【課題】貫通シリコンビア形成時におけるビア内側壁の銅シード層のカバレッジが良好で均一な銅配線層を有するめっき物を提供することを目的とする。
【解決手段】基材上にバリア層として形成された、タングステン及びタングステンと合金化した際に銅に対するバリア性を有する金属（Ａ）との合金薄膜、その上に無電解置換銅めっきにより銅シード層、さらに前記無電解置換銅めっきを実施したのと同一のめっき液を用いた電気銅めっきにより銅配線層がこの順番で形成されてなる、貫通シリコンビアを有するめっき物。 （もっと読む）

【課題】チタン銅の特性改善を図ることのできる新たな製造方法を提供する。
【解決手段】Ｔｉを２．０〜４．０質量％含有し、第３元素群としてＭｎ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ｂ及びＰよりなる群から選択される１種又は２種以上を合計で０〜０．５質量％含有し、残部銅及び不可避的不純物からなる電子部品用銅合金の製造方法であって、最終の溶体化処理後に、導電率を０．５〜８％ＩＡＣＳ上昇させる熱処理を行い、冷間圧延、及び時効処理を順に行うチタン銅の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ポリイミドフィルム上にスパッタリング及びメッキ処理により銅層を形成した２層銅張積層板（２層ＣＣＬ材料）において、耐折性を向上させる熱処理後に、さらに酸化変色を防止できる２層銅張積層板の製造方法及び２層銅張積層板を得る。
【解決手段】ポリイミドフィルム上にスパッタリングによりＮｉ、Ｃｏ、Ｃｒから選択した１種の金属層又はこれら２種以上の金属からなる合金層を形成し、さらにこの金属層又は合金層の上にスパッタリング又はメッキにより銅層を形成した２層銅張積層板であって、さらにこの銅層の上に、Ｃｒ及び／又はＣｒ酸化物からなる層を備えていることを特徴とする２層銅張積層板。 （もっと読む）

【課題】 絶縁基板との接着性、エッチング性に優れ、且つ、製造効率の良好なプリント配線板用銅箔を提供する。
【解決手段】 銅箔基材と、該銅箔基材表面の少なくとも一部を被覆する被覆層とを備えたプリント配線板用銅箔であって、該被覆層は、銅箔基材表面から順に積層した、Ｆｅと、Ｎｉ及び／又はＣｒと、を主に含む鉄合金層及びＣｒ層で構成され、該被覆層には、Ｃｒが合計で１８〜２００μｇ／ｄｍ²、Ｆｅ及びＮｉが合計で１５〜４００μｇ／ｄｍ²の付着量でそれぞれ存在するプリント配線板用銅箔。 （もっと読む）

【課題】絶縁基板との接着性及びエッチング性の両方に優れ、ファインピッチ化に適したプリント配線板用銅箔を提供する。
【解決手段】銅箔基材と、該銅箔基材表面の少なくとも一部を被覆する被覆層とを備えたプリント配線板用銅箔であって、該被覆層は銅箔基材表面から順に積層したＭｏ層及びＣｒ層で構成され、該被覆層にはＣｒが１８〜１８０μｇ／ｄｍ²、Ｍｏが２５〜１０３０μｇ／ｄｍ²の被覆量で存在するプリント配線板用銅箔。 （もっと読む）

【課題】非鉄製錬、基板や電子部品などのリサイクル原料の溶融炉や産業廃棄物の溶融処理炉の煙灰から鉛を回収する方法において、アノード鋳造された鉛の電解精製においてフッ素除去設備を設置する必要なく、平滑な電着鉛を回収することができる鉛の電解方法を提供する。
【解決手段】鉛、スルファミン酸からなる電解液中にノイゲンBN-1390及び又はノイゲンBN-2560を１〜７００mg/Lになるように添加することで平滑な電着鉛を回収することを特徴とする鉛の電解方法。 （もっと読む）

【課題】銅張り積層板の銅箔エッチングにより回路形成を行うに際し、エッチングのダレを防止し、エッチング側面の傾斜角度が８０〜９５度の範囲にある回路幅の均一な回路形成する。
【解決手段】エッチングにより回路形成を行うに当たり、エッチング面側に銅よりエッチングレートの遅いコバルト、ニッケルなどの金属、又は合金層７を形成した電子回路用銅箔１の表面にエッチング用レジスト層３を形成し、塩化第二銅水溶液を用いてエッチングする。 （もっと読む）

【課題】 フッ素除去設備を設置する必要なく、平滑な電着鉛を回収することができる鉛の電解方法が要望されている。
【解決手段】電解液中に鉛を２０〜１００g/L、スルファミン酸を２０〜１００g/Lにすることにより平滑な電着鉛を回収することを特徴とする鉛の電解方法。 （もっと読む）

【課題】 増加する産業廃棄物をこれまで以上に大量に処理しても溶融炉の炉内温度の上昇を押さえ、溶融炉の寿命を保持することができ、急冷塔から回収したダスト、バグフィルタで捕集したダスト、中和塔又はミストコットレルでの洗浄液を排水処理した中和滓から回収したダストをガス化溶融炉で再度処理するに際して流動層式ガス化炉の炉動床の散気ノズルの閉塞を起こすことがないガス化溶融炉の操業方法を提供する。
【解決手段】 流動層式のガス化炉に投入した産業廃棄物を下部側から吹き込んだ空気によって流動層を形成することにより産業廃棄物の一部を熱分解によってガス化して有価金属を含む不燃物を回収すると共に、ガス化炉で生成した熱分解ガスと熱分解ガスによって移送される不燃物の一部を溶融炉で処理してスラグを生成するガス化溶融炉の操業方法において、カルシウムを含むダストをスラリー化して溶融炉内に吹き込むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】相変化型メモリーの書き換え特性、結晶化速度を向上させることができる相変化型メモリー用スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】３元系以上の元素からなり、アンチモン、テルル又はセレンから選んだ１成分以上を主成分とし、目標組成に対する組成のずれが±１．０ａｔ％以下であることを特徴とする相変化型メモリー用スパッタリングターゲット及び該ターゲットを用いて形成された相変化メモリー用膜とする。 （もっと読む）