過照明光の焦点ズレを容易に補正することにより、検出感度の高い欠陥検査を行うことが可能なレチクル欠陥検査装置およびレチクル欠陥検査方法を提供する。
【構成】パターンが形成された被測定試料に光を照射して得られるパターン画像を用いて被測定試料上の欠陥を検査するレチクル欠陥検査装置であって、被測定試料の一方の面に第１の検査光を照射する透過照明光学系と、被測定試料の他方の面に第２の検査光を照射する反射照明光学系と、第１の検査光の被測定試料への照射による透過光と、第２の検査光の被測定試料への照射による反射光とを同時に検出可能な検出光学系を有し、透過照明光学系が、被測定試料の厚さに起因する透過光の焦点ズレを補正する、焦点合わせ用レンズ駆動機構を備えることを特徴とするレチクル欠陥検査装置およびこれによるレチクル欠陥検査方法 （もっと読む）

【目的】クロストークによる偽像を補正するパターン検査を行う装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のパターン検査装置１００は、パターン形成されたフォトマスク１０１の光学画像中の複数の画素情報を同時期に検出する複数のフォトダイオードを有するラインセンサ１０５と、同時期に検出された複数の画素情報の各画素情報から複数の画素情報のその他の画素情報に基づく補正量を減ずる補正を行なう偽像補正部３４０と、補正された各画素情報と所定の参照画素情報とを比較する比較部３６０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】反射率分布の影響による誤差や回折光の影響による誤差を低減させることを目的とする。
【構成】本発明の一態様の高さ検出装置１００は、照明光１０４を通過させる長方形の第１の開口部が形成された照明スリット２１０と、照明スリット２１０を通過した照明光を対象物１０１面に照明し、対象物１０１面からの反射光を結像する光学系２００〜２２２と、結像点の前後に設置され、長方形の短手方向が照明スリット像の短手方向より短く、長手方向が前記照明スリット像の長手方向より長くなるように第２の開口部が形成された検出スリット２３０，２４０と、検出スリット２３０，２４０を通過した反射光の光量をそれぞれ検出する光量センサ２５２，２５４と、光量センサ２５２，２５４の出力に基づいて対象物１０１面の高さを演算する演算回路２６０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】よりパラメータ数を抑えた演算により高精度な位置合わせを行う検査装置を提供する。
【解決手段】一態様の試料検査装置は、パターンが形成された被検査試料の光学画像を取得する光学画像取得部１５０と、光学画像と比較する参照画像を作成する参照回路１１２と、光学画像と参照画像との画素単位で疎アライメントされた位置からの平行移動量と伸縮誤差係数と回転誤差係数と階調値の定数と像強度変動率とを各パラメータとしたモデル式を用いて、最小二乗法により前記各パラメータを演算する最小二乗法パラメータ演算部３７０と、各パラメータに基づいて、画素単位で疎アライメントされた位置からの位置ずれ量分参照画像の位置をずらした補正画像を生成する補正画像生成回路３９０と、補正画像と光学画像とを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被検査試料のパターンの欠陥を検出する機能を高めること。
【解決手段】被検査試料のパターンの測定パターンデータを取得する測定パターンデータと、被検査試料の設計データから測定パターンデータに対応した展開パターンデータを生成する展開パターンデータとを比較して被検査試料のパターンの欠陥を検出する。 （もっと読む）

【目的】検査対象試料の画像を適切に補正した補正画像を生成する装置を提供することを目的とする。
【構成】補正パターン画像生成部２００は、任意座標の画像データに対して、第１の予測モデルに基づく連立方程式を生成する手段２１０と、連立方程式における係数を演算する手段２１２と、係数のｘ方向成分要素和とｙ方向成分要素和を演算する手段２１７と、両画像の位置ずれ量から第２の予測モデルに基づく連立方程式のｘ方向成分係数とｙ方向成分係数とを演算する手段２１８と、第１の予測モデルに基づく一方の方向成分の要素和と第２の予測モデルに基づく逆方向成分の係数とを合成する手段２２０と、合成された合成係数を第１の予測モデルに基づく連立方程式の係数として用いて、任意座標の補正パターン画像データを演算する手段２２２とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高速な試料検査を提供すること。
【解決手段】被検査試料からの透過光、又は反射光を検出して測定パターンデータを取得する測定パターンデータ取得装置と、被検査試料の設計データから複数層の展開パターンデータを生成する展開パターンデータ生成装置と、透過光又は反射光の画素の領域が小さい方に相当する展開パターンデータを上層とし、複数の層の展開パターンデータの中の１つの層の画素を抽出して、測定パターンデータに対応した合成パターンデータを生成する合成パターンデータ生成装置と、合成パターンデータの画素が抽出された展開パターンデータの層を示す層識別データを生成する層識別データ生成装置と、合成パターンデータと層識別データから測定パターンデータに類似する基準パターンデータを生成する基準パターンデータ生成装置と、測定パターンデータと基準パターンデータとを比較する比較装置とを備え被検査試料を検査する試料検査装置。 （もっと読む）

【課題】空間コヒーレンシーの高い光源を用いたケーラー照明系を実現する上で好適な光学構成を提供すること。
【解決手段】マスクのパターンを検査するパターン検査装置において、レーザ光を発生するレーザ発生装置と、パターンを有するマスクと、レーザ発生装置とマスクの間の光路に配置され、レーザ光を拡大して平行光束の光路を形成するエキスパンダ光学系と、平行光束の光路に配置され、光路を２つの光路に分けるビームスプリッタ光学系と、一方の光路に配置され、マスクに透過光を照射する透過照明光学系と、他方の光路に配置され、マスクに反射光を照射する反射照明光学系と、マスクのパターン画像を受光する受光装置と、受光装置で受光したパターン画像と基準画像とを比較する比較部と、備える、パターン検査装置。 （もっと読む）