二重フォトレジストパターンを形成するための方法が開示される。
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本発明は、ａ）有機ポリマー、ｂ）構造（１）の光塩基発生剤、場合により及びｃ）光酸発生剤を含む、新規の感光性組成物に関する。
（^＋Ａ_１⁻Ｏ_２Ｃ）−Ｂ−（ＣＯ_２^-Ａ_２^＋）_ｘ （１）
式中、Ａ_１^＋及びＡ_２^＋は独立してオニウムカチオンであり、ｘは１よりも大きいかまたは１に等しい整数であり、そしてＢは非フッ素化炭化水素要素である。該感光性組成物は、フォトレジスト組成物としてまたはアルカリ現像可能な反射防止下層コーティング組成物として使用し得る。 （もっと読む）

本発明は、（ｉ）構造（１）のポリマー主鎖中に３個以上の縮合芳香環を有する少なくとも１個の単位、（ｉｉ）構造（２）のポリマー主鎖中の少なくとも１個の芳香族環単位（ここで芳香族環は懸垂アルキレン（縮合芳香環）基および懸垂ヒドロキシ基を有する）、および（ｉｉｉ）構造（３）のポリマー主鎖中に脂肪族部分を有する少なくとも１個の単位を含むポリマーを含む、スピン・コーティング可能な有機マスク層および反射防止コーティング組成物に関し、式中、Ｆｒ_１は、３個以上の縮合芳香環を有する置換または非置換縮合芳香環部分であり、Ｆｒ_２は、２個以上の縮合芳香環を有する縮合芳香環部分であり、Ａｒは置換または非置換芳香環部分であり、Ｒ’およびＲ’’は独立に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルから選択され、ｙは１〜４であり、Ｂは、置換または非置換脂肪族であり、Ｒ_１は、水素または芳香族部分から選択される。本発明はさらに、本組成物をイメージングする方法に関する。
【化１】

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染料もしくは発色団要素及び架橋性官能基を有するポリマー、任意選択の架橋性成分、及び次式を有する一種またはそれ以上の光活性化合物を含む反射防止コーティング組成物。
Ｗ−（Ｌ−（Ｇ））_ｐ
式中、ＷはＰＡＧまたはＱであり、ここでＰＡＧは光酸発生体であり、そしてＱはクエンチャであり； 各Ｌは直接結合または連結基であり； 各Ｇは独立してＧ１またはＧ２であり； Ｇ１はＯＨであり； Ｇ２はＯＣＨ＝ＣＨ_２であり； ｐは１〜１２である。 （もっと読む）

本発明は、（ｉ）構造（１）のポリマー主鎖中に縮合芳香環を有する少なくとも１個の単位、（ｉｉ）構造（２）を有する少なくとも１個の単位、および（ｉｉｉ）構造（３）のポリマー主鎖中に環式脂肪族部分を有する少なくとも１個の単位を含むポリマーを含むスピン・コーティング可能な有機反射防止コーティング組成物に関する（式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩ）。（Ｉ）（ＩＩ）（ＩＩＩ）中、Ｆｒ_１は、３個以上の芳香環を有する置換または非置換縮合芳香環部分であり、Ｒ’およびＲ’’は独立に、水素、ＣｒＣ４アルキル、Ｚ、ＣｒＣ４アルキレンＺから選択され、ここで、Ｚは置換または非置換芳香族部分であり、Ｒ_１は、水素または芳香族部分から選択され、Ｂは、置換または非置換脂環式部分である。本発明はさらに、本組成物をイメージングする方法に関する。
【化１】

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【課題】塗膜欠陥、例えば縞や空隙がなくかつ良好なリソグラフィー性能を与える厚膜をコーティングするのに有用なフォトレジスト、特に、ベーク処理と露光との間の遅延時間に対して過敏でないフォトレジストを提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、光活性化合物、界面活性剤、架橋剤及び溶媒を含む、厚膜の像の形成に特に有用な感光性フォトレジスト組成物であって、界面活性剤の量が、フォトレジストの全重量に対し２０００ｐｐｍ〜１４，０００ｐｐｍの範囲である、上記フォトレジスト組成物に関する。好ましくはフォトレジスト膜は２０ミクロンを超える厚さを有する。更に本発明は、本発明の感光性組成物をコーティングしそしてこれに像を形成する方法を提供する。 （もっと読む）

ａ）式：
【化１】


（式中、Ｘは、
【化２】


から選択され、式中、Ｕは、二価の連結基であり；Ｙは、水素またはＺであり；Ｚは、芳香族エポキシドまたは脂肪族エポキシドの残基である）
を有する化合物と、
ｂ）酸または酸発生剤と
を含む反射防止コーティング組成物。
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本発明は、デバイス上に反転トーン像を形成するための方法であって、ａ）基材上に吸光性下層を形成し； ｂ）下層の上にポジ型フォトレジストの被膜を形成し； ｃ）フォトレジストパターンを形成し； ｄ）この第一のフォトレジストパターンを硬化化合物で処理し、それによって硬化したフォトレジストパターンを形成し； ｅ）硬化したフォトレジストパターンの上に、ケイ素コーティング組成物からケイ素被膜を形成し； ｆ）ケイ素被膜をドライエッチングし、ケイ素被膜がフォトレジストパターンと概ね同じ厚さとなるまで、ケイ素被膜を除去し、及びｇ）ドライエッチングを行ってフォトレジスト及び下層を除去し、それによってフォトレジストパターンが元々在った位置の下にトレンチを形成することを含む、前記方法に関する。更に本発明は、上記方法の製造物及び上記方法を用いて製造される微細電子デバイスにも関する。 （もっと読む）

デュアルダマシンプロセスに使用される組成物が開示される。
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反射防止コーティング組成物及び関連するポリマーが開示される。 （もっと読む）