【課題】 対物レンズのような粒子光学レンズは収差に悩まされる。すでに数十年前から知られているように、ロンキーテストが、粒子光学レンズにおけるこれらの収差の決定に使用することが可能である。そのような方法はたとえば、一又は一組のロンキーテストにおいて、局所的拡大に基づく収差関数の2次導関数の決定に依存する。2次導関数に依存することで、これらの方法の数学的な解決法は、ロンキーテスト間で、（限りなく）小さくシフトするときのみ可能となる。しかしこのことはたとえば、ロンキーテストを記録するカメラの空間量子化雑音が大きなエラーを発生させることを意味する。これらの矛盾する要求は精度、つまり既知の方法の有用性を制限する。
【解決手段】 本発明は、一組のロンキーテストを用いることによって、レンズ収差係数を定量化する方法を改善する一組のアルゴリズムについて説明する。 （もっと読む）

【課題】粒子光学装置における色収差を補正するための補正器に関する発明を提供する。
【解決手段】本発明は、ＳＥＭ又はＴＥＭに使用されるもののような、粒子レンズにおける色収差の補正用の補正器を記載する。このような補正器の電力供給における安定性の要求を減少させるために、粒子ビームがその補正器を通過する際のエネルギーは、そのビームが補正されるレンズを通過する際のエネルギーよりも低いものである。 （もっと読む）

【課題】試料がデュアルビーム粒子光学装置においてより均一に処理されることを可能にするステージ組立体を提供する。
【解決手段】ステージ組立体は、第一軸Ａ１に沿う第一照射ビームＥを発生するための第一源と、ビーム交差地点で前記第一軸と交差する第二軸Ａ２に沿う第二照射ビームＩを発生するための第二源と、試料を載置し得る試料テーブル２１と、基準面に対して垂直なＸ軸、基準面と平行なＹ軸、及び、基準面と平行なＺ軸と実質的に平行な方向に沿って前記試料テーブルの平行移動をもたらすために配置された一組のアクチュエータとを備え、該一組のアクチュエータは、Ｚ軸と実質的に平行な回転軸ＲＡについての試料テーブル２１の回転と、Ｚ軸に対して実質的に垂直なフリップ軸ＦＡについての試料テーブルの回転とをもたらすようさらに配置されること。 （もっと読む）

本発明は、内部への給電が可能な密封筐体に関する。標準的なプリント回路基板120が、筐体100によって密封されている。密封は、プリント回路基板120の平坦面で行われる。プリント回路基板は、電気的接続を与える導電性トラック(130,132,134,136)を含む。電気的接続の少なくとも一部がプリント回路基板表面と平行となるように電気的接続を与えることにより、プリント回路基板を介して導体に沿った気体の漏れは生じ得ない。密封空間102の内部は気体が充填された空間であって良いが、たとえば真空空間であっても良い。

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【課題】電子顕微鏡は、電子銃（２）の高圧電界の前方に設けられたエネルギー選択性フィルタ（１０）により構成される。フィルタは高圧電位を伝達し、ＳＦ_６ガスにより充填された銃スペース（１４）内に設けられているので、フィルタに対する電気的及び機械的な通路に関する問題が生じる。特に、フィルタのセンタリングが問題である。
【解決手段】（電流制限及びフィルタによりビームに導入される光収差を回避するため）それにも係わらず、フィルタの適当なアパーチャ調整を行うため、フィルタ部品、特に、フィルタの磁極面又は磁界画成密閉部品（４８ａ）に固定的に連結されたエントランスダイヤフラム（３０）が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、名目上同一構造の規則的グリッド中の特定構造での、たとえば電子顕微鏡像フィールドの位置設定について説明する。そのような構造はたとえば、チップ上のメモリセルであって良い。そのようなメモリセルは近年、たとえば1μm²未満の領域を有し、1000*1000のセル中に配列されている。変位中、構造のグリッド距離よりも大きなエラーが発生する可能性があり、その結果、像フィールドは意図しない構造に調節される。
【解決手段】 本発明の本質は、変位が多数の成分変位にさらに分割可能なことであり、それにより、成分変位あたりのエラーはグリッド距離の半分未満になる。各成分を変位させた後に、変位を決定することで、成分変位あたりのエラーは排除可能となる。この方法は自動化に適しており、それにより補正技術の手段によって像変位が決定される。 （もっと読む）

【課題】 本発明は走査電子顕微鏡におけるレンズエラー決定方法、より詳細にはそのようなレンズエラーの決定を可能にする試料に関する。
【解決手段】 本発明はたとえば、シリコンウエハ上に所謂‘自己集合’する結晶として比較的容易に製造可能な正方晶MgOの使用について説明する。そのような結晶はほぼ理想的な角度及び端部を有する。これは、たとえレンズエラーが存在してもレンズエラーが存在しない状況での明確な像を与えることができる。これは、良好な再構築が各異なるアンダーフォーカス面及びオーバーフォーカス面でのビーム断面で構成されることを可能にする。レンズエラーはこの再構築に基づいて決定可能である。ここでレンズエラーは補正器の手段により補正可能である。 （もっと読む）

【課題】TEM、STEM又はSEMにおいて適用する四極子・八極子収差補正器。
【解決手段】対物レンズの３次収差及び５次収差を補正する公知の補正器は、８つの四極子及び３つの八極子によって実施される。本発明による補正器は、少なくとも同じ収差補正力を有するが、本発明によれば、６つの四極子及び３つの八極子によって実施される。比較的弱い励起を備える八極子を四極子の一部分に加えることによって、対物レンズの異方性コマ収差の補正も達成される。四極子全て又はその一部分を電磁気的であるものとして実施することによって、色収差も補正することができる。 （もっと読む）

【課題】表面を進行しかつ、表面下の像を生成するのに十分なエネルギーを有する電子ビームを用いた表面下画像化によってミクロの構造を操縦又はミリングの適切な中止をする方法を提供する。
【解決手段】ミリングの適切な中止に関しては、ある既知の電子エネルギーにおいて表面下の像が明確な場合、ユーザーは自分が埋め込まれた部位に接近していることを知る。操縦に関しては、表面下の像は素子上のビームの位置を決定するための基準マーク又は他の部位によって形成されることができる。 （もっと読む）

【課題】基板から試料を抽出するための効率的な方法。
【解決手段】集束イオンビームのようなビームを使って複数回の重なり合う切り込みを入れて試料のまわりに溝を作り、次いで当該試料の下を切って切り離す。切り込みの側壁が垂直でないため、重なり合う切り込みは以前の切り込みによって形成された傾きのある側壁上に入射する。大きな入射角のため、切削スピードが大幅に向上し、複数回の重なり合う切り込みを行って広い溝を生成することに必要な時間は、試料の周に沿って単一の深い切り込みを入れるよりも短くできる。 （もっと読む）