深紫外線、特に１９３および２４８ｎｍでフォト画像形成可能な上部層コーティング、高解像度のフォトリソグラフィーを行う二層レジストシステムをつくるのに好適な新規なコポリマー。化学的に増幅されたフォトレジスト組成物、および新規なコポリマーを使用するＡｒＦおよびＫｒｆフォトリソグラフィーで使用するための材料として好適である、フォト画像形成可能なエッチングに耐えるフォトレジスト組成物のためのバインダー樹脂中で使用するのに好適な有機シリコン部分構造を提供する。 （もっと読む）

二重層のレリーフ画像を製造するための熱硬化性アンダーコート組成物であって、ａ）構造（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）：
【化１】


［ここで、Ｒ¹は夫々独立に、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基又はハロゲン原子を表し、Ｌは単結合、−ＣＯＯ−基又は−ＣＯＮ（Ｒ²）−基を表し、Ｒ²は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｍは炭素数５〜７のシクロアルキレン基又は炭素数６〜１８のアリーレン基を表し、Ｗは単結合、−ＣＯＯ−基、−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）−又は−（ＳＯ₂）−を表し、Ｒ³は水素原子、炭素数５〜３０の置換されていないか又は置換された直鎖状アルキル基、炭素数５〜３０の置換されていないか又は置換されたシクロアルキル基、炭素数５〜２５の置換されていないか又は置換された架橋した脂環式炭化水素基、炭素数６〜１８の置換されていないか又は置換されたアリール基又は炭素数７〜１８のアリールアルキル基を表し、ｎは１〜３の整数を表し、ｑは０〜３の整数を表し、且つｎとｑの合計は５以下であり、Ｒ⁴は炭素数１〜１０の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基又はハロゲン基を表し、そしてＲ⁵は炭素数５〜３０の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基、置換されていないか又は置換された脂環基又は（Ｒ⁶Ｏ）_tＲ⁷基（ここで、Ｒ⁶は炭素数１〜１０の直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基を表し、Ｒ⁷は炭素数１〜３０の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基、置換されていないか又は置換された脂環基、又は置換されていないか又は置換された芳香族基又はアルキル芳香族基を表し、そしてｔは１〜４の整数を表す）を表す］の繰返し単位を含む構造（Ｉ）のポリマー；ｂ）フェノール系架橋剤；ｃ）熱酸発生剤（ＴＡＧ）；及びｄ）溶剤を含む、熱硬化性アンダーコート組成物。
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１つ又はそれ以上のポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー、２〜約９の芳香族ヒドロキシル基を含む化合物と５−ナフトキノンジアジドスルホニル化合物及び４−ナフトキノンジアジドスルホニル化合物との縮合生成物であるジアゾナフトキノン光活性化合物、及び少なくとも１つの溶媒を含んでなるポジに働く感光性樹脂組成物、並びに、基材上にレリーフパターンを形成し、それによってコーティングされた基材を形成するためのこうした組成物の使用。 （もっと読む）

構造（Ｉ）のモノマーの重合により形成されたモノマー単位を有するポリマーとコポリマー（ここで、Ｒ¹はエチレン性不飽和の重合性基を含む部分構造であり、Ｒ²はＣ₁〜Ｃ₃のアルキレン基であり、Ｒ³は、Ｃ₁〜₁₀の線状若しくは環状アルキル基、Ｃ₆〜₁₀の芳香族若しくは置換芳香族基、Ｃ₁〜₈のアルコキシメチル基、又はＣ₁〜₈のアルコキシエチル基である）は、感光性組成物のバインダー樹脂として、また、半導体デバイスや材料の製造におけるフォトリソグラフィープロセスに有用である。
【化１】

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（ａ）１つまたはそれ以上のポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー（Ｉ）
【化１】


（ここで、ｘは約１０〜約１０００の整数であり、ｙは０〜約９００の整数であり、そして（ｘ＋ｙ）は約１０００未満であり；Ａｒ¹は４価の芳香族基、４価の複素環式基またはそれらの混在するものであり；Ａｒ²は珪素を含有してもよい、２価の芳香族基、２価の複素環式基、２価の脂環式基または２価の脂肪族基であり；Ａｒ³は２価の芳香族基、２価の脂肪族基、２価の複素環式基またはそれらの混在するものであり；Ａｒ⁴はＡｒ¹（ＯＨ）₂またはＡｒ²であり；Ｇはカルボニル、カルボニルオキシまたはスルホニル基から選択される１価の有機基であり；（ｂ）照射に際して、酸を遊離する１つまたはそれ以上の光活性化合物２０（ＰＡＧ）；（ｃ）それらの各々が少なくとも２つの〜Ｎ−（ＣＨ₂ＯＲ）_n単位（ここで、ｎは１または２であり、Ｒは線状または分枝状Ｃ₁〜Ｃ₈のアルキル基である）を含有する１つまたはそれ以上の潜在的架橋剤；（ｄ）少なくとも１つの溶媒及び（ｅ）少なくとも１つの溶解速度調整剤、ただし、潜在的架橋剤が高度に反応性ならば溶解速度調整剤はカルボン酸基を含まない）を含む耐熱性ネガ型感光性組成物。

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（ａ）少なくとも１つのポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー；（ｂ）構造III〜Ｖにおいて、［Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷はそれぞれ独立にＣ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基、フェニルもしくはハロゲン化物で置換されたＣ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基、過フッ素化されたＣ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基、Ｃ₅〜Ｃ₇のシクロアルキル基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキルもしくはハロゲン化物で置換されたＣ₅〜Ｃ₇のシクロアルキル基であり、または別に、Ｒ¹およびＲ²もしくはＲ⁴、Ｒ⁵、およびＲ⁶のいずれか２つは一緒になって５〜７員環を形作ってよく；Ｒ³はそれぞれ独立にＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基、フェニルもしくはハロゲン化物で置換されたＣ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基、過フッ素化されたＣ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基、Ｃ₅〜Ｃ₇のシクロアルキル基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキルもしくはハロゲン化物で置換されたＣ₅〜Ｃ₇のシクロアルキル基、置換されていないフェニル基、またはフェニル、アルキルもしくはハロゲン化物で置換されたフェニル基であり；ＱはＨまたはＤであり、ただし少なくとも１つのＱはＤであり；Ｄは上記に規定したとおりであり；ａは１〜５の整数であり；ｂおよびｃは０〜５の整数であるが、ただし（１）構造IIIについて、ａ＝ｂ＝１であり、ＯＱがともにＲ¹Ｒ²Ｃ置換基に対してパラ位で置換されているなら、Ｒ¹およびＲ²がともに同時にメチルであることはなく、（２）１≦ａ＋ｂ＜６であり；構造Ｖについて、ａ＝ｂ＝ｃ＝１であり、すべてのＯＱがトリフェニルメタン炭素置換基に対してパラ位にあるなら、少なくとも１つのＲ³はＨでない］によって表わされる化合物から選択される少なくとも１つの感光性化合物；（ｃ）少なくとも１つの溶媒；および（ｄ）場合によっては接着促進剤を含むポジ型感光性組成物。本発明者は、この感光性組成物を使用してレリーフパターンを作成しまた電子部品を製造する方法をさらに提供する。
【化１】

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ポリマーの骨格に結合したジアゾキノン部分構造を含み、またすべてのアミノ末端基がアミド基へと転化されている新規な感光性ＰＢＯ前駆体ポリマー。開示されるＰＢＯ前駆体ポリマーをベースとする感光性処方物は、良好な画像形成特性および機械的特性そして優れた貯蔵安定性を有する。（スルホン）アミド末端基（結合したジアゾキノン基を有するまたは有さない）を有する感光性ポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマーは、骨格上にベンジル水素を欠くジアゾキノン光活性化合物を有する感光性組成物へと処方されることができ、著しくより明るい色のフィルムを硬化後に与える組成物が得られる。 （もっと読む）

少なくとも１つのキャップされていないポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー、少なくとも１つのキャップされたポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー、少なくとも１つの感光性剤および少なくとも１つの溶媒のポジ型感光性樹脂組成物、基板上に画像をパターン化するためにこのような組成物を使用すること、ならびに得られる信頼性のあるパターン化された基板およびそれからの電子部品。 （もっと読む）

（ａ）１つまたはそれ以上のポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー（Ｉ）：［式中、ｘは約１０〜約１０００の整数であり、ｙは０〜約９００の整数であり、また(ｘ＋ｙ)は約１０００より小さく；Ａｒ¹は４価の芳香族基、４価の複素環式基、またはこれらの混在するものからなる群から選択され；Ａｒ²は珪素を含んでよい２価の芳香族基、２価の複素環式基、２価の脂環式基、２価の脂肪族基、またはこれらの混在するものからなる群から選択され；Ａｒ³は２価の芳香族基、２価の脂肪族基、２価の複素環式基、またはこれらの混在するものからなる群から選択され；Ａｒ⁴はＡｒ¹（ＯＨ）₂またはＡｒ²からなる群から選択され；Ｇはポリマーの末端ＮＨ基に直接結合したカルボニル基、カルボニルオキシ基またはスルホニル基を有する基からなる群から選択される有機基である］；
（ｂ）照射に際して酸を放出する１つまたはそれ以上の光活性化合物（ＰＡＧ）；
（ｃ）少なくとも２つの〜Ｎ−（ＣＨ₂ＯＲ）_n単位を含む潜在的な架橋剤（式中、ｎは１または２であり、またＲは線状または分枝状のＣ₁〜Ｃ₈のアルキル基であり、ただしグリコールウリルが潜在的な架橋剤として使用されるとき、ポリベンズオキサゾール前駆体ポリマーのＧ基は環状の酸無水物の反応から生成される）；および
（ｄ）ＮＭＰではない少なくとも１つの溶媒
を含む耐熱性のネガ型感光性組成物。
【化１】

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