【課題】疎液性及び／又は親液性を低下させる可能性又は速度を低減するリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】液浸リソグラフィ装置は、使用中に液浸液と接触する少なくとも１つの活性基（例えば疎液基）を有する表面と、表面の活性基よりも液浸液の光イオン化の生成物との反応が強い保護成分を含む液浸液を提供するように構成された液浸液供給システムとを備え、保護成分は１ｐｐｍと０．１ｐｐｍの間の量で存在する。 （もっと読む）

【課題】例えば、支持体の移動に関連する何らかの問題に対処する構成を提供する。
【解決手段】ある装置は、一実施例においては、第１流れ制限表面を有する第１平面要素を含むパターニングデバイス支持体と、第１流れ制限表面に対向する第２流れ制限表面を含む第２平面要素と、第２平面要素に対し支持体をある方向に沿って直線的に移動させる支持体駆動部と、を有し、第１及び／又は第２の流れ制限表面は第１及び第２の流れ制限表面間に１つ又は複数の凸部及び／又は凹部を有し、第１及び／又は第２の流れ制限表面の凸部及び／又は凹部は、流れに垂直な第１及び／又は第２の流れ制限表面単位幅につき、上記方向に垂直な流れに対してよりも上記方向に平行な流れに対して小さい流れ抵抗を提供するよう配設されている。流れ制限表面は発熱する駆動部分に気体流れを向けてもよい。 （もっと読む）

【課題】回折格子の輪郭を再構築するＣＳＩアルゴリズムを開示する。
【解決手段】電流密度Ｊの体積積分式を解くには、Ｊの近似解を求めるように、Ｅ及びＪの連続成分を選択することにより、電場Ｅ^Ｓ及び電流密度Ｊに関連するベクトル場Ｆ^Ｓの暗示的構築を使用し、Ｆは１つ又は複数の材料境界にて連続している。Ｆは、少なくとも１つの方向ｘ、ｙに関して少なくとも１つの有限フーリエ級数で表され、体積積分式を数値的に解くステップは、Ｆの畳み込みによってＪの成分を決定することを含み、畳み込み演算子Ｍは、両方向の材料及び幾何構造の特性を含む。Ｊは、両方向に関して少なくとも１つの有限フーリエ級数で表すことができる。連続成分は、Ｅ及びＪに作用する畳み込み演算子Ｐ_Ｔ及びＰＮを使用して抽出することができる。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ放射源の集光ミラー上へのイオン、原子、分子及び粒状デブリなどの堆積率を減少させるための汚染バリアを有する放射源を提供する。
【解決手段】放射源は、燃料が放射ビームと接触してプラズマを形成するプラズマ形成部位を含む。ミラー付きコレクタは、第１焦点で生成されたＥＵＶ放射を集めて第２焦点に向かって反射させる。汚染バリアは、汚染バリアの周縁部が第２焦点においてミラーによって規定される立体角のうちの５０％より多くを閉塞しないように位置決めされ、それによって、集光ミラーによって反射したＥＵＶ放射は汚染バリアを通り抜けることによって過度に減衰されない。汚染バリアは、プラズマからのイオン、原子、分子又はナノ小滴などの燃料材料をトラップする働きをし、集光ミラー上への堆積を防ぐ。ガス抽出口は、集光ミラーに向かう燃料デブリ及び汚染の拡散を抑制するためにプラズマ形成部位付近に設けられてよい。 （もっと読む）

【課題】改良されたレベルセンサを提供する。
【解決手段】レベルセンサはリソグラフィ装置において基板表面高さを測定する。レベルセンサには、検出用の放射を基板に発する光源と、基板から反射された放射を測定するための検出器ユニットと、が設けられている。光源は、リソグラフィ装置において基板を処理するために使用されるレジストが反応する波長域の検出用放射を発する。 （もっと読む）

【課題】投影システム、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法の様々な構成を開示する。
【解決手段】開示した構成によれば、投影システムは、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上へ投影するように構成される。投影システムは、第１の面と第２の面とを有する光学素子を含む。第１の面は、リソグラフィ装置の外側に接続された外部ガス環境に曝されるように構成される。第２の面は、外部ガス環境から実質的に隔絶された内部ガス環境に曝されるように構成される。投影システムはさらに、外部ガス環境内の圧力変化、又は内部ガス環境との外部ガス環境との間の圧力差に応じて、内部ガス環境内の圧力を調整するように構成された圧力補償システムを含む。 （もっと読む）

【課題】基板テーブルの正確な位置測定のための位置測定システムを備えるリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】基板テーブルの位置を測定する基板テーブル位置測定システムと、投影システムの位置を測定する投影システム位置測定システムと、を含むリソグラフィ装置である。基板テーブル位置測定システムは、基板テーブルに取り付けられた基板テーブル基準要素と、第１センサヘッドと、を含む。基板テーブル基準要素は、基板テーブル上の基板の保持面と実質的に平行な測定面に広がる。保持面は測定面の一方の側に設けられ、第１センサヘッドは測定面の反対側に設けられる。投影システム位置測定システムは、ひとつ以上の投影システム基準要素と、センサアセンブリと、を含む。センサヘッドおよびセンサアセンブリまたは関連する投影システム測定要素はセンサフレームに取り付けられる。 （もっと読む）

【課題】基板の温度を制御することができるリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、基板を保持するように構成された基板テーブルと、開口部を通りかつ基板のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムと、開口部内に出口を有する導管とを含む。導管は、ガスを開口部に供給するように構成される。リソグラフィ装置は、制御システムによって制御される冷却装置をさらに含む。冷却装置は、開口部から基板に移動するガスが基板に入射したときにガスが所定の温度を有するようにガスを冷却するように構成される。 （もっと読む）

【課題】アライメントセンサのスループットを低下させることなく、正確な測定を可能にする。
【解決手段】測定光学システムは、マーク２０２を放射スポットで照明する照明サブシステムと、マークによって回折した放射を検出する検出サブシステム５８０とを備える。基板と測定光学システムは互いに対して第１の速度（ｖ_Ｗ）で移動して、放射スポットを測定光学システムの基準フレームに対して第２の速度（ｖ_ＳＰＯＴ）で同期させて移動させながらマークをスキャンする。スポットは、第１の速度より低い第３の速度で（ｖ_ＥＦＦ）でマークをスキャンして正確な位置測定値を取得するより多くの時間を提供する。対物レンズ５２４は基準フレームとの関係で固定され、一方可動光学素子５６２は基準フレームに対する放射スポットの移動を与える。 （もっと読む）

【課題】液浸露光装置において、投影システムと基板との間からの液体のオーバーフローや液体への気泡含有の機会を軽減するように対策がとられた液体供給システムを提供する。
【解決手段】投影システムＰＬと基板Ｗの間に少なくとも部分的に液体を閉じ込めるバリア部材１０に、突出体１００を設けた。突出体１００はバリア部材１０の他の部分より投影システムＰＬに近接しており、液体のメニスカス１１０が突出体１００と投影システムＰＬとの間に張り付くのを助ける。 （もっと読む）