【課題】基板支持ユニット、前記ユニットを利用する枚葉式基板研磨装置及び前記装置を利用する基板研磨方法を提供する。
【解決手段】本発明による基板支持ユニットは、研磨工程時には基板の下面を真空吸着し、後洗浄工程時には基板の下面の洗浄のために基板を上向き離隔した状態に支持することを特徴とする。
かかる構成によれば、基板が枚葉式基板支持ユニットに支持された状態で基板の上面に対する研磨工程と、前記工程に続く基板の上下面に対する後洗浄工程を順次的に行うことができる基板支持ユニット及びこれを利用した枚葉式基板研磨装置、そして前記装置を利用する基板研磨方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板製造設備に使用される基板搬送装置に関する。
【解決手段】本発明の基板搬送装置は、一群のシャフトと、前記一群のシャフトを回転させるための駆動部と、を含む。前記一群のシャフトは、第１長さを有する少なくとも一つの第１シャフトと、前記第１シャフトと同一平面上に位置し、前記第１長さより短い第２長さを有する第２シャフトと、前記第１シャフトと同一平面に位置し、前記第１長さより短い第３長さを有する第３シャフトと、を含む。前記第２シャフトは、前記第１シャフトの他端よりも一端に近く位置し、前記第３シャフトは、前記第１シャフトの一端よりも他端に近く位置する。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイ（ｆｌａｔ ｐａｎｅｌ ｄｉｓｐｌａｙ）の製造に使用される基板処理装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明によるフラットパネルディスプレイの製造ための基板処理装置は、基板搬送のための複数の搬送シャフトを有するコンベヤー部材と、前記コンベヤー部材によって搬送される基板を非接触方式で冷却する冷却部材と、基板が前記冷却部材と接触しないように前記基板と前記冷却部材との間の間隔を維持する間隔維持部材と、を含む。 （もっと読む）

【課題】スクライブ装置、そしてこれを用いた基板切断装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明は、スクライブ装置、そしてこれを用いた基板切断装置及び方法を開示したものであり、母基板の上面と下面のうち何れか一面にスクライブラインを形成し、母基板の上面と下面の方向性を維持した状態で母基板の他の一面に順次にスクライブラインを形成することを特徴とする。
このような特徴によると、基板を反転させることなく、スクライブ工程を進行できるため、工程時間を短縮して全体工程の生産性を向上させることができ、基板の反転と関連した設備が省略されることによって設備のレイアウトを簡素化して設備費用を節減できるスクライブ装置、そしてこれを用いた基板切断装置及び方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】基板洗浄装置及びその方法を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置は、基板を支持する支持プレートと基板の上部に具備され基板を保護する遮断部とを含む。遮断部は衝撃波を形成するために光が集結される焦点と隣接する部分が変更される。これにより、基板洗浄装置は衝撃波とともに発生するプルーム及び残留ビームが遮断部の特定領域に集中することを防止し、遮断部の損傷による基板の再汚染を防止できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、スクライブ装置を提供する。
【解決手段】スクライブ装置は、母基板に互いに平行である複数のスクライブラインを同時に生成できるように、互いに並列に配置されるスクライブユニットを有する。また、同時に生成される互いに平行である複数のスクライブライン間の間隔を変化させることができるように、スクライブユニット間の間隔を調節する間隔調節ユニットを提供する。 （もっと読む）

【課題】直接駆動方式を使用することによって、駆動メカニズムの構成を簡素化し、より安定的に基板を移送できる駆動磁力部材と、これを利用した基板移送ユニット及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を移送する基板移送ユニットは、互いに並んで配列される基板移送用のシャフトと、前記シャフトの一端に設置される第１磁力部材と、前記第１磁力部材とマグネチックカップリング（Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｃｏｕｐｌｉｎｇ）されるように対向して設置され、円周面に沿って複数の突出部の形成された第２磁力部材と、前記第２磁力部材のうち、隣接した何れか２つの前記第２磁力部材に形成された前記突出部との噛み合いにより、前記第２磁力部材間に回転力を伝達する動力伝達部材と、前記第２磁力部材のうちの何れか一つに回転力を提供する駆動部材と、を備える。 （もっと読む）

【課題】洗浄効率を向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、処理液を噴射して基板を乾燥する噴射ノズルを備える。噴射ノズルは処理液を基板に排出すると同時に、処理ガスの気流を調節して処理ガスを噴射ノズルから排出される処理液側に噴射する。これにより、基板処理装置は、処理液の液滴の大きさを最小化できるので、洗浄効率及び製品の収率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】処理液感知器を有するバルブ、これを利用する基板処理装置及び基板処理方法が提供される。
【解決手段】前記バルブは、本体、入口、出口、シャッタ及び感知器を含む。前記本体の内部には、基板の処理液が移動する通路が備えられる。前記入口は前記通路の一端部に連結され、前記本体の内部に前記処理液が流入する。前記出口は前記通路の他の端部に連結され、前記本体の外部に前記処理液が流出する。前記シャッタは、前記入口と前記通路を連結する領域で、前記通路を開放または遮断する。前記感知器は、前記通路を移動する前記処理液に接触するように前記本体に結合され、前記処理液の成分を感知する。 （もっと読む）

【課題】基板支持部材、これを有する基板処理装置及びこれを用いた基板処理装置洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板支持部材は、基板が載置されるスピンヘッド、回転結合部、及び流体を供給する供給配管を含む。回転結合部は供給配管から流体を供給され、回転するスピンヘッドに流体を提供する。スピンヘッドは流体を噴射する少なくとも一つの噴射孔が形成され、回転すると共に流体を側面方向に噴射する。これにより、基板支持部材は流体を処理容器の内壁に提供できるので、処理容器の洗浄効率及び生産性を向上させることができる。 （もっと読む）