【課題】 絶縁膜等由来のエッチング残渣、銅等の配線材料由来のエッチング残渣、およびレジスト由来のアッシング残渣からなる種々の残渣を十分に除去することができ、かつ半導体を形成する銅等の配線材料、絶縁膜、および低誘電層間絶縁膜を腐食させない基板洗浄液を提供する。
【解決手段】 フッ化物塩、下記一般式（Ｉ）で表されるチオール化合物および水を含有する基板洗浄液。
【化１】


（式中、Ｒ^１およびＲ^２は、水素原子、炭素数が１〜３のアルキル基、あるいはＣＯＯＲ^４（Ｒ^４は、水素原子または炭素数が１〜３のアルキル基である。）であり、Ｒ^３は、水素原子、ＮＨ_２、またはＮＨ（ＣＯ）Ｒ^５（Ｒ^５は、炭素数が１〜３のアルキル基である。）である。） （もっと読む）

【課題】 ドライエッチング選択比と低誘電率とを両立したエッチングストッパー層を形成するための組成物、およびそれを用いた半導体装置の製造法の提供。
【解決手段】 ケイ素含有ポリマーを含んでなるエッチングストッパー層形成用組成物であって、組成物に含有されるケイ素含有ポリマーがジシリルベンゼン構造を含んでいるエッチングストッパー層形成用組成物、およびそれを用いてエッチングストッパー層を形成させる半導体装置の製造法。 （もっと読む）

本発明は、比誘電率３．５以下のリン含有シリカ質材料を提供することを目的とする。本発明によるリン含有シラザン組成物は、有機溶媒中にポリアルキルシラザン及び少なくとも１種のリン化合物を含むことを特徴とするものである。該組成物を基板上に塗布して得られた膜を、温度５０〜３００℃で予備焼成し、次いで温度３００〜７００℃の不活性雰囲気中で焼成することにより、リン含有シリカ質膜が得られる。本発明によるリン化合物は、５価のリン酸エステル又はホスファゼン化合物であることが好適である。
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【課題】 優れた機械的強度を備え、かつ非常に低い誘電率を安定的に示し、各種の薬剤に対する耐薬品性を兼ね備えた多孔質シリカ質膜を簡便に製造することができるコーティング組成物とそれを用いたシリカ質材料の製造法の提供。
【解決手段】 ポリアルキルシラザン化合物、アセトキシシラン化合物、有機溶媒、および必要に応じて多孔質化材、を含んでなるコーティング組成物、そのコーティング組成物を焼成することにより得られたシリカ質材料、ならびにその製造法。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜等への光発生酸の拡散やレジストと反射防止膜等のインターミキシングがなく、保存安定性、ステップカバレッジ性に優れた反射防止膜又は光吸収膜を形成することのできる重合体を提供する。
【解決手段】一般式IIで示される重合体。一般式II
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【課題】反射防止膜等への光発生酸の拡散やレジストと反射防止膜等のインターミキシングがなく、保存安定性、ステップカバレッジ性に優れた反射防止膜又は光吸収膜を形成することのできる重合体を提供する。
【解決手段】一般式で示される重合体。
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【課題】 リソグラフィー用途において基体の反射率および定在波効果を効果的に低減する方法の提供。
【課題を解決するための手段】
本発明は、屈折率の実数部を反射からの作用を抑制するのに最適な範囲とする適当に選択されたモノマー性および／またはポリマー性染料を使用することに基づく。屈折率は、異常分散を介して、すなわち底部膜の吸収に起因する屈折率の実数部の変化を適用することにより影響を受ける。 （もっと読む）

【課題】 溶解性、安定性に優れ、基板下地やポリシラザンの特性に影響を与えず、エッジカット形状にも優れ、さらに人体に対する安全性も高い処理溶剤の提供。
【解決手段】 テトラリン、ｐ−メンタン、ｐ−シメン、α−ピネン、１，８−シネオール、およびそれらの混合物からなる群から選ばれる溶剤を含むポリシラザン処理溶剤と、それを用いたポリシラザン処理方法。この溶剤は、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、およびそれらの混合物からなる群から選ばれる溶剤をさらに含むこともできる。 （もっと読む）

【課題】 高剛性、且つ高流動性を有し、更に成形体表面の剥離が少なく外観にも優れ、自動車用機構部品や電気・電子製品用機構部品に好適に用いられる熱可塑性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 ポリベンズイミダゾール樹脂単独あるいはポリベンズイミダゾール樹脂70〜20重量％及びポリエーテルケトン樹脂30〜80重量％からなる混合熱可塑性樹脂(A) 100重量部に対して、構成するモノマーとして４−アミノフェノール、１，４−フェニレンジアミン、４−アミノ安息香酸及びこれらの誘導体の１種又は２種以上を含み、且つアミド成分が全結合中に３〜35モル％の割合で含まれる液晶性ポリエステルアミド樹脂(B) ５〜100重量部を配合する。
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【課題】 優れた機械的強度を備え、かつ非常に低い誘電率を安定的に示し、各種の薬剤に対する耐薬品性を兼ね備えた多孔質シリカ質膜を製造することができるコーティング組成物とそれを用いたシリカ質材料の製造法の提供。
【解決手段】 ポリアルキルシラザン化合物、シロキシ基含有重合体、および有機溶媒を含んでなるコーティング組成物、そのコーティング組成物を焼成することにより得られたシリカ質材料、ならびにその製造法。 （もっと読む）