【課題】誤差の影響を受けにくいが大きな空間を占有しない、改善された精密測定システムを提供する。
【解決手段】本体の動きを検出するシステムであって、本体と、基準フレームに対して実質的に静止して取り付けられた第１回折格子４０，４２と、本体に取り付けられた第２回折格子５０，５２と、第１および第２回折格子で回折された一つ以上の放射ビームを受け取り、基準フレームに対する本体の動きを検出するように構成された検出器６０，６１，６２，６３と、を備え、検出器６０，６１，６２，６３が本体に結合され、本体に対して移動可能である。 （もっと読む）

【課題】入射放射線に起因して基板上のレジスト層内に形成される像をシミュレートする方法を提供する。
【解決手段】レジスト層内のある深さでの入射放射線から発生する順方向伝搬電界又は順方向伝搬磁界を計算するステップと、レジスト層内の前記深さでの入射放射線から発生する逆方向伝搬電界又は逆方向伝搬磁界を計算するステップと、順方向伝搬電界又は順方向伝搬磁界と逆方向伝搬電界又は逆方向伝搬磁界との間の干渉を考慮することなく、順方向伝搬電界又は順方向伝搬磁界及び逆方向伝搬電界又は逆方向伝搬磁界からレジスト層内の前記深さでの放射電磁界を計算するステップと、を含む方法が本明細書に記載されている。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置のための変位測定システムを較正するための改善された方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置の可動物体の第１方向の変位を測定放射ビームおよびリフレクタを使って測定するように動作可能な干渉型変位測定システム。リフレクタは、実質的に平面的で、かつ第１方向に実質的に垂直である。較正は、可動物体の角位置の第１組の測定値を使って得られる。測定ビームの位相オフセットが影響を受ける。可動物体の角位置の第２組の測定値が得られる。干渉型変位測定システムは、第１および第２組の測定値に基づいて較正される。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィプロセスのコストおよび複雑性の増加、スループットの低下、欠陥の増加などを解消する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを供給する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与するパターニングデバイスと、基板を保持する基板ホルダと、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、を備える。このリソグラフィ装置は、第１方向の明視野強度分布と、第１方向に略垂直な第２方向の暗視野強度分布とを有する放射を用いて、少なくとも使用中、パターンを基板上に結像する。 （もっと読む）

【課題】従来の不利点の一つまたは複数を解決するセンサを有する基板テーブルを提供する。
【解決手段】センサを有する基板テーブルであって、該センサは、放射に対して不透明な物質層が設けられた物質のブロックを含む。該物質層は、放射の透過を許可するよう構成された少なくとも一つのウィンドウを有する。センサは、ウィンドウに位置する波長変換物質と、波長変換物質から放出された放射を受けるよう位置付けられた導波路を含む。該導波路は、物質のブロック中に埋め込まれるとともに、波長変換物質から放出された放射を物質のブロック中を通って検出器に向けて導くよう構成される。 （もっと読む）

【課題】基板内に粒子および／または熱で誘導される応力を回避することができ、パターンの転写精度を改善できる基板クランプシステム、及びリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】パターンをパターニングデバイスから基板Ｗに転写するように構成されたリソグラフィ装置で、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板テーブルを基板テーブルサポート構造にクランプするように構成された第一クランプシステム４０，１２８と、基板テーブルが基板テーブルサポート構造にクランプされた後に、基板を基板テーブルにクランプするように構成された第二クランプシステム４０，１２９とを含む。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内で液浸流体を使用する際の局所的な熱負荷の影響を低減する。
【解決手段】基板を支持する支持テーブルであって、基板を支持する支持セクションと、支持セクションに熱エネルギーを供給し、及び／又はそこから熱エネルギーを除去する調節システムとを有し、調節システムは、個別に制御可能な複数の調節ユニットを備える。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内で液浸流体を使用する際の局所的な熱負荷の影響を低減する。
【解決手段】リソグラフィ装置のための支持テーブルであって、支持テーブルは支持セクション及び調節システムを有し、支持セクション、調節システム、又はその両方は、支持テーブル上に支持された基板への又はからの調節システムの動作に由来する熱伝達が、基板の中心にある基板の領域より基板の縁部に隣接する基板の領域で大きくなるように構成される。 （もっと読む）

【課題】液浸液への泡混入の可能性が少なくとも低減されるリソグラフィ装置等を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置用の流体ハンドリング構造であって、流体ハンドリング構造の外側の領域に液浸流体を封じ込める空間の境界部に、該空間から半径方向外側への液浸流体の通過に抵抗するメニスカスピニングフィーチャと、該メニスカスピニングフィーチャを少なくとも部分的に囲み、メニスカスピニングフィーチャの半径方向外側にあるガス供給口と、任意選択としてガス供給口の半径方向外側のガス回収口とを備え、ガス供給口、ガス回収口、又はガス供給口とガス回収口の両方が前記空間の周囲で変動するメートル長さ当たりの開口面積を有する、流体ハンドリング構造。 （もっと読む）

【課題】液浸液の蒸発に起因する基板冷却の補償を改善する。
【解決手段】基板テーブルアセンブリ、液浸リソグラフィ装置およびデバイス製造方法が開示される。基板テーブルアセンブリは、基板を支持する基板テーブルと、基板テーブルと基板テーブル上に搭載された基板との間の領域にガスを供給するガスハンドリングシステムとを備える。ガスハンドリングシステムにより供給されるガスは、２９８Ｋで１００ｍＷ／（ｍ．Ｋ）以上の熱伝導率を有する。 （もっと読む）