【課題】荷電粒子顕微鏡を用いて試料を検査する方法を提供する。
【解決手段】試料を試料ホルダ上に載置する手順、粒子光学鏡筒を用いて、少なくとも1つの粒子放射線ビームを試料へ案内することによって、試料から放出される放射線を発生させる相互作用を生じさせる手順、第1検出器構成C₁を用いて、放出される放射線の第1部分を検出して、第1部分に基づいて第1画像I₁を生成する手順を有する。第1検出器構成C₁とは異なる第2検出器構成C₂を用いて、放出される放射線の第2部分を検出して、第2部分に基づいて第2画像I₂を生成することで、検出器構成の組S_D={C₁,C₂}と、対応する画像の組S_I={I₁,I₂}をまとめる手順、コンピュータ処理装置を用いて、S_Iの各異なる画像を自動的に比較して、S_Dのうちの少なくとも1つに対する視線が閉塞された試料上の少なくとも1つの閉塞領域を数学的に特定する手順を有する。 （もっと読む）

【課題】低照射量で取得される画像の品質改善。
【解決手段】当該粒子光学装置は、粒子源101、結像される対象物111を設ける対象物面、対象物面を照射する収束系104、対象物を透過する粒子を結像させ、対象物面の画像を生成する投影系106、及び画像を検出する検出器150を有する。検出器は、画素のアレイを有する半導体センサを有する。画素のアレイは、検出器に入射する粒子に応答して、アレイの各対応する画素から複数の画素信号を供する。当該方法は、複数の画素信号を受信する手順、複数の画素信号のビタビ検出(ViterbiDetection)を用いて再構成された画像を決定する手順を有する。ビタビ検出は、検出器に入射する複数の粒子の分布に対応する複数の異なる状態、及び、少なくとも2つの状態であって、複数の画素信号の単一の画素に入射する粒子のゼロではない同一の多重度に対応する状態を用いる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、SEM用の複合静電/磁気対物レンズ内に設けられた鏡筒内後方散乱電子検出器に関する。
【解決手段】 当該検出器は、荷電粒子に敏感な表面−好適には静電集束場を生成する電極面(110)の1つとして機能するシンチレータディスク(406)−として形成される。前記シンチレータ内で生成された光子は、光子検出器(202,408)−たとえばフォトダイオード又は多画素光子検出器−によって検出される。前記対物レンズには、軸付近に保持される2次電子を検出する他の電子検出器(116)が備えられて良い。導光体(204,404)が、前記光子検出器とシンチレータとの間での電気的絶縁を供するのに用いられて良い。 （もっと読む）

【課題】複数のイオン源から所望のイオン種を色収差なく選別する集束イオンビーム装置用の質量フィルタを提供する。
【解決手段】イオン源１１４により生成された複数のイオン１１０は、上部レンズ１０６により略平行なビーム３１０となり質量フィルタ３０４に入射する。質量フィルタ３０４は、互いの中心軸がオフセットされた上部ＥＸＢフィルタ３０６Ｕおよび下部ＥＸＢフィルタ３０６Lより構成され、ビーム３１０を質量毎に分離偏向した後、光軸３８０に平行な軌道として出射する。この際、上部ＥＸＢフィルタ３０６Ｕにより生じる色収差は下部ＥＸＢフィルタ３０６Ｌにより打ち消される。その後、質量分離アパーチャ３４２により所望のイオン３３２のみを通過させ下部レンズ１０８により基板１１２上に集束する。 （もっと読む）

【課題】集束イオンビームシステムで使用するための大開口のウィーンＥ×Ｂ質量フィルタを提供する。
【解決手段】Ｅ×Ｂウィーン質量フィルタが、質量分離するために必要な電気双極子の電場と組み合わされた独立して調整可能な電場を提供する。独立して調整可能な電場は、より大きな光学的アパーチャを提供でき、非点収差を補正し、かつ磁場に平行及び／又は垂直な方向にビームを偏向するように使用可能である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、TEMにおける直接電子検出器の保護方法に関する。
【解決手段】 本発明は、新たなビームパラメータの設定前に、検出器上での電流密度を予測する手順を有する。ビームパラメータとはたとえば、収束レンズ(104)と投影レンズ(106)の励起、及び/又はビームエネルギーの変化である。予測は、光学モデル又はルックアップテーブルを用いることによって行われる。前記検出器の予測された露光が所定値未満であるとき、所望の変化が行われ、さもなければ、警告メッセージが発生して、設定の変更は延期される。 （もっと読む）

【課題】2つの非点収差補正器の励起がそれぞれ異なることで生じるドリフトなしに、2つの面内での非点収差を補正し、同時にLDをも補正する。
【解決手段】光軸に沿って荷電粒子源202、収束光学系208、対物レンズ214、結像光学系216、及び検出系218,224で構成される荷電粒子線装置において、対物レンズ214と検出系218,224との間には、試料210を結像するときの非点収差を減少させるために第1非点収差補正器250および回折面が結像されるときの非点収差を減少させるために第2非点収差補正器252が設けられる。当該装置は、前記対物レンズ214と検出系218,224との間に、第3非点収差補正器254が設けられる結果、直線歪みを減少させる第3の自由度が生成されることを特徴とする。本発明は前記第1非点収差補正器250、第2非点収差補正器252、及び第3非点収差補正器254の使用方法に関する。 （もっと読む）

【課題】蛍光マーカーを付着させた標的タンパク質の位置の特定を、同時に多数行う事のできる顕微鏡システムを実現する。
【解決手段】試料３０６中の標的タンパク質に付与した蛍光マーカーを光３２４により励起し、蛍光マーカーからの光３２８を放物面鏡３１４により集光して光検出器３６０で検出すると共に、荷電粒子ビーム３０４を走査する事により蛍光マーカーを不活性にすることによって励起位置を特定する。同時に、放出される二次電子３３２を放物面鏡３１４の表面に印加された電界により二次電子検出器３２０へ向けて偏向させる事により検出して試料像を形成する。 （もっと読む）

【課題】構造部の断面をミル処理する際の、局部的な形状変化を制御する改良された方法であって、測定精度を向上させるため、記録ヘッドの断面での局部的な形状変化を抑制する際に使用される方法である。
【解決手段】局部的な形状変化は、大きな入射角において、その入射角における構造部のミル処理速度とほぼ等しいミル処理速度を有する材料からなる保護層によって抑制される。大きな入射角において、その入射角における構造部のミル処理速度とは異なるミル処理速度を有する材料を含む保護層を用いて、局部的な形状変化を意図的に導入することも可能である。 （もっと読む）

【課題】放出電流が安定で低雑音の電子顕微鏡用の冷陰極電界放出型電子源を提供する。
【解決手段】冷陰極電界放出型エミッタ先端５０３の後方に配置された開口５５４を有するエミッタ包囲電極５５２と、引出電極５０８とにより閉空間を形成し、閉空間の内部に配置された円形フィラメント５３０を加熱する事により放出される電子５２０による衝撃と熱的励起により、引出電極５０８とエミッタ包囲電極５５２の吸着物質５２２、５２６を離脱させ、ギャップ５６０より排気し除去する。 （もっと読む）