【課題】回折次数の重なりを防止しつつ基板の特性を精度良く求める技術を提供する。
【解決手段】角度分解分光法に対しては、４つのクアドラントを有する照明プロファイルを有する放射ビームが使用される。第１および第３クアドラントが照明される一方、第２および第４クアドラントは照明されない。したがって、結果として生じる瞳面は４つのクアドラントに分けられ、ゼロ次回折パターンのみが第１および第３クアドラントに現れて一次回折パターンのみが第２および第３クアドラントに現れる。 （もっと読む）

【課題】アパーチャを通り抜ける調節された放射ビームの均一性を維持するための新しい技術を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射源装置からＥＵＶ放射ビームを受け、かつビームを調節してレチクルなどのパターニングデバイスのターゲット領域を照明するためのイルミネータを含む。レチクルは、パターン付き放射ビームを形成する。投影システムは、ＥＵＶリソグラフィによってパターンをパターニングデバイスから基板に転写する。センサは、ビームが特に非スキャン方向でレチクルに近づくにつれて調整されたビームにおける残留非対称性を検出するために設けられている。フィードバック制御信号は、検出された非対称性に応じて放射源のパラメータを調整するように生成される。フィードバックは、照明スリットの両端における２つのセンサによって測定された強度比率に基づいており、ＥＵＶ放出プラズマを生成するレーザパルスのタイミングを調整する。 （もっと読む）

【課題】泡混入の可能性を少なくとも低減できるリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、本流体ハンドリング構造は、液浸流体を入れるよう構成された空間から本流体ハンドリング構造の外部の領域への境界において、空間からの半径方向外向きの液浸流体の通過に抵抗するメニスカス固定特徴部と、線形アレイ状の複数のガス供給開口と、線形アレイ状の複数のガス供給開口の半径方向外側に設けられた少なくともひとつのガスリカバリ開口と、を備える。複数のガス供給開口はメニスカス固定特徴部を少なくとも部分的に囲み、複数のガス供給開口はメニスカス固定特徴部の半径方向外側に設けられる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、パラメータの変動に対して非常に感度が高く、従って複数のフィーチャを有するターゲット設計を結像するために使用されるリソグラフィプロセスの較正におけるランダムで反復的な測定誤差に対して頑健であるゲージパターンを設計する方法及びシステムに関する。
【解決手段】該方法は、最も感度が高い線幅／ピッチと、最適のアシストフィーチャ配置と、の組合せを識別することを含むことができ、これは波面収差パラメータの変動などのリソグラフィプロセスパラメータの変動に対して最も感度が高いＣＤ（又は他のリソグラフィ応答パラメータ）の変化につながる。該方法は、波面関連の又は他のリソグラフィプロセスのパラメータに対して特定の応答を生成するためにゲージの組合せ応答を調整できるように、複数のテストパターンを有するゲージを設計することも含むことができる。パラメータの変動に対するこの感度は、ランダム測定誤差及び／又は他のいかなる測定誤差に対しても頑健な性能につながる。 （もっと読む）

【課題】泡混入の可能性を少なくとも低減できるリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、本流体ハンドリング構造は、液浸流体を入れるよう構成された空間から本流体ハンドリング構造の外部の領域への境界において、空間からの半径方向外向きの液浸流体の通過に抵抗するメニスカス固定特徴部と、線形アレイ状の複数のガス供給開口と、を備える。複数のガス供給開口はひとつ以上のメニスカス固定特徴部を少なくとも部分的に囲み、複数のガス供給開口はメニスカス固定特徴部の半径方向外側に設けられる。線形アレイ状の複数のガス供給開口は、同様のまたは同じサイズを有する。 （もっと読む）

【課題】 パッシブガスフローシステムを含む第１の方向に移動するコンポーネントを有するリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】 パッシブガスフローシステムは、コンポーネントが第１の方向に移動するときにパッシブガスフローシステム内へガスを動かすガス入口と、ガス管路によってガス入口に接続され、パッシブガスフローシステム内へ動かされるガスを方向に誘導するガス出口とを有する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィプロセスのために好ましいレイアウトを得るための方法を提供する。
【解決手段】この方法は、複数のフィーチャを含む初期レイアウトを識別するステップと、終了条件が満足するまでフィーチャを再構成することによって、好ましいレイアウトを得るステップと、を含み、再構成するステップが、複数のリソグラフィプロセス条件に関しフィーチャへの一組の変化がリソグラフィメトリックにどのように影響したかを測定する費用関数を評価するステップと、少なくとも幾つかがフィーチャの特性の関数である一連の項に費用関数を展開するステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】最終要素への液滴及び／又はガスと液体との最終要素の界面の影響を低減し、又はそのような液滴の形成を実質的に回避するシステムを提供する。
【解決手段】投影システムと、該投影システム、液体閉じ込め構造、並びに基板及び／又は基板テーブルによって画定された液浸空間に少なくとも部分的に液浸液を閉じ込める液体閉じ込め構造とを含むリソグラフィ装置が開示される。リソグラフィ装置内で、例えば、投影システムの最終要素上の液滴の影響を低減させる、又はそのような液滴の形成を実質的に回避する手段が講じられる。 （もっと読む）

【課題】モデルベースによる複数のリソグラフィシステムの調整および性能の最適化を行うシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】ターゲットスキャナのモデルは、一組の調整可能パラメータを基準にしてターゲットスキャナの感度を画定して維持される。差分モデルは基準に対するターゲットスキャナの偏差を表す。ターゲットスキャナは、基準スキャナおよび差分モデルの設定に基づいて調整され得る。関連スキャナのファミリーの性能は、基準スキャナの性能に対して特徴付けられ得る。差分モデルは、結像挙動における差をシミュレートするために使用されてよいパラメトリックオフセットおよび他の差などの情報を含み得る。 （もっと読む）

【課題】スキャナマッチング及び安定性制御の方法を提供する。
【解決手段】本発明は、ウェーハメトロロジとリソグラフィ装置特性の直接の測定が組み合わせられて、シミュレーションモデルを用いたリソグラフィ装置／プロセスの時間ドリフトの低減を達成する様々なシステム及びプロセスの実施形態を開示する。シミュレーションモデルは、サブコンポーネントを有していてもよい。例えば、サブモデルが光学条件の第１のセットを表し、別のサブモデルが光学条件の第２のセットを表していてもよい。光学条件の第１のセットは、照明条件の標準セットで、第２のセットは照明条件のカスタムセットであってもよい。サブモデル間の相互関係を用いて、ウェーハメトロロジを用いることなくカスタム照明条件下での安定性をより速く達成できる。 （もっと読む）