本発明は、次式を有するポリマーに関する。
【化１】


式中、Ｒ_３０、Ｒ_３１、Ｒ_３２、Ｒ_３３、Ｒ_４０、Ｒ_４１、Ｒ_４２、ｊｊ、ｋｋ、ｍｍ、及びｎｎは明細書に記載の通りである。これらの化合物は、フォトレジスト組成物の調製に有用である。
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本発明は、ケイ素に基づく反射防止膜／ハードマスク層を除去するための組成物及び方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、新規の底面反射防止膜組成物に関し、当該組成物から形成された層はエッチングプレート温度により制御できるエッチング速度を有する。 （もっと読む）

本発明は、式ＡｉＸｉＢｉの化合物に関する。式中、Ａｉ及びＢｉは、それぞれ独立して、有機オニウムカチオンであり； Ｘｉは式⁻Ｏ_３Ｓ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−ＳＯ_３⁻のアニオンである。これらの化合物は、光活性材料として有用である。
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本発明は、次式の化合物であって、
ＡｉＸｉ
ここで、Ａｉは有機オニウムカチオンであり；並びに、
ＸｉはＸ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−ＳＯ_３￣のアニオンである化合物に関する。
化合物は光活性化合物として使用できる。
ここで、Ａｉは、化学式（Ｉ）およびＹ−Ａｒから選択され、
ここで、Ａｒは化学式（ＩＩ）、ナフチル、または、アントリルから選択され；
Ｙは、化学式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）および（Ｖ）から選択される。

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【課題】
架橋可能なポリマー、高分子架橋剤および熱酸発生剤を含む吸収性反射防止コーティング組成物、ならびに反射防止コーティング組成物を使用して画像を形成する方法を提供する。
【解決手段】
(i) 熱酸発生剤;
(ii) 芳香族基を少なくとも１つ含む架橋可能なポリマー; および、
(iii) 構造 (6)の少なくとも１つの単位を含む高分子架橋剤、
【化１】


（式中、R₁₁〜R₁₃は、独立にH、(C₁- C₆)アルキルおよび芳香族基から選択し、ならびに、R₁₄およびR₁₅は、独立に(C₁-C₁₀)アルキルである）
を含む反射防止コーティング組成物。また、本発明の反射防止コーティング組成物を撮像する方法。 （もっと読む）

本出願は、次式を有する光活性材料に関する。
【化１】


式中、Ｃ１⁺は特定のカチオンであり； そしてＲ₃₀、Ｒ₃₁、Ｒ₃₂、Ｒ₃₃、Ｒ₃₄、Ｒ₃₅、Ｒ₃₆、Ｒ₃₇、Ｒ₃₈、Ｒ₃₉、Ｒ₄₀、及びＲ₄₁は、水素、アルキル、一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むかもしくは含まないアルキル鎖、ハライド、アリール、アラルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、ヒドロキシル、及びアルコキシから選択され、前記のアルキル、一つもしくはそれ以上のＯ原子を含むかもしくは含まないアルキル鎖、アリール、アラルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、及びアルコキシ基は、置換されいないかまたは置換されている。
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本発明は、ポリマー、架橋性化合物及び熱酸発生剤を含む、フォトレジスト用スピンオン反射防止膜組成物であって、上記ポリマーが、フォトレジストの像の形成に使用する露光放射線において１．８に等しいかまたはこれを超える値まで反射防止膜組成物の屈折率を高めることができる少なくとも一種の官能性部、及びフォトレジストの像の形成に使用する露光放射線を吸収することができる官能性部を含む、前記反射防止膜組成物に関する。本発明は更に、本発明の反射防止膜に像を形成する方法にも関する。
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本発明は、ポリマー、架橋剤及び酸発生剤を含む、フォトレジスト層用の反射防止膜組成物であって、前記ポリマーが、以下の構造１
【化１】


［式中、Ａは非芳香族連結部であり、
Ｒ'及びＲ''は、独立して、水素、Ｚ及びＷ−ＯＨから選択され、ここでＺは（Ｃ₁〜Ｃ₂₀）ヒドロカルビル部分であり、そしてＷは（Ｃ₁〜Ｃ₂₀）ヒドロカルビル連結部であり、そして
Ｙ'は、独立して（Ｃ₁〜Ｃ₂₀）ヒドロカルビル連結部である］
で表される少なくとも一種の単位を含む、前記反射防止膜組成物に関する。また、本発明は、該反射防止膜組成物を像形成する方法にも関する。
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（ａ） 共有結合、イオン結合及び水素結合からなる群から選択される一つまたはそれ以上の相互作用が可能な一種またはそれ以上の官能基を含むポリマー； 及び（ｂ） 加熱されると、共有結合、イオン結合及び水素結合からなる群から選択される一つまたはそれ以上の相互作用が可能な構成部分に解離する熱酸発生剤を含む、ガスの発生が減少した反射防止膜組成物が開示される。 （もっと読む）