【課題】流体流を生成する機構、およびそのような機構内における汚染制御方法を提供する。
【解決手段】本発明の第一の態様によれば、放射源であって、所定の体積の燃料を保持するように構成されたリザーバと、リザーバに流体連通し、かつ燃料流を軌道に沿ってプラズマ形成位置に向けて誘導するように構成されたノズルと、プラズマ形成位置の燃料流にレーザ放射を誘導して使用中に放射生成プラズマを生成するように構成されたレーザと、磁界を生成する磁界生成エレメントおよび電界を生成する電界生成エレメントを備える燃料汚染制御機構と、を備え、汚染の移動を制御するために、磁界生成エレメントおよび電界生成エレメントは、使用中、磁界および電界が、燃料内の汚染の位置または潜在位置において確実に重なり合うように、かつ磁界および電界の線束が当該位置において確実に非平行になるように、ともに構成される、放射源が提供される。 （もっと読む）

【課題】流体ハンドリング構造からのガスと流体ハンドリング構造の外部のガスとの混合が少なくとも部分的に低減されるか防止されるリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造は、液浸流体を含むよう構成された空間の本流体ハンドリング構造の外部の領域に対する境界において、空間の半径方向外側に設けられたガス供給開口と、ガス供給開口の半径方向外側に設けられた流体リカバリ開口と、本流体ハンドリング構造の下面に沿って流体リカバリ開口から半径方向外向きに少なくとも０．５ｍｍ延在するダンパ表面と、を有する。 （もっと読む）

【課題】放射が調整される少なくとも３つの光路を備える放射ビーム調整システムを提供する。
【解決手段】パルス放射ビームを調整する放射ビーム調整システムは、少なくとも第１、第２及び第３の光路に沿ってパルス放射ビームを分割する放射ビーム分割器と、単一の出力パルス放射ビームを形成するために、少なくとも第１、第２及び第３の光路からの放射パルスを再結合する放射ビームコンバイナと、第１の光路に沿って伝搬する放射パルスに合わせて構成された放射パルストリマと、を備え、放射パルストリマが、単一の出力パルス放射ビームの総エネルギー量が実質的に所定のレベルになるように、第１の光路内で前記放射パルスをトリミング処理し、第１、第２及び第３の光路の光路長は、放射ビーム分割器と放射ビームコンバイナとで異なっている。 （もっと読む）

【課題】改良されたレベルセンサアレンジメント及びその動作を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置内の基板上の少なくとも１つの実質的な反射層表面の位置を測定するための方法、並びに、関連付けられたレベルセンサ及びリソグラフィ装置が開示される。該方法は、広帯域光源を使用して少なくとも２つの干渉計測定を実行することを含む。各測定間で、広帯域ソースビームの成分波長及び／又は成分波長全体にわたる強度レベルが変化し、強度レベルのみが変化する場合、強度変化はビームの成分波長の少なくとも一部について異なる。あるいは、成分波長及び／又は成分波長全体にわたる強度レベルが異なる測定データを取得するための単一の測定及び後続の測定の処理を、位置を取得するためにも同様に適用することができる。 （もっと読む）

【課題】液浸液の存在による基板の冷却を補償する流体ハンドリング構造、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】流体ハンドリング構造は、投影システムの最終要素と対向面との間の空間内に、該構造に対する該対向面の移動中、液浸流体を閉じ込めるように構成され、該構造は、ヒータに隣接する前記対向面の部分を加熱する少なくとも１つのヒータを有し、該少なくとも１つのヒータは、該構造から前記対向面上への流体フローを加熱する流体ヒータを有し、それによって前記部分を加熱する。 （もっと読む）

【課題】非対称性といった構造欠陥の結果生じるオーバーレイエラーを判定する方法及びその関連装置を提供する。
【解決手段】当該方法は、第１及び第２構造を含む第１ターゲットの散乱特性を測定し、測定された散乱特性を用いて第１構造のモデルを構築し、モデルは第１構造に対応する第１モデル構造を含み、第１モデル構造を中間モデル構造とともにオーバーレイすることによりモデルを修正し、修正されたモデルにおける第１モデル構造と中間モデル構造との間の第１欠陥誘起オーバーレイエラーを計算し、中間モデル構造を第２構造に対応する第２モデル構造と置換することによりモデルをさらに修正し、第１及び第２モデル構造の間の第２欠陥誘起オーバーレイエラーを計算し、第１及び第２モデル構造はさらに修正されたモデルにおいて互いにオーバーレイされ、計算された第２欠陥誘起オーバーレイエラーを用いて第２ターゲットにおけるオーバーレイエラーを判定する。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ装置の表面の疎液性を増大させる。
【解決手段】液浸リソグラフィ装置は、使用時に液浸液が接触する表面を有し、表面は、０．２μｍ以下の表面粗さを有する。表面の液浸液は、６０°以上の接触角を有していてもよい。表面の液浸液が液浸液内の長期間にわたる液浸を可能にする接触角を有するように、表面はその特性を維持することができてもよい。 （もっと読む）

【課題】
マスクレス・リソグラフィをより効率的に実行する装置及び方法を提供すること。
【解決手段】
装置及び方法は、投影システム、パターン形成装置、ローパス・フィルタ、及びデータ操作装置を含む。投影システムは、基板上に放射線のビームを放射線のサブビームのアレイとして投影する。パターン形成装置は、放射線のサブビームを変調し、基板上に要求された線量パターンを実質的に生成する。ローパス・フィルタは、要求された線量パターンから誘導されたパターン・データに対し演算を実行し、それにより、選択された閾値周波数よりも下の空間周波数成分のみを主に含む周波数クリッピングされた目標線量パターンを形成する。データ操作装置は、周波数クリッピング目標線量パターンへのスポット露光強度の直接代数的最小二乗当てはめに基づいて、パターン形成装置により生成されるスポット露光強度を含む制御信号を発生する。 （もっと読む）

【課題】光学的に位置を評価する機器及び方法を提供すること。
【解決手段】リソグラフィ機器は、表面上に位置合わせマークを有する基板を支持する基板テーブルを備える。この機器はさらに、走査動作モード又はステップ動作モードを実現するために、この基板に対して相対的に移動可能なフレームを備える。基板の目標部分にそれぞれのパターン化されたビームを投影するために、このフレーム全体にわたって投影システムのアレイを配設する。このフレームに取り付けられた複数の位置合わせマーク検出器は、それぞれの直線駆動機構を使用してこのフレームに関して移動可能である。各位置合わせマーク検出器に関連する位置センサは、フレームに対する相対的な検出器の位置を求める。制御システムは、基板上の位置合わせマーク・パターンの上でこれらの検出器の初期位置決めを行うことと、リソグラフィ工程中にフレームと基板を動的に位置合わせする役割を担う。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ露光装置内で空間像を検知するための透過イメージセンシングのためのデバイスを提供する。
【解決手段】デバイスは、オブジェクトマークの空間像を投影システムのイメージ側に形成する投影システムを備える。このデバイスはさらに、空間像の少なくとも一部に対応するフィーチャを有するスリットパターンを含むディテクタを備える。スリットパターンは空間像に露光される。ディテクタはさらに、スリットパターンにより送られた検出放射を検出する。
ここで、ｄ＜０．８５・λ／ＮＡであって、
ｄはスリットパターンの最小フィーチャの寸法を表し、
λは意図する検出放射の波長を表し、
ＮＡは１より大きく、イメージ側の開口数を表す。 （もっと読む）