【課題】テーブル、シャッタ部材、流体ハンドリング構造、及び流体抽出システムを含むリソグラフィ投影装置を開示する。
【解決手段】流体ハンドリング構造は、投影システムと（ｉ）基板、又は（ｉｉ）基板テーブル、又は（ｉｉｉ）シャッタ部材の表面、又は（ｉｖ）（ｉ）〜（ｉｉｉ）から選択された任意の組み合わせとの間に液体を供給し、閉じ込める。シャッタ部材の表面はテーブルの表面に隣接し、それと同一平面上にある。シャッタ部材とテーブルの表面はギャップによって離間することができる。流体抽出システムは、ギャップから液体を除去する。 （もっと読む）

【課題】本発明は計算プロセス制御（ＣＰＣ）の分野で幾つかの革新技術を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態によって、リソグラフィ装置の性能及び／又はリソグラフィ工程のパラメータを、事前定義されたベースライン条件の実質的に近辺に維持することで、プロセスウィンドウの最適化及びより高い歩留まりが可能になる。これは、リソグラフィ工程シミュレーションモデルを用いて、測定された時間的なドリフトをベースライン性能モデルと比較することで実行される。製造に入ると、ＣＰＣはウェーハ計測技術及びフィードバックループを活用することで特定のパターン又はレチクルに合わせてスキャナを最適化し、とりわけ、時間経過と共にオーバレイ及び／又はＣＤの均一性（ＣＤＵ）性能をモニタ及び制御してシステムをベースライン条件近くに連続して維持する。 （もっと読む）

【課題】部品への熱伝達、部品からの熱伝達、または部品間の熱伝達を容易にするリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置１００は、基板ＷＡを保持するように構成された基板テーブルＷＴと、パターン付与された放射ビームを基板ＷＡの目標部分に投影するように構成された投影系ＰＳと、を備え、使用時に真空環境内にあるリソグラフィ装置１００の投影系ＰＳの壁、基板テーブルＷＴ、ミラー２８、ヒートシンクまたは内部チャンバの壁等の部品の表面に、該表面の実効熱適応係数を増加させるように構成された反復構造を設ける。 （もっと読む）

【課題】２つのステージが互いに近づくことができるマルチステージシステムを提供することが望ましい。
【解決手段】マルチステージシステムを制御する方法であって、マルチステージシステムは、第１方向と平行に延びるステータと、ステータに対して移動可能な第１および第２ステージと、を備える。それらのステージは、磁場を生成するマグネットシステムを備える。ステータは複数のコイルを備え、複数のコイルは磁場と相互作用し、ステージをステータに対して位置決めする。本方法は、それらのステージの位置を決定することと、第１ステージ、第２ステージそれぞれの磁場と無視できない相互作用を有する可能性のあるコイルの第１および第２サブセットを選択することと、両方のサブセットの電気コイルを駆動することと、を含む。コイルを駆動することは、両方のサブセットの一部となっているコイルを決定することと、両方のサブセットの一部であるコイルを駆動対象から除くことと、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板の正確な合焦位置決めを可能にするリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体とを含む。リソグラフィ装置は、基板を保持するように構築された基板テーブルと、基板テーブルを位置決めするように構築されたポジショナと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、投影システムに対向する基板表面の一部分に係合するように配置された基板表面アクチュエータと、基板テーブルの位置を制御するように構成され、ポジショナ及び基板表面アクチュエータを駆動するように配置された位置コントローラとをさらに含む。 （もっと読む）

【課題】２相流を安定化する及び／又は少なくとも液体と気体の流れに実質的に分離し、望ましくは実質的に最小化することができる液浸リソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】液体の豊富な流れを優先的に表面に沿って流すように、２相流の気体の方が容易に進路変更し、仕切り１２４と第二壁１２３の間のギャップを介してドライチャンバ１２７に入る。流路１２５の幅、さらに所望に応じてその表面コーティングが、液体は入るが気体は入らないことを促進する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、露光装置の各種部品に対する汚染物質の付着を軽減または解消するリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】 リソグラフィ装置の基盤テーブルに備えられるセンサーなどの露光装置の各種部品の少なくとも一部に、半導体、光触媒、および（または）金属酸化物を含むコーティングを付与することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 基板ホルダ、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、及び基板ホルダの製造方法を提供する。
【解決手段】 リソグラフィ装置で使用する基板ホルダの製造方法であって、方法は、表面を有する本体と、表面から突出して基板を支持する端面を有する複数のバールとを提供することと、本体表面に隣接するキャリア表面を提供することと、本体表面上の少なくとも一部上に導電層を、キャリア表面の少なくとも一部上の一体部分を形成することとを含む。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置において第１のオブジェクトを第２のオブジェクト上にロードする方法を提供すること。
【解決手段】この方法は、ａ）第１のオブジェクトを第２のオブジェクト上にロードすること、ｂ）ある時間量だけ待つこと、ｃ）応力緩和アクションを実施することを含む。第１のオブジェクトは基板とすることができ、第２のオブジェクトは基板テーブルとすることができる。また、第１のオブジェクトは基板テーブルとすることができ、第２のオブジェクトは、基板テーブルを支持するサポート構造とすることができる。 （もっと読む）

【課題】不所望の波長の放射を減少することができる光学装置およびリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】ＥＵＶ（極端紫外線）リソグラフィ装置において、照明システムは、マルチファセットフィールドミラーとマルチファセット瞳ミラーとを含む。ミラー内のフィールドファセットミラーは、ＥＵＶ放射を特定の関連付けられた瞳ファセットミラー上に合焦させ、瞳ファセットミラーからＥＵＶ放射はターゲット領域に誘導される。各フィールドファセットミラーは、不所望のＤＵＶ（深紫外）放射を広範囲の方向に散乱するように変更される。ＤＵＶの大部分は、瞳ミラー内の隣接する瞳ファセットミラーに当たり、それにより、ターゲットＥに到達するＥＵＶ放射の量は、所望のＥＵＶ放射に比べて抑制される。ミラー間の距離が個々の瞳ファセットミラーの幅よりもかなり大きいので、良好なＤＵＶ抑制が、狭い散乱角だけで達成することができる。 （もっと読む）