【課題】試料のパターンから特定パターンを透過画像と反射画像を用いて識別すること。
【解決手段】パターンを有する試料の透過画像と反射画像を同時に取得する光学画像取得部と、特定パターンの識別条件により透過画像と反射画像のパターン形状から特定パターンを識別する特定パターン識別部と、を備えているパターン識別装置、及び、パターンを有する試料の透過画像と反射画像の光学画像を同時に取得する光学画像取得部と、特定パターンの識別条件により透過画像と反射画像のパターン形状から特定パターンを識別する特定パターン識別部と、特定パターンを特定検査実行領域に設定する特定検査実行領域設定部と、特定検査実行領域において、光学画像取得部で取得した光学画像のパターン検査を行う比較判定部と、を備えている試料検査装置。 （もっと読む）

【課題】試料のパターンからアシストパターンを透過画像と反射画像を用いて識別すること。
【解決手段】パターンを有する試料の透過画像と反射画像を同時に取得する光学画像取得部と、アシストパターンの識別条件により透過画像と反射画像のパターン形状からアシストパターンを識別するアシストパターン識別部と、を備えているアシストパターン識別装置、及び、パターンを有する試料の透過画像と反射画像を同時に取得する光学画像取得部と、アシストパターンの識別条件により透過画像と反射画像のパターン形状からアシストパターンを識別するアシストパターン識別部と、アシストパターンをデセンス領域に設定するデセンス領域設定部と、デセンス領域において、パターンの比較検査を行う比較判定部と、を備えている試料検査装置。 （もっと読む）

【課題】光学画像受光部の受光面上に照射されたパターン像の焦点合わせを容易にすること。
【解決手段】検査対象試料を載置する載置部と、載置部に載置された検査対象試料に照射光を照射する光照射部と、検査対象試料に照射された照射光を受光する光学画像受光部と、検査対象試料のパターン像の焦点を光学画像受光部に合わせる焦点調整装置と、検査対象試料上にスリット像を形成するスリット像形成装置と、検査対象試料上のスリット像を表示する観察用表示装置と、を備え、観察用表示装置で表示される検査対象試料上のスリット像から、光学画像受光部における検査対象試料のパターン像の焦点を調整する、光学画像取得装置。 （もっと読む）

【目的】軽量、安価かつ高効率な環境放射線耐性を備えたマスク検査装置を提供する。
【構成】本発明のマスク検査装置は、マスクの欠陥を検査するマスク検査装置であって、光源と、この光源から射出される検査光をマスクに照射する照明光学系と、マスクに照射された検査光を光学像として結像させる拡大光学系と、光学像を取得するイメージセンサ１０を備えている。そして、イメージセンサ１０が、センサチップの少なくとも受光面の反対面側にタンタル（Ｔａ）以上の比重を有する重金属の環境放射線遮蔽部材が有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】孤立パターンの位置ずれ欠陥を検出可能なレチクル欠陥検査装置及びレチクル欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】検出部１３の位置合わせ手段１３ａにおいて、ＴＤＩセンサ１１ａ，１１ｂにより取得された光学画像と、参照画像生成部１５により生成された参照画像との位置合わせが、レチクル２の短冊状ストライプを細分化したフレーム毎に行われる。許容範囲算出手段１３ｃにおいて、１ストライプ分の位置合わせ量を１次回帰することにより、１ストライプ分の基準位置合わせ量が算出される。位置ずれ欠陥検出手段１３ｄにおいて、位置合わせ量が基準位置合わせ量と所定値以上相違するフレームのパターンが位置ずれ欠陥として検出される。 （もっと読む）

【目的】検査対象試料の被検査パターン画像を適切に検査するために、検査基準パターンの画像を適切に補正した補正画像を生成する装置及びその方法を提供する。
【構成】被検査パターン画像と検査基準パターン画像の位置合わせを行い、サブ画素単位の相対シフト量を算出し、検査基準パターン画像を、この相対シフト量に基づいて垂直または水平方向のいずれか一方のシフト方向にシフトさせ、第１の線形予測モデルを用い検査基準パターン画像を上記シフト方向と垂直方向に補正して第１の補正パターン画像を生成し、第２の線形予測モデルを用い第１の補正パターン画像を、上記シフト方向と同一方向に補正して、第２の補正パターン画像を生成する補正パターン画像生成装置および補正パターン画像生成方法。 （もっと読む）

【課題】分割型波長板の分割数を増やすことなく、光束内の多くのエリアで独立に偏光状態を制御すること。
【解決手段】直線偏光の光線を発生する直線偏光発生装置と、光軸の前後に配置され、直交する２本の境界線によって４つの領域に分割された４分割型１／２波長板の一対と、を備え、直線偏光の光線を一対の４分割型１／２波長板を通過させることにより、８つのエリアに分割し、各エリアの偏光状態を円周状又は放射状に変更する、偏光制御装置、又は、１本の境界線によって２つの領域に分割された２分割型１／２波長板の一対と、を備え、直線偏光の光線を一対の２分割型１／２波長板を通過させることにより、４つのエリアに分割し、各エリアの偏光状態を円周状又は放射状に変更する、偏光制御装置。 （もっと読む）

【目的】より実画像に近い参照画像を生成可能なパターン検査を行う装置を提供することを目的とする。
【構成】パターン検査装置１００は、サンプル光学画像データをＮ倍の解像度に変換する倍率変換部５０と、サンプル光学画像データのＮ倍の解像度で対応する階調値を定義した設計画像データと所定の低域ろ過関数とを畳み込み積分するＬＰＦ５４と、この設計画像データと所定の光学モデル関数とを畳み込み積分するＰＳＦ５６と、これらの画像データを用いて光学モデル関数の係数を取得する係数取得部１４２と、パターン形成された被検査試料の実光学画像データを取得する光学画像取得部１５０と、係数を用いて、前記被検査試料の実光学画像データに対応する参照画像データを作成する参照回路１１２と、実光学画像データと参照画像データを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】一時的に発生する測定画像の偽像を排除できるパターン検査を行うこと。
【解決手段】試料のパターンを測定して測定画像を生成する測定画像生成部と、測定画像と基準画像とを比較する比較部と、を備え、測定画像生成部は、２画素以上で構成されるラインセンサを２段以上用いた時間遅延積分センサを２個以上つなげた受光装置を有し、各時間遅延積分センサの画素について、異常な画素値を除いた画素値の平均値を測定画像とする、又は、基準値を超える画素値を異常な画素値として除いた画素値の平均値を測定画像とする、又は、画素値の平均値と所定値の和を基準値とし、基準値を超える画素値を異常な画素値として除いた画素値の平均値を測定画像とする、又は、画素値と、全ての時間遅延積分センサの画素値の平均値との差の絶対値が基準値を超える画素値を異常な画素値として除いた画素値の平均値を測定画像とする、試料検査装置。 （もっと読む）

【目的】参照画像生成モデルの精度をより向上させることが可能なパターン検査方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のパターン検査方法は、サンプル光学画像データと設計画像データを入力し、参照画像作成モデル関数の複数の係数を取得する工程（Ｓ１０２）と、複数の係数の１つを用いて作成された参照画像データと被検査試料の実光学画像データとを比較して、欠陥候補パターンを検出する工程（Ｓ１０８）と、欠陥候補パターンを含む参照画像データについて、残りの係数を用いて、作成された残りの係数分の参照画像データと欠陥候補パターンを含む実光学画像データとを比較する工程（Ｓ１１２）と、複数の係数分の各参照画像データと欠陥候補パターンを含む実光学画像データとの複数の比較結果のうち、所定の条件に沿った比較結果を出力する工程（Ｓ１２０）と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）