【課題】レジスト由来のアッシング残渣、Ｓｉ系材料由来のエッチング残渣、銅等の配線材料由来のエッチング残渣、および酸化銅からなる自然酸化膜からなる種々の残渣を十分に除去することができ、かつ半導体を形成する銅等の配線材料、絶縁膜、および低誘電層間絶縁膜を腐食させない基板洗浄液を提供する。
【解決手段】フッ化物塩、下記一般式（Ｉ）で表されるチオール化合物、防食剤および水を含有する基板洗浄液。
【化１】


（式中、Ｒ^１は水素原子または炭素数が１〜３のアルキル基であり、Ｒ^２はＣＯＯＲ^３（Ｒ^３は、水素原子または炭素数が１〜３のアルキル基である。）である。） （もっと読む）

【課題】均一な塗布膜を高速に製造するための塗布方法とそれを利用した半導体素子の提供。
【解決手段】コーティング組成物をスリットコーティング法により基板上に塗布する塗布方法であって、３０〜１００℃の範囲内で一定の温度に維持されたコーティング組成物を基板上に接触させて塗布することを特徴とする塗布方法と、それにより製造される半導体素子、特にフラットパネルディスプレイ。 （もっと読む）

【課題】パターン表面の異物、パターン倒れ、およびパターンラフネスの問題を同時に簡便に解決することができるレジスト用基板処理液とそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】炭素数が１１〜３０の炭化水素基を有する一級アミンまたはアンモニアのアルキレンオキサイド付加物と、水とを含んでなることを特徴とする、レジスト基板用処理液とそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ろ過性が良好で、塗布欠陥、現像欠陥、経時安定性に優れた微細パターン形成補助剤を提供する。
【解決手段】アセタール化ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などの水溶性変性ＰＶＡをイオン交換処理により、脱金属イオン、脱酸を行った後、８０℃以上の加熱処理を行う。これにより変性ＰＶＡ中の２５万以上の重量平均分子量を有する高分子量体成分量が低減される。加熱処理後の変性ＰＶＡと架橋剤を含む微細パターン形成補助剤を、レジストパターン３上に塗布して被覆層４を形成した後、レジストパターン３及び被覆層４を加熱することにより、レジストパターン３から被覆層に酸が拡散される。拡散された酸により、レジストパターン表面近傍の被覆層が架橋、硬化される。被覆層４を現像することにより、レジストパターン表面に架橋、硬化層５を有し、露光波長の解像限界以下のサイズを有する、現像欠陥のないホールパターンなどが形成される。 （もっと読む）

【課題】スピンレス、スリットコート法に適した、塗布膜厚均一性の高い感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】アルカリ可溶性ノボラック樹脂、感光剤、および脂肪酸と低級アルコールとのエステルを含んでなることを特徴とする感光性樹脂組成物、ならびにそれを用いたレジスト基板の製造法と、それにより製造されたレジスト基板。 （もっと読む）

【課題】アッシング残渣およびエッチング残渣を除去することができ、また、アッシング処理をしない状態のレジストを除去することができ、さらには、リワークにおけるエッチング処理前のレジストをも除去することができる基板洗浄液であって、同一の洗浄液によって、長時間にわたって複数の基板を洗浄でき、また、水リンス工程において洗浄液中に溶解したレジストが基板上に析出することがない、基板洗浄液を提供する。
【解決手段】基板洗浄液を、フッ化物塩、有機溶剤、水、２５℃におけるｐＫａが４〜１０の水溶性カルボン酸、２５℃におけるｐＫａが７〜１０のアミン、を含有するものとし、水溶性カルボン酸のアミンに対するモル比を、０．５以上、１．０未満とする。 （もっと読む）

【課題】低コストで半導体素子または表示素子を製造することができる、パターンの製造法とそれにより形成されるパターンの提供。
【解決手段】基板上に形成された感光性樹脂組成物層の上に疎液性の高い表面被覆層を形成させ、パターンを形成させる。基板上に残留する表面被覆層は疎液性が高く、一方、被覆が除去された部分は相対的に親液性が高いので、被覆が除去された部分に選択的に導電性材料含有組成物を付着させることができ、所望の配線パターンを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明はフォトレジスト組成物及び前記フォトレジスト組成物を用いた薄膜トランジスタ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】フォトレジスト組成物はノボラック樹脂及びアクリル樹脂を含む混合樹脂１００重量部及びナフトキノンジアゾスルホン酸エステル１０〜５０重量部を含む。前記ノボラック樹脂の重量平均分子量は３００００以上であり前記アクリル樹脂の重量平均分子量は２００００以上である。前記アクリル樹脂の含量は全体混合樹脂の１〜１５重量％である。前記フォトレジスト組成物は薄膜トランジスタ基板の製造工程のパターン形成の際、リフローによるプロファイルの角度変化を最小化し、パターンの構造の安定性及び残膜厚さ均一性を向上させることで配線のショート及びオープン不良を減少させることができる。 （もっと読む）

【課題】Ｌｏｗ−ｋ材等の基板材料を腐食させずに、埋め込み材を選択的に除去することができる基板洗浄液を提供する。
【解決手段】フッ化物塩および水を含有する基板洗浄液であって、このフッ化物塩の含有量を、基板洗浄液全体を１００質量％として、１０質量％以上５０質量％以下とする。 （もっと読む）

【課題】 膜表面の白濁の抑制と、残膜率低下の抑制とを両立できる感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド基を有する感光剤ならびに硬化剤を含んでなる感光性樹脂組成物であって、アルカリ可溶性樹脂がアクリル系樹脂であり、硬化剤がエポキシ基を含む硬化剤であり、さらに融点が２０℃以下であり、複数のカルボキシル基の一部が高級アルコールでエステル化されたポリカルボン酸エステル化合物を含んでなる感光性樹脂組成物、およびこの感光性樹脂組成物を用いて形成された平坦化膜あるいは層間絶縁膜を具備してなるフラットディスプレィパネルまたは半導体デバイス。前記ポリカルボン酸エステル化合物としては、脂肪族不飽和ジカルボン酸から形成されるものが好ましい。 （もっと読む）