本発明は、フォトレジスト用の下層を形成するための、酸発生剤及び新規シロキサンポリマーを含む新規反射防止膜組成物であって、前記シロキサンポリマーが、少なくとも一種の吸光性発色団及び次の構造（１）


［式中、ｍは０または１であり、Ｗ及びＷ’は、独立して、環状エーテルをポリマーのケイ素に連結する原子価結合または接続基であり、そしてＬは、水素、Ｗ’及びＷから選択されるか、あるいはＬ及びＷ’は、環状エーテルをポリマーのケイ素に連結する環状脂肪族連結基を一緒になって構成する］
で表される少なくとも一種の自己架橋性官能基を含む、前記反射防止膜組成物に関する。また本発明は、前記新規反射防止膜組成物の上にコーティングされたフォトレジストに像を形成する方法にも関し、良好なリソグラフィの結果を供する。更に本発明は、少なくとも一種の吸光性発色団及び構造（１）の少なくとも一種の自己架橋性官能基を含む、新規のシロキサンポリマーにも関する。
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低誘電率（low-k）材料の形成に並びにフォトリソグラフィ工業用の反射防止性を有するハードマスク材料の形成に有用な、薄膜熱硬化性樹脂を形成するのに使用できる高ケイ素含有樹脂組成物が開示される。 （もっと読む）

本発明はポリシラザン廃棄物材料の処理方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 フォトリソグラフィ用組成物に使用するのに好適な成膜性樹脂の提供。
【解決手段】 本発明は、フォトリソグラフィ用組成物に使用するのに適した成膜性樹脂の製造方法であって、溶剤中の成膜性樹脂の溶液を少なくとも二種のフィルターシートに通し、この際、一方のフィルターシートは、粒状強カチオン性もしくは弱カチオン性イオン交換樹脂を含み、他方のフィルターシートは、粒状強アニオン性もしくは弱アニオン性イオン交換樹脂を含むものであり、そして前記フィルターシートを、前記の溶液の調製に使用した溶剤ですすぎ、そして成膜性樹脂の溶液を、上記の第一のフィルターシート、次いで上記の第二のフィルターシートに通すことを含む方法を提供する。 （もっと読む）

本発明は、ａ）少なくとも一種のアルカリ可溶性ポリマー、但しこのポリマーは、次の構造（Ｉ）


［式中、Ｒ’は、独立して、水素、（Ｃ₁〜Ｃ₄）アルキル、塩素、臭素から選択され、そしてｍは１〜４の整数である］
で表される少なくとも一種の単位を含み； ｂ）次の構造（ＩＩ）


［式中、Ｗは、多価連結基であり、Ｒ₁〜Ｒ₆は、独立して、水素、ヒドロキシル、（Ｃ₁〜Ｃ₂₀）アルキル及び塩素から選択され、Ｘ₁及びＸ₂は、独立して、酸素またはＮ−Ｒ₇であり、この際、Ｒ₇は、水素または（Ｃ₁〜Ｃ₂₀）アルキルであり、そしてｎは１に等しいかまたは１よりも大きい整数である］
で表される少なくとも一種のモノマー、及びｃ）少なくとも一種の光開始剤を含む、ネガ型フォトレジスト組成物に関する。また本発明は、このネガ型フォトレジスト組成物に像を形成する方法にも関する。
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少なくとも一つのスルホニル基を含み、このスルホニル基に対してα位及び／またはβ位及び／またはγ位にある少なくとも一つの炭素原子がヒドロキシル基を有し、この際、このヒドロキシル基は保護されているかまたは保護されていない塩基可溶性ポリマーが開示される。 （もっと読む）

本発明は、新規の光酸発生剤に関する。 （もっと読む）

本発明は、水性アルカリ現像剤中に不溶性であるが、現像の前に可溶性になるポリマーと、放射線で露光した際に強酸を生成する光酸発生剤とを含み、更にこの際、前記ポリマーが露光波長に透過性である、フォトレジスト用アンダーコート用組成物に関する。本発明は、該アンダーコート用組成物に像を形成する方法にも関する。 （もっと読む）

ガス放出の低減のために反射防止膜中で有用な新規の自己架橋性ポリマーが提供される。 （もっと読む）

本発明は、底面反射防止膜用組成物、このような組成物の調製に有用なポリマー、及び反射性基材とフォトレジスト塗膜との間に薄い層を形成することによるイメージプロセッシングにこれらを使用することに関する。 （もっと読む）