【課題】改良された冷却効率を有しながら、小さい冷却流路を使用することができる熱調節システムを提供する。
【解決手段】２相熱調節システムは、リソグラフィ装置の一部１と熱接触し、自身の内側の流体を蒸発させることによって一部から熱を抽出する蒸発器３と、自身の内側の流体を凝縮することによって熱を除去する凝縮器５と、蒸発器３と凝縮器５の間に配置される流体ライン７、８と、回路内で流体を循環させるポンプ１４と、流体を保持するように構成され、回路と流体連通して自身の内側の流体との間で熱を伝達する熱交換器１８を備えるアキュムレータ１６と、流体の温度を表す測定信号を提供するように構成された温度センサ２３と、測定信号に基づいてアキュムレータの内側の流体との間で熱交換器１８によって伝達される熱の量を調整することにより、回路の内側の流体の実質的に一定の温度を維持するように構成された制御装置２７とを含む。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置において第１のオブジェクトを第２のオブジェクト上にロードする方法を提供すること。
【解決手段】この方法は、ａ）第１のオブジェクトを第２のオブジェクト上にロードすること、ｂ）ある時間量だけ待つこと、ｃ）応力緩和アクションを実施することを含む。第１のオブジェクトは基板とすることができ、第２のオブジェクトは基板テーブルとすることができる。また、第１のオブジェクトは基板テーブルとすることができ、第２のオブジェクトは、基板テーブルを支持するサポート構造とすることができる。 （もっと読む）

【課題】マスクの製造後にマスクへの補正を行うことができる改良された方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、例えば、透過率、特定の偏光状態に対する透過率、複屈折性、および／またはジオメトリといったマスクの特性を制御可能にかつ局所的に変更するように構成されたマスク補正システムを含む。マスク補正システムは、一実施形態では、放射ビームをマスクのスポット上に誘導し、マスクは、マスク補正システムに対してスキャンされる。マスク補正システムは、マスク上の複数のスポットに実質的に同時に照射する配置を含みうる。 （もっと読む）

【課題】約６．４ｎｍから約７．２ｎｍの範囲の波長を有する放射を反射させるように構成された多層ミラーが提供される。
【解決手段】多層ミラーは、第１層および第２層を含む相互層を有する。第１層および第２層は、Ｕ層またはその化合物や窒化物層およびＢ_４Ｃ層、Ｔｈ層またはその化合物や窒化物層およびＢ_４Ｃ層、Ｌａ層またはその化合物や窒化物層およびＢ_９Ｃ層、Ｌａ層またはその化合物や窒化物層およびＢ_４Ｃ層、Ｕ層またはその化合物や窒化物層およびＢ_９Ｃ層、Ｔｈ層またはその化合物や窒化物層およびＢ_９Ｃ層、Ｌａ層またはその化合物や窒化物層およびＢ層、Ｕ層またはその化合物や窒化物層およびＢ層、Ｃ層またはその化合物や窒化物層およびＢ層、ならびにＴｈ層またはその化合物や窒化物層およびＢ層、からなる群から選択される。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の投影システム内への汚染の移動を防止または制限することができるリソグラフィ装置および方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、複数の反射光学系を含む投影システムを備える。反射光学系のうちの１つには、反射光学系を通り抜ける開口部が設けられる。開口部は、ＥＵＶ放射を実質的に透過させる被覆層によって塞がれる。被覆層は、汚染が投影システムに入ることを防止する一方、パターン付きＥＵＶ放射が投影システムから基板上に移ることを可能とする。 （もっと読む）

【課題】 収差感度を判定することができるリソグラフィ方法及び／又はアセンブリを提供する。
【解決手段】 パターンフィーチャを与えるために使用されるリソグラフィ装置の光学収差の変化に対するパターンフィーチャの特性の感度を判定するリソグラフィ方法である。この方法は、第１の収差状態を確立するようにリソグラフィ装置の構成を制御し、リソグラフィ装置が第１の収差状態にある場合にリソグラフィ装置でパターンフィーチャの第１の像を形成するステップと、像の特性を測定するステップと、第２の異なる収差状態を確立するようにリソグラフィ装置の構成を制御し、リソグラフィ装置が第２の収差状態にある場合にリソグラフィ装置で前記同じパターンフィーチャの像を形成するステップと、像の同じ特性を測定するステップと、測定値を使用して収差状態の変化に対するパターンフィーチャの特性の感度を判定するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、リソグラフィ装置及びプロセスに関し、より具体的には、リソグラフィ装置の解像限界を超えてターゲットパターンを印刷するための多重パターニングリソグラフィに関する。ここではリソグラフィプロセスにより基板上に結像されるパターンを複数のサブパターンに分割する方法を開示する。
【解決手段】この方法は、サブパターンのうちの少なくとも１つと、リソグラフィプロセスに使用されるリソグラフィ装置の光学設定との間の共最適化の要件を認識するように構成された分割ステップを含む。回折シグネチャ解析に基づくインテリジェントパターン選択を含む、デバイス特徴最適化技術を、多重パターニングプロセスフローに統合することもできる。 （もっと読む）

【課題】高加速、および高帯域で制御できる平面モータを提供する。
【解決手段】平面モータは、第１ピッチで繰り返し配列された複数の固定子極ＳＴＰを有し、複数の固定子極が移動面の第１側に対向する、固定子ＳＴと、第２ピッチで繰り返し配列された複数の移動体極ＭＰＳを有し、複数の移動体極が前記移動面の第２の反対側に対向する、移動体ＭＶと、を備える。固定子および移動体のうち少なくとも一方の極に、各巻線を流れる電流に応じて固定子極と移動体極のそれぞれにおける磁界を変更するための巻線が設けられる。固定子および移動体の少なくとも一方が永久磁石ＰＭＴを有しており、永久磁石から固定子および移動体の少なくとも一方の極を通って固定子および移動体の他方に延びる磁界を発生させる。第１ピッチと第２ピッチは互いに異なり、移動体極の一つが固定子極の一つと整列するとき、他の移動体極は固定子極と整列しない。 （もっと読む）

【課題】容積が少なく、コスト効率が高い変形センサ、又は代替の変形センサをリソグラフィ装置に提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと、リソグラフィ装置のオブジェクトの変形を決定する変形センサとを含み、変形センサはオブジェクト上又はその内部に配置された少なくとも１つの光ファイバであって１つ又は複数のブラッグ格子を含む光ファイバと、１つ又は複数のブラッグ格子に問い合わせする問合せシステムとを含む。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の処理能力を大きく損なうことなく、重ね合わせ精度を向上させる方法及び装置を提供する。
【解決手段】露光条件を最適化するために基板の露光時に基板上の位置合わせ標識を検査する。基板１０が露光及び位置合わせユニット１５の真下で走査を受けるとき、基板のそれぞれの部分が最初に検出器ユニット１６の下方を通過し、次いで露光ユニット１７の下方を通過する。したがって、基板１０のそれぞれの部分に関して検査器ユニット１６によって測定された、直線位置、配向、及び膨張に関する情報が露光ユニット１７に伝達可能であり、基板が露光ユニット１７の真下を通過しながら基板が露光されるとき、基板の当該部分に関する露光条件を最適化することができる。 （もっと読む）