【課題】より大きい負荷に耐えられる冷却システムを有するリソグラフィ装置のための改良型アクチュエータを提供する。
【解決手段】電磁アクチュエータ用の冷却体の第１の部材ＦＭを第２の部材ＳＭへ放射ビーム溶接する方法であって、第１の部材ＦＭはその１つの側に、凹部ＲＥが設けられた表面部分を有し、凹部ＲＥは周縁部によって区切られ、第２の部材ＳＭは、凹部ＲＥ閉鎖するために第１の部材ＦＭの表面部分ＣＳＰを補完する実質的に連続する第１の表面部分を有し、第２の部材ＳＭは第１の表面部分ＣＳＰの反対側に第２の表面部分ＳＳＰを有し、前記方法は、第１の表面部分が第１の部材の表面部分に係合するように、第１及び第２の部材を配置するステップと、放射ビームを提供するステップと、第１及び第２の部材が凹部ＲＥの周縁部で一緒に溶接されるように、第２の表面部分へ向けて放射ビームを誘導するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置における改良型測定システムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持する支持体と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、測定システムであって、測定放射ビームを提供する測定放射システムと、リフレクタ間で測定ビームの一部分を反射する少なくとも２つのリフレクタと、リフレクタの１つを通して伝送される測定ビームの少なくとも一部分の波長を検出するディテクタとを備える測定システムと、を含む。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置用に冷却システムを設けること。
【解決手段】リソグラフィ装置は、コンポーネントと、コンポーネントに局所冷却負荷を与える局所冷却器とを含む。局所冷却器は、コンポーネントの上流の流量制限器を含み且つ流量制限器から出るガスの流れを誘導してコンポーネントの表面を冷却するように構成されるガス通路、を有する。 （もっと読む）

【課題】従来の較正方法と比べてあまり時間がかからない較正を適用するより正確な位置測定システムを提供する。
【解決手段】位置測定システムは、第１部分ＥＧおよび第２部分ＥＳと、計算ユニットと、を備える。第１部分および第２部分は、第２部分に対する第１部分の位置を表す位置信号を提供することによって第２部材に対する第１部材の位置を決定する。計算ユニットは、位置信号を受信するための入力端子を含む。計算ユニットは、使用中、位置信号に変換を適用して第２部材に対する第１部材の位置を表す信号を得るように、および、変換に調整を適用して第１部分または第２部分あるいは両方のドリフトを少なくとも部分的に補償するように、構成される。調整は、第１部分または第２部分あるいは両方のそれぞれの所定のドリフト特性に基づく。所定のドリフト特性は、第１部分および／または第２部分の１つ以上の基本形状を有する。 （もっと読む）

【課題】１単位時間当たりの露光可能なダイの数を最適化するために、新たなドーズ制御方法を提供する。
【解決手段】対応する励起レーザ放射のパルスによってＥＵＶ放射のパルスが燃料材料の励起から生成される変換効率を変化させることによって、リソグラフィ装置のＥＵＶ露光ドーズをパルス毎に制御する。変換効率は、レーザビームと相互作用する燃料材料の割合を変化させることによって、および／または、相互作用の質を変化させることによって、いくつかの異なる方法で変化させることができる。変換効率を変化させるメカニズムは、レーザパルスタイミングを変化させること、プリパルスエネルギーを変化させること、および／または、１つ以上の方向でメインレーザビームを可変的にずらすことに基づくことができる。生成されたＥＵＶ放射の対称を維持する工程を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィプロセスでの測定オーバーヘッドをさらに低減し、同時に、より高次の補正という性能上の利点を保つ。
【解決手段】基板がリソグラフィ装置の基板支持体上に装填され、その後で装置は基板アライメントマークの位置を測定する。これらの測定値が第１の補正情報を定義して、装置は基板上の１つ以上の所望の位置にパターンを与えることが可能になる。パターンの位置決めの精度を高め、特に公称アライメントグリッドのより高次の歪みを補正するために、追加の第２の補正情報が使用される。第２の補正情報は、先行のパターンを同じ基板に与える際に行われるアライメントマークの位置測定に基づく情報でもよい。代替的に又は追加的に、第２の補正情報は、現在の基板の前にパターニングされた同様の基板で行われた測定に基づく情報でもよい。 （もっと読む）

【課題】燃料が予期しないまたは意図的ではない障害または制限に遭うことなくノズルを通過することができる放射源を提供する。
【解決手段】放射源は、リザーバ、ノズル、レーザおよび正のレンズを含む。リザーバは、燃料の体積を保持するように構成される。リザーバと流体接続されたノズルは、燃料の流れを軌道に沿ってプラズマ形成配置に向かって誘導するように構成される。レーザは、レーザ放射をプラズマ形成配置における流れに誘導して、使用中、放射生成プラズマを生成するように構成される。正のレンズ構成は、燃料の流れの軌道の少なくとも潜在的な広がりをプラズマ形成配置に向かって合焦させるように構成され、レンズは電界生成要素および／または磁界生成要素を含む。 （もっと読む）

【課題】少ない応力で基板テーブル上に基板を配置することのできるリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、基板を保持する基板テーブルと、基板を基板テーブル上に位置決めするグリッパとを備える。グリッパは、基板をその上側でクランプする静電クランプを含む。静電クランプは、基板の上面の周縁外側域の少なくとも一部をクランプする。本発明は、グリッパによってリソグラフィ装置の基板テーブル上に基板を位置決めすることを含む基板ハンドリング方法を提供する。基板は、グリッパの静電クランプを用いてその上側でクランプされる。 （もっと読む）

【課題】流体流を生成する機構、およびそのような機構内における汚染制御方法を提供する。
【解決手段】本発明の第一の態様によれば、放射源であって、所定の体積の燃料を保持するように構成されたリザーバと、リザーバに流体連通し、かつ燃料流を軌道に沿ってプラズマ形成位置に向けて誘導するように構成されたノズルと、プラズマ形成位置の燃料流にレーザ放射を誘導して使用中に放射生成プラズマを生成するように構成されたレーザと、磁界を生成する磁界生成エレメントおよび電界を生成する電界生成エレメントを備える燃料汚染制御機構と、を備え、汚染の移動を制御するために、磁界生成エレメントおよび電界生成エレメントは、使用中、磁界および電界が、燃料内の汚染の位置または潜在位置において確実に重なり合うように、かつ磁界および電界の線束が当該位置において確実に非平行になるように、ともに構成される、放射源が提供される。 （もっと読む）

【課題】ノズルの内面に堆積される燃料の汚染の結果である予期しないまたは意図的でない障害または制限の影響を未然に防ぐかまたは軽減することができるシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】本発明の第１態様によると、燃料の体積を保持するように構成されたリザーバと、リザーバと流体接続されており、かつ燃料の流れを軌道に沿ってプラズマ形成配置に向かって誘導するように構成されたノズルと、レーザ放射をプラズマ形成配置における流れに誘導して使用中に放射生成プラズマを生成するように構成されたレーザと、ノズル出口の上流で放射源の燃料流路に配置された汚染フィルタアセンブリとを含む放射源が提供される。汚染フィルタアセンブリのフィルタ媒体は、フィルタ媒体を少なくとも部分的に囲う１つ以上の物体によって提供されるクランプ力によって汚染フィルタアセンブリ内の適切な位置で保持される。 （もっと読む）