【課題】複数の荷電粒子ビームカラムを備えたシステム、及びそのシステムを容易に制御する方法を提供する
【解決手段】電子ビームを生成し、電子ビームを試料に向けて集束させるための電子カラムであって、試料表面において少なくとも０．０２５テスラの強さを有する磁場を形成する磁気対物レンズを含む電子カラムを設け、磁場が存在する中で集束イオンビームを試料表面に指向させる際に、イオンビームの磁場による変位量を補償し、且つ補償によってイオンビームのスポットサイズの増加分が５０％未満となるように、イオンビームを指向させる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、既知の方法の欠点である、ミリングによって曝露された面では像が生成されないこと、及び如何なるエンドポイント指定もウエハ表面から生成される像に基づかなければならないことを解決することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、FIB鏡筒のみが用いられている装置によって、この問題に対する代替解決策を提供する。
薄片を最終的な厚さ-たとえば30nm-にまでミリングするため、集束イオンビーム100は前記薄片に沿って繰り返し走査される。前記薄片をミリングしている際、前記薄片から信号が得られ、該信号はエンドポイント指定にとって十分であることが分かった。検査用のさらなる電子ビームは必要ない。 （もっと読む）

【課題】 本発明は微細構造の作製方法に関する。
【解決手段】 先駆体流体が存在する中で基板全体にわたって集束粒子ビームを走査することによって、パターニングされたシード層が形成される。ここで前記シード層を原子層堆積法又は化学気相成長法によって成長させることによって、高品質の層を成長させることができる。当該方法の利点は、非常に薄い層しか堆積しなくて良いため、前記シード層を形成するのに要する時間が相対的に短くなることである。 （もっと読む）

【課題】透過型電子顕微鏡のプロジェクション・システムの歪曲を特定しこれらの収差を修正する。
【解決手段】収差はサンプルの多数のイメージを集めることによって特定される。そして、各々の取得されたイメージのサンプル同士の位置がわずかにずれている。イメージにおいて、サンプルの同一の部分を示すサブフィールドが比較される。これらのサブフィールドはわずかな違いを示し、これは、収差の差に対応する。多数の場所の収差に係る差が特定される。その後、各々の場所における前記収差は、積分することによって特定することができる。表示されるべきイメージの検出された各々のピクセルの位置を修正することによって、収差は非常に減少したものとなる。効果としては、サンプルの極めて正確なステップも、あらかじめサンプルの形状を知る必要もない。 （もっと読む）

【課題】 試料を有するカートリッジを受け取るように備えられたその場試料ホルダを用いた試料の交換、及び全体が取り外されるホルダを用いた試料の交換に適した荷電粒子光学系のより簡便な構成を提案する。
【解決手段】 たとえば電子顕微鏡のような荷電粒子光学系(100)は、操作用に多数の試料のうちの特別な1つを収容するための空間(104)を備えた真空チャンバ(102)を有する。当該荷電粒子光学系は、前記空間に対して出し入れできるように動かすことのできる部分(108)を備えた装着体(106)を有する。前記部分は、当該光学系外部から運ばれる試料キャリア(110)を第1ホルダ(112)へ取り付け、又は前記第1ホルダから前記キャリアを外して当該光学系内部から前記キャリアを取り外すように備えられている。前記キャリアは第1試料を収容する。当該光学系は、前記第1ホルダ又は上に第2試料がマウントされる第2ホルダを取り外し可能なように供するため、前記チャンバの壁内にインターフェースを有する。 （もっと読む）

【課題】ＴＥＭ試料作成のための改善された方法。
【解決手段】ＦＩＢ／ＳＥＭデュアルビームにおいてＳＥＭ−ＳＴＥＭ検出器を使用することにより、ＳＴＥＭ信号で試料膜厚を観察しながら、ＦＩＢを用いて試料を薄膜化することができる。本発明の好ましい一つの実施形態では、再現性があって自動化に適している正確なエンドポイント検出の方法を使用することによって、Ｓ／ＴＥＭ試料の膜厚を測定し、Ｓ／ＴＥＭ試料を作成することができる。また、好ましい実施形態では、ＴＥＭ薄膜作成中に自動的なエンドポインティングを実現することができ、手動による薄膜化中に使用者に試料膜厚に関する直結フィードバックを提供することができる。したがって、本発明の好ましい実施形態では、試料を薄膜化する際にエンドポイントを決定するための改善された方法、及びＴＥＭ試料作成のスループットと再現性を向上するように、部分的又は完全に自動化されたエンドポインティングの方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ＴＥＭの投影システム（１０６）によりもたらされる歪を補正する方法に関する。
【解決手段】当業者が知っているように、特に、トモグラフィを用いて特徴の３Ｄ再構成を行うときに、歪は、ＴＥＭの分解能を制限する可能性がある。また、ＴＥＭにおいてストレイン解析を用いるとき、歪はストレインの検出を制限する可能性がある。このために、本発明は、多極子（１５２）を備えた検出器であって、多極子が、投影システムによりもたらされた歪が影響を弱められるように、ＴＥＭの画像を撓ませる。検出器は、電子を検出するＣＣＤ又は蛍光スクリーンを更に有することが可能である。 （もっと読む）

【課題】 本発明はたとえばTEM検査用の高品質試料の作製方法に関する。
【解決手段】 たとえば集束イオンビーム(FIB)装置によって試料を薄くするとき、前記試料は、前記FIB装置から取り出されるとき、大気曝露によって酸化する。この結果、試料は低品質となり、さらなる解析には適さない恐れがある。前記試料上に保護層-好適には水素保護層-をその場で-つまり前記FIB装置から取り出す前に-形成することによって、高品質試料が得られる。 （もっと読む）

【課題】 本発明はTEMに用いられるハイブリッド位相板に関する。
【解決手段】 本発明による位相板は、ゼルニケ位相板が設けられているベルシュ位相板のようなものである。その結果、本発明による位相板は、中央構造(15)の外側を通り抜けるほどに散乱された電子に対してはベルシュ位相板のように振る舞い、かつ前記中央構造のボアを通り抜ける散乱電子に対してはゼルニケ位相板のように振る舞う。本発明の位相板をゼルニケ位相板と比較すると、大きな角度で散乱される電子がホイルによって吸収又は散乱されない結果、TEMがより高解像度となる、という利点がある。本発明の位相板をベルシュ位相板と比較すると、前記中央構造を小型化する必要性がそれほど重要ではなくなる。 （もっと読む）

【課題】粒子源のエネルギー分散を減少させる。
【解決手段】レンズ107を介して荷電粒子103のビームを偏心させるように進行させ、像中にエネルギー分散が生じ、この像をエネルギー選択ダイアフラム108内のスリット109上に投影することによって、エネルギー選択が可能となり、通過したビーム113のエネルギー発散は減少する。偏向ユニット112は、前記ビームを光軸101に近づくように偏向させる。エネルギー分散スポットは偏向器111によって前記スリット上で結像する。前記スリット上の前記エネルギー分散スポットの位置設定を行うとき、中心ビーム105は前記軸から偏向され、該ビームは前記エネルギー選択ダイアフラムによって止められ、続く領域において、ビームから生じる反射及び汚染は防止される。また偏向器112の領域内でのエネルギーでフィルタリングされたビームと相互作用する中心ビームの電子-電子相互作用も防止される。 （もっと読む）