【課題】 より均一であるＥＵＶ放射を提供すること。
【解決手段】 燃料の小滴を相互作用点に送出するように構成された燃料小滴ジェネレータと、プラズマを生成するために燃料蒸発および励起放射を相互作用点に送出するように構成された光学系と、プラズマによって放たれるＥＵＶ放射を集光するように構成されたコレクタとを含むＥＵＶ放射を生成するように構成された放射源。光学系は、使用中において燃料蒸発および励起放射が相互作用点における燃料小滴の１つより多い側面に入射するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内のオブジェクトを位置決めする位置決めデバイスを提供する。
【解決手段】ショートストロークユニット１２，１３の各々は、ショートストロークユニットとロングストロークユニット１５との間に少なくとも１つの作動力を独立して提供するように構成されたショートストロークアクチュエータシステム２２，２３を含む。ロングストロークユニットは、ロングストロークユニットとリソグラフィ装置の基準構造との間に少なくとも１つの作動力を提供するように構成されたロングストロークアクチュエータシステム１６を含む。 （もっと読む）

【課題】例えば、リソグラフィ装置の基板テーブルの制御を更に改善する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、投影系、基板テーブル、複数のセンサ、少なくとも１つのアクチュエータ、及びコントローラを備える。投影系は、パターンが与えられた放射ビームを基板に投影するためにある。基板テーブルは、基板を支持し、投影系に対し移動するよう構成されている。複数のセンサは、基板テーブルの変形を測定するよう構成されている。少なくとも１つのアクチュエータは、基板テーブルを変形させるよう構成されている。コントローラは、センサにより行われた測定に基づいて基板テーブルを変形させるように、アクチュエータを制御するよう構成されている。複数のセンサは、投影系に対向する基板テーブルの第２の片側とは反対の基板テーブルの第１の片側に配置されている。複数のセンサは、投影系に対し実質的に静止している。 （もっと読む）

【課題】放射システムおよびリソグラフィ投影装置のアライメントおよび接続に要する電子回路の量を制限する。
【解決手段】クランプデバイスが、２つの部品をともにクランプするように構築および配置される。このクランプデバイスは、２つの部品を互いに対する位置合わせされた位置に動かすアライナと、２つの部品を前記位置合わせされた位置で維持するクランプと、２つの部品を、前記位置合わせされた位置から、ある切り離された位置に導くディスコネクトと、電流を運動エネルギーに変換するアクチュエータと、を有する。 （もっと読む）

【課題】当技術分野に関連する問題を克服または軽減する新しい波面変更装置を提供する。
【解決手段】波面変更装置は、複数の音響エミッタを有する。音響エミッタは、少なくとも部分的に放射ビーム導管を横断して進む音波を放出するよう構成される。音響エミッタは、少なくとも部分的に放射ビーム導管を横断して延在する定在音波を確立するよう構成されてよい。波面変更装置は、リソグラフィ装置に設けられてよく、パターンを基板上に投影するためにリソグラフィ装置により用いられる放射ビームの波面を変更するために用いられてよい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、原子状水素を含むことが好ましい洗浄ガスを汚染層（１５）に接触させることによって、ＥＵＶ反射光学要素（１４）の光学面（１４ａ）から汚染層（１５）を少なくとも部分的に除去すること。
【解決手段】本方法は、汚染層（１５）から物質を除去するために、汚染層（１５）に向けて洗浄ガスの噴流（２０）を送るステップと、汚染層（１５）の厚さを表す信号を生成するために、汚染層（１５）をモニタするステップと、汚染層（１５）の厚さを表す信号をフィードバック信号として使用して、光学面（１４ａ）に対して洗浄ガス噴流（２０）を移動させることによって、洗浄ガス噴流（２０）を制御するステップとを含み、さらに対応する洗浄構造（１９〜２４）に関する。本発明は、洗浄ガス噴流（２０）を生成するための方法、ならびに対応する洗浄ガス生成構造にも関する。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ装置内の液浸液と接触する基板及び／又は基板テーブル上で蒸発熱負荷による熱膨張及び／又は収縮による結像エラー、特にオーバレイエラーが引き起こされることを防止するため、ヒータの制御を容易にし、温度勾配が存在する状況で使用可能な温度検知プローブを提供する。
【解決手段】基板を支持するバールプレート内に１つ又は複数のヒータ４００を形成する。さらに温度検知プローブ５００は２つの部分６１０、６２０の平均温度を検知できる。温度検知プローブは第１の方向に細長く、少なくとも一方向に２０℃で少なくとも５００Ｗ／ｍＫの熱伝導率を有する材料からなる細長いハウジング内の温度センサを含む。 （もっと読む）

【課題】赤外放射に対処する放射源を提供する。
【解決手段】 放射源は、レーザビームによって蒸発させてプラズマを形成するために燃料をプラズマ放出位置に供給するように構成された燃料源を備え、さらに、プラズマにより放出されたＥＵＶ放射を集光し、かつ中間焦点に向けて誘導するように構成されたコレクタであって、プラズマにより放出された赤外放射を回折するように構成された回折格子をさらに備えるコレクタを備えた放射源であって、この放射源は、さらに、中間焦点の前に配置された放射導管であって、当該放射導管が、内側に向けてテーパをつけられた本体により出口アパーチャと接続された入口アパーチャを備え、当該放射導管は内側部分および外側部分を備え、内側部分が外側部分よりも中間焦点に近く、内側部分が、入射した回折赤外放射を外側部分に向けて反射するように構成される、放射導管を備える。 （もっと読む）

【課題】 投影システムの最終要素と基板との間の空間に液体を維持する流体ハンドリングシステムを提供する。
【解決手段】 リソグラフィ装置用の流体ハンドリング構造であって、流体ハンドリング構造の外側の領域に液浸液を封じ込めるように構成された空間の境界において、使用時に、基板及び／又は基板を支持するように構成された基板テーブルの方へ誘導される第１の列内に配置された細長い開口又は複数の開口と、第２の列内に配置された細長いアパーチャを有するガスナイフデバイスと、ガスナイフデバイスに隣接する細長い開口又は複数の開口とを連続して有する流体ハンドリング構造が開示される。 （もっと読む）

【課題】テーブル、シャッタ部材、流体ハンドリング構造、及び流体抽出システムを含むリソグラフィ投影装置を開示する。
【解決手段】流体ハンドリング構造は、投影システムと（ｉ）基板、又は（ｉｉ）基板テーブル、又は（ｉｉｉ）シャッタ部材の表面、又は（ｉｖ）（ｉ）〜（ｉｉｉ）から選択された任意の組み合わせとの間に液体を供給し、閉じ込める。シャッタ部材の表面はテーブルの表面に隣接し、それと同一平面上にある。シャッタ部材とテーブルの表面はギャップによって離間することができる。流体抽出システムは、ギャップから液体を除去する。 （もっと読む）