【課題】センサのコスト及び嵩増大、及び／又は測定の精度不良を回避又は低減する光学スキャン機構を提供する。
【解決手段】装置は、リソグラフィ基板Ｗ上のマーク２０２の位置を測定する。測定光学システムは、マークを放射スポットで照明する照明サブシステムと、マークによって回折した放射を検出する検出サブシステム５８０とを備える。傾斜ミラー５６２は、放射スポットを、マーク自体のスキャン運動と同期して測定光学システムの基準フレームに対して移動させて、正確な位置測定値を取得するより多くの時間を提供する。ミラー傾斜軸５６８は、ミラー平面と対物レンズ５２４の瞳面Ｐとの交点に沿って配置され、スキャンのアーティファクトを最小限にする。他のタイプの装置、例えば共焦顕微鏡におけるスキャンのために同じ幾何学的構成を使用できる。 （もっと読む）

【課題】オーバーレイ測定、非対称性測定、およびインダイオーバーレイターゲットの再構築を可能にする。
【解決手段】四分くさび光デバイス（ＱＷ）は、基板から散乱した放射の回折次数を別々に再誘導し、第１方向および第２方向の各々に沿って照明から回折次数を分離する。例えば、０次（０、０’）および１次（−１、＋１’）を、各入射方向について分離する。マルチモードファイバ（ＭＦ）での捕捉の後、スペクトロメータ（Ｓ１−Ｓ４）を使用して波長（Ｉ_０’（λ）、Ｉ_０（λ）、Ｉ_＋１’（λ）、およびＩ_−１（λ））の関数としての空間的に再誘導された回折次数の強度を測定する。そして、これをオーバーレイエラーの計算、または単一格子の非対称パラメータの再構築に用いる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、放射ディテクタ、放射ディテクタの製造方法、および放射ディテクタを含むリソグラフィ装置に関する。
【解決手段】放射ディテクタは放射感応性表面を有する。放射感応性表面は、１０〜２００ｎｍの波長の放射および／または荷電粒子に感応する。放射ディテクタは、シリコン基板、ドーパント層、第１電極、および第２電極を有する。シリコン基板は、特定の導電タイプのドーピングプロファイルを有する第１表面側の表面領域内に設けられる。ドーパント層は、シリコン基板の第１表面側に設けられる。ドーパント層は、ドーパント材料の第１層と、第２層とを有する。第２層は拡散層であり、この拡散層は、シリコン基板の第１表面側の表面領域に接する。第１電極はドーパント層に接続される。第２電極はシリコン基板に接続される。 （もっと読む）

【課題】従来技術には開示されていない方法で照明モードを形成することのできる照明系を提供する。
【解決手段】照明系は、放射を瞳面に導くよう構成された制御可能ミラーアレイと、放射サブビームを制御可能ミラーアレイに導くよう構成されたレンズアレイとを備える。レンズアレイの第１レンズおよび制御可能ミラーアレイの制御可能ミラーは第１屈折力を有する第１光チャネルを形成し、レンズアレイの第２レンズおよび制御可能ミラーアレイの制御可能ミラーは第２屈折力を有する第２光チャネルを形成し、第１光チャネルにより形成される放射サブビームが瞳面において第１の断面積および形状を有し、第２光チャネルにより形成される放射サブビームが瞳面において異なる第２の断面積および／または形状を有する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の構成要素から液体と気体の混合物を排出する改良型のシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】領域から液体と気体の混合物を引き出すように構成された排出システムを提供する。この排出システムは、２相両立ポンプと、混合物を前記２相両立ポンプに提供する液体／気体ホモジナイザとを備える。液体／気体ホモジナイザは、保持タンクおよび多孔性ブロックを有し、多孔性ブロックは記気体の細かい気泡を液体中に懸濁させて混合物を均質化するように構成される。 （もっと読む）

【課題】投影システムの最終エレメントと基板の間の空間に液体を維持する流体ハンドリングシステムを提供する。
【解決手段】流体ハンドリング構造は、ガスドラッグ原理で動作するメニスカス固定システムとして作用する複数の開口と、メニスカス固定システムの外側の、後に残されるあらゆる液体の膜を解体するためのガスナイフとを有している。ガスナイフとメニスカス固定システムの間の分離は、１ｍｍから５ｍｍまでの範囲から選択される。ガスナイフおよびメニスカス固定システムが提供される障壁部材の下面は連続していることが望ましく、たとえばガスナイフとメニスカス固定システムの間に開口を有していないことが望ましい。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置に使用する反射型ＥＵＶ光コンポーネントに、ＥＵＶ反射率を実質的に損なうことなく硫黄汚染を減少する保護キャップ層を提供する。
【解決手段】反射型光コンポーネントがＥＵＶ放射を反射するように構成される。この反射型光コンポーネントは、バイメタルキャップ層の外表面が確実に硫黄に対して実質的に非反応性であるまたは非吸着性であるように選択された、異なる第１および第２の金属からなるバイメタルキャップ層を有する反射層を有する。バイメタルキャップ層は、２つの金属の合金であっても、または、反射層上に堆積された第１の金属からなるベース層とベース層上の第２の金属からなる表面層とから構成されてもよい。２つの金属の相互作用によって、ＳＯ_２といった硫黄含有分子の、キャップ層の外面に対する結合エネルギーの変更をもたらすので、反射率の損失をもたらす硫黄吸着が減少または排除される。 （もっと読む）

【課題】２相抽出によって生成される振動が低減又は解消される流体ハンドリングシステムを提供する。
【解決手段】液浸リソグラフィ装置は、通常、流体ハンドリングシステムを備える。流体ハンドリングシステムは、一般に所与の場所からガスと液体との混合物を除去する２相流体抽出システムを備える。抽出流体は２つの相を含むため、抽出システム内の圧力は変動することがある。この圧力変動が液浸液内を通過して露光の不正確さを引き起こすことがある。抽出システム内の圧力変動を低減するために、バッファチャンバを使用することができる。このバッファチャンバは、圧力変動を低減する一定容積のガスを提供するために流体抽出システムに接続されてもよい。代替的に又は追加的に、流体抽出システム内のどこかに可撓性壁部を提供してもよい。可撓性壁部は、流体抽出システム内の圧力変化に応答して形状を変えてもよい。形状を変えることで、可撓性壁部は圧力変動を低減又は解消する助けになる。 （もっと読む）

【課題】液浸投影露光装置において、基板および浸漬液の温度勾配による画像のゆがみを減じる。
【解決手段】投影露光装置ＰＬの最終段の部材、基板および浸漬液体の温度を共通の目標温度Ｔ４に調整する温度制御器を含む浸漬リトグラフ装置であって、これら構成部材の全温度を調整し、温度勾配を減少させることで、画像形成の整合性と全体的性能を向上させる。使用する手段は、フィードバック回路によって浸漬液の流速および温度を制御することを含む。 （もっと読む）

【課題】
リソグラフィック装置及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】
投影システムの最終エレメントと基板Ｗの間に配置される液浸液と共に使用するためのリソグラフィック投影装置を開示する。投影システム、基板テーブル及び液体拘束システムのコンポーネントを保護するための複数の方法を開示する。これらの方法には、投影システムの最終エレメント２０に保護コーティングを施すステップと、コンポーネントの上流側に犠牲体を提供するステップが含まれている。また、ＣａＦ_２の２コンポーネント最終光学エレメントを開示する。 （もっと読む）