説明

エフ イー アイ カンパニにより出願された特許

61 - 70 / 87


【課題】 厚い試料の染色の方法において、適切な染色レベルでもって、全体の試料が画像化できる方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 試料(1)の表面層の画像を取得するステップと、前記試料の表面層を除去し、それにより次の薄片を表面にもたらすステップとが繰り返される、試料の薄片から画像を得る方法であって、少なくとも、前記試料の表面層の除去のうちの一つの除去の後に、前記試料は染色剤にさらされるステップを有することを特徴とする。
本方法は、とりわけ、走査電子顕微鏡カラム(20)と集束イオンビームカラム(10)とを備えた、粒子光学装置での使用に最適である。
試料は、その場所でOsOのようなガスを前記試料に取り入れて、染色することができる。本方法は、第1染色剤に試料をさらして試料の第1画像を作り、第2の染色剤に追加的染色して、試料の画像を作ることにより、差異的な染色を形成することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は第1ホルダ(40)内の第1位置から第2ホルダ(10)内の第2位置へ、及び/又はその逆へ試料(2)を搬送する搬送機構に関する。
【解決手段】 各ホルダ(10,40)は脱着可能な状態で試料を保持するように備えられ、ホルダ間での試料の搬送は、第2位置とは異なる搬送位置で行われる。試料がホルダ(10,40)間を搬送されるとき、機械的案内機構は、第2位置での相互精度よりも高い相互精度でホルダを位置設定し、かつ試料が第2位置にあるときには、ホルダ(10,40)のうちの少なくとも1は位置設定されない。
機械的案内機構は追加部分(50)を有して良い。
ホルダ(40)のうちの少なくとも1は多数の試料を保持するように備えられて良い。 (もっと読む)


【課題】本発明は、試験片(2)から微小サンプル(1)を分離する方法に関する。
【解決手段】そのような方法は、半導体産業分野においてウェハからTEM観察用のサンプルを入手するために、一般的に使用されている。発明者らによれば、試料担体(6)とサンプルの位置ずれのため、得られるサンプルの内の約20%は、適切に処理(薄膜化)されない。この位置ずれは、溶接前に、サンプルと接触する試料担体によって生じることが確認されている。溶接の間、試料担体がサンプルと接触することを回避し、試料担体とサンプルの間に微細な間隙を残しておくことにより、この位置ずれが解消される。例えば振動による、溶接の間の試料担体の移動を回避するため、試料担体は、ウェハ上のサンプルと近接する位置(8)に置載される。 (もっと読む)


本発明は、真空チャンバを有する機器とともに使用されるスライダベアリングであって、一つの側で前記真空チャンバと接するベース板であって、前記真空チャンバと接する第1の貫通孔を有するベース板と、前記ベース板と一方の側で接する第2の板であって、第2の貫通孔を有する第2の板と、を有し、前記ベース板と前記第2の板の相互に面する面は、十分に平滑であり、非エラストマーの真空シールが形成され、前記ベース板および前記第2の板は、第1の相対位置と第2の相対位置の間でスライド可能であり、前記第1の相対位置では、前記第1の貫通孔と前記第2の貫通孔は、重なっておらず、前記第2の相対位置では、前記第1の貫通孔と前記第2の貫通孔は、重なっており、前記第2の板は、可撓性板であり、前記可撓性板の前記ベース板とは反対の面には、キャップに対するシールが設けられ、前記キャップは、サンプルを保持するように装備され、前記ベース板の前記第1の貫通孔は、制御された曲率で、前記可撓性板と面する縁部を有し、前記縁部の前記曲率は、前記ベース板と前記可撓性板の間の所定の輪郭部に、前記真空シールが形成され、ヘルツ接触圧力が、所定の最大接触圧力よりも小さくなるように形成され、前記所定の最大接触圧力は、粒子発生が最小となるように選定されることを特徴とするスライダベアリングに関する。
(もっと読む)


【課題】 本発明は、たとえばTEMで利用される試料キャリア20及び試料ホルダ30の複合構造に関する。当該試料キャリアは、本明細書では当該試料ホルダとは別個に実施されている。たとえそのような複合体がすでに知られているとしても、その既知の複合体は非常に壊れやすい構造である。
【解決手段】 本発明に従った試料キャリアは金属細片から形成されて良い。当該試料キャリアは単純でかつ安価な素子である。弾性力を利用することによって、当該試料キャリアは当該試料ホルダに固定される。当該試料キャリアが結合する当該試料ホルダの一部もまた単純な形状を有する。当該試料キャリアは、結合ツールを用いることにより、当該試料ホルダと真空中で結合して良い。 (もっと読む)


【課題】従来技術の問題に対する解決をもたらす。
【解決手段】本発明は粒子−光学装置のための熱スイッチに関する。例えば、低温TEM(透視型電子顕微鏡)において、試料ホルダ7の末端20に配置される試料34が、例えば、液体窒素の温度に維持され得る。例えば、顕微鏡を低温から室温に全体的に加熱することなしに、簡単な方法において室温で試料を検査し得る必要がある。熱スイッチ40を使用することによって、これは可能になる。このために、熱スイッチは、装置内の冷源22と試料ホルダ7の末端20との間の熱経路変更し、それによって、1つの位置、位置46aにおいて、末端20から冷源22への接続が行われ、他の位置、位置46bにおいて、室温に維持される装置の一部44に接続が行われる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、略直方体構成を備える筐体を提供する。
【解決手段】本発明は、音響振動に敏感な装置を含むようになっている略直方体構成を備える筐体に係る。その筐体は、壁と、該壁内に設置される音響減衰材料とを有し、該音響減衰材料は音響エネルギー吸収材料の吸収体を少なくとも1つ有し、吸収体は、筐体のリブに隣接して設置されている。筐体内の装置の処理を最も妨げる音響振動が、筐体内の定常音波によって引き起こされ、定常音波の周波数は、50Hz〜1000Hzの範囲である。これら音波は、筐体のリブのうち1つに隣接する音響吸収材料のブロックを提供することによって効果的に減衰され、減衰は、筐体の厚い壁が実質的に不要になるほどまで成され、より容積の小さい筐体へと至る。 (もっと読む)


【課題】低エネルギー拡がりで、現在実現可能な輝度よりも明るい輝度の実現が可能な気体イオン源が備えられた粒子光学装置を提供する。
【解決手段】高輝度は、一の空間から小さなイオン化容積(1μm未満から数十μmの大きさ)に電子を注入し、他方の空間からのイオンを引き出すことによって実現される。注入される電子は、電界放出型放出体又はショットキー型放出体のような高輝度電子源3で生成される。 本発明の一の実施例では、高電子密度は、電界放出型放出体をイオン化容積の近くに設けて、電子源とイオン化容積との間に光学系を設けることなく実現される。本発明の他の実施例では、電子源はMEMS構造上で結像される。50nmの2つの小さな絞りは1μmの間隔を空けて設けられている。電子は1の絞り2から入り込み、イオンはもう一方の絞り7を介してイオン化容積から出て行く。 (もっと読む)


【課題】 本発明は所定の最終真空圧力を有する粒子光学装置に関する。
【解決手段】 上記目的のため、当該装置の圧力チャンバが、第1絞り弁を介して、蒸気又は気体が既知の圧力で存在する容積と接続し、かつ第2絞り弁を介して真空ポンプと接続する。当該絞り弁に関連する2つのコンダクタンスの比を校正された比にすることによって、真空チャンバの最終圧力は所定の最終圧力となる。これにより、たとえば真空ゲージ及び制御系の必要がなくなることで、そのような装置を小型に設計することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】粒子−光学機器における試料の映像の繰り返し形成方法である。
【解決手段】一連の実測的映像が結像パラメータ(例えば、焦点距離)の異なる設定で記録され、比較可能な映像群が前記試料における電子波に基づいて計算(評価)される。これら2つの群は比較され、電子波が計算(フィードバック)され、前記実測的映像群により近い新しい映像群が計算される。この繰り返し工程は、前記実測的映像群と前記計算された映像群との間の対応関係が満足行くまで繰返される。この後、これに関連する電子波が、前記試料の所望の映像であると考慮される。FFTにより処理を実行することにより前記評価工程とフィードバック工程の計算時間を大幅に短縮できる。これは、両工程において計算されるべき相関式を、FFTにより計算可能な純相関積分として生じるように書くことで可能となる。計算時間を、50,000程度の大きさの係数により減少することが出来る。 (もっと読む)


61 - 70 / 87